【真空鍍膜之磁控濺射】在陰極靶表面形成一正交電磁場,在此區電子密度高,進而提高離子密度,使得濺鍍率提高(一個數量級),濺射速度可達0.1—1um/min膜層附著力較蒸鍍佳,是目前實用的鍍膜技術之一。其它有偏壓濺射、反應濺射、離子束濺射等鍍膜技術濺鍍機設備與工藝濺鍍機由真空室,排氣系統,濺射源和控制系統組成。濺射源又分為電源和濺射qiang(sputtergun)。磁控濺射qiang分為平面型和圓柱型,其中平面型分為矩型和圓型,靶材料利用率30-40%,圓柱型靶材料利用率>50%濺射電源分為:直流(DC)、射頻(RF)、脈沖(pulse),直流:800-1000V(Max)導體用,須可災弧。射頻:13.56MHZ,非導體用。脈沖:泛用,新發展出真空鍍膜機國內有哪些產商?成都離子束輔助沉積射頻離子源多少錢
【真空鍍膜之水轉印】水轉印是利用水壓將轉印紙上的彩色紋樣印刷在三維產品表面的一種方式。隨著人們對產品包裝與表面裝飾要求的提高,水轉印的用途越來越廣fan。適用材料:所有的硬材料都適合水轉印,適合噴涂的材料也一定適用于水轉印。常見的為注塑件和金屬件。工藝成本:無模具費用,但需要利用夾具將多件產品同時進行水轉印,時間成本一般每周期不會超過10分鐘。環境影響:和產品噴涂比較而言,水轉印更充分的應用了印刷涂料,減少了廢料泄漏和材料浪費的可能。上海離子束刻蝕射頻離子源制造生產廠家射頻離子源可用于航空航天領域,如推進系統、導航系統等。
直流電源電壓紋波做了二次濾波處理,高壓輸出的紋波小于50mV,離子源束流的穩定性和重復性較好,鍍膜的產品的折射率更穩定。國泰真空射頻離子源采用通用的LC高頻諧振原理,使用可調電容快速調諧,使整個負載阻抗匹配到50?,從而使功率輸出比較大,電離化效率比較高,調諧馬達采用步進電機轉位+編碼器快速定位,并帶鎖止和記憶功能,以滿足負載在不同的真空環境、不同國泰射頻離子源采用通用的LC高頻諧振原理,使用可調電容快速調諧,使整個負載阻抗匹配到50?,從而使功率輸出比較大,電離化效率比較高,調諧馬達采用步進電機轉位+編碼器快速定位,并帶鎖止和記憶功能,以滿足負載在不同的真空環境、不同阻抗快速點火。
【真空鍍膜機詳細資料】系統概述真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。常用于對半導體、光伏、電子、精密光學等行業的納米級表面處理。系統原理通過電子槍發射高壓電子轟擊坩堝中的待鍍靶材,使其在高真空下蒸發并沉積在被鍍基片上以獲得鍍膜。系統配置*自動化控制器:e-ControlPLC,是控制系統的硬件平臺。人機界面硬件:TPC1503工業級15寸觸摸式平板電腦,穩定可靠。人機界面軟件:NETSCADA組態軟件開發平臺,提供真空鍍膜機的控制和監視。紅外真空鍍膜機制造商。
【真空鍍膜設備的維修及保養方法】1.真空鍍膜設備每完成200個鍍膜程序以上,應清潔工作室一次。方法:用燒堿(NaOH)飽和溶液反復擦洗真空室內壁,(注意人體皮膚不可以直接接觸燒堿溶液,以免灼傷)目的是使鍍上去的膜料鋁(AL)與NaOH發生反應,反應后膜層脫落,并釋放出氫氣。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽閥內的污垢。2.當粗抽泵(滑閥泵,旋片泵)連續工作一個月(雨季減半),需更換新油。方法:擰開放油螺栓,放掉舊油,再將泵啟動數秒,使泵內的舊油完全排放出來。擰回放油螺栓,加入新油至額定量(油視鏡觀察)。連續使用半年以上,換油時應將油蓋打開,用布擦干凈箱內污垢。3.在重新開機前,要注意檢漏。方法:啟動維持泵,關好da門,數分鐘后,觀察擴散泵部分真空度是否達到6X10帕,否則要進行檢漏。檢查聯接處是否裝密封膠圈,或壓壞密封圈。排除漏氣隱患后方可加熱,否則擴散泵油會燒環,真空鍍膜設備無法進入工作狀態。真空鍍膜機公司的排名。上海離子束刻蝕射頻離子源生產廠家
成都真空鍍膜機的生產廠家。成都離子束輔助沉積射頻離子源多少錢
【真空鍍膜設備撿漏需注意】真空鍍膜設備檢漏是保證真空鍍膜設備真空度的一項檢查措施,簡稱檢漏,真空度的高低是直接影響到鍍膜效果的,所以檢漏是必不可少的。一、要確認漏氣到底的虛漏還是實漏。因為工件材料加熱后都會在不同程度上產生氣體,有可能誤以為是從外部流進的氣體,這就是虛漏,要排除這種情況。二、測試好真空室的氣體密封性能。確保氣密性能符合要求。三、檢查漏孔的da小,形狀、位置,漏氣的速度,制備出可解決方案并實施。四、確定檢測儀器的小可檢漏率和檢漏靈敏性,以da范圍的檢測出漏氣情況,避免一些漏孔被忽略,提高檢漏的準確性。五、把握檢漏儀器的反應時間和消除時間。把時間掌握好,保證檢漏儀器工作到位,時間少了,檢漏效果肯定差,時間長了,浪費檢漏氣體和人工電費。六、還要避免漏孔堵塞。有時由于操作失誤,檢漏過程中,一些灰塵或液體等把漏孔堵塞了,以為在該位置沒有漏孔,但當這些堵塞物由于內外壓強差異提高或其他原因使漏孔不堵了,那漏氣還是存在的。為真空鍍膜設備做好檢漏工作是很重要的,造成真空度下降的原因多種多樣,我們要一一的解決這些原因,穩定鍍膜的效果。成都離子束輔助沉積射頻離子源多少錢