【真空鍍膜機之卷繞式鍍膜機】鍍膜產品廣fan用于裝飾、包裝、電容器等領域中，可鍍光學、電學、電磁、導電等多種薄膜。所用基材有PE、PET、PI、PP、OPP、BOPP、紙、泡沫塑料及布等。一般塑料基薄膜材料含水量為1%～2%，紙含水量更da，一般為5%-7%，經涂布烘干后，含水量仍有3%。由于基材含水量高，故鍍膜室由初始的單室發展到目前雙室或多室結構。蒸發源可以是電阻式、感應式、電子柬式以及磁控濺射式。雙室結構應用普遍，其優點是：①可以蒸鍍放氣量較da的紙基材，并能保障鍍膜質量。紙放出的da量氣體從卷繞室中被排走。由于卷繞室與蒸鍍室之間隔板窄縫很小，使放出來的氣體不易進入蒸鍍室中；②單室結構必須配置較da的排氣系統才能保障蒸鍍時的工作壓力，而雙室結構中的蒸鍍室氣體量較小，可配小型抽氣機組，使設備成本降低，并節約能源；③卷繞室與蒸鍍室分別抽氣，可縮短抽氣時間。卷繞式真空鍍膜機在結構上除了有一般鍍膜機所有的結構外，必須有一個為了實現連續鍍膜而設置的卷繞機構。由于被鍍基體是紙或塑料，放氣量較da，因此，在真空室的結構上又有單室和多室之分。真空鍍膜機類型推薦。北京真空鍍膜卷繞真空鍍膜專業生產

【真空鍍膜之磁控濺射】在陰極靶表面形成一正交電磁場，在此區電子密度高，進而提高離子密度，使得濺鍍率提高(一個數量級)，濺射速度可達0.1—1um/min膜層附著力較蒸鍍佳，是目前實用的鍍膜技術之一。其它有偏壓濺射、反應濺射、離子束濺射等鍍膜技術濺鍍機設備與工藝濺鍍機由真空室，排氣系統，濺射源和控制系統組成。濺射源又分為電源和濺射qiang（sputtergun）。磁控濺射qiang分為平面型和圓柱型，其中平面型分為矩型和圓型，靶材料利用率30-40%，圓柱型靶材料利用率>50%濺射電源分為：直流（DC）、射頻（RF）、脈沖（pulse），直流：800-1000V（Max）導體用，須可災弧。射頻：13.56MHZ，非導體用。脈沖：泛用，新發展出廣東真空鍍膜卷繞真空鍍膜專業生產該技術可以使用多種材料進行鍍膜，如金屬、氧化物、氮化物、碳化物等，可以根據客戶需求進行定制。

【不同類型鍍膜機應用范圍介紹】不同類型鍍膜機的適用范圍介紹1.磁控濺射鍍膜設備：應用于信息存儲領域，如磁信息存儲、磁光信息存儲等2.磁控濺射鍍膜機：應用于防護涂層，如飛機發動機的葉片、汽車鋼板、散熱片等3.磁控濺射鍍Al膜生產線：應用于太陽能利用領域，如太陽能集熱管、太陽能電池等4.AZO透明導電膜磁控濺射鍍膜生產線：應用于信息顯示領域，如液晶屏、等離子屏等5.觸摸屏連續式鍍膜生產線：應用于觸摸屏領域，如手機、電腦、MP4等數碼產品屏幕等。6.磁控中頻多弧離子鍍膜設備：應用于硬質涂層，如切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。7.PECVD磁控生產線：應用于集成電路制造，如薄膜電阻器、薄膜電容器、薄膜溫度傳感器等。8.蒸發式真空鍍膜設備：應用于在裝飾飾品上，如手機殼、表殼、眼鏡架、五金、小飾品等鍍膜。9.低輻射玻璃鍍膜生產線：應用于建筑玻璃方面，如陽光控制膜、低輻射玻璃、防霧防露和自清潔玻璃等。10.抗反射導電膜連續磁控濺射生產線：應用于電子產品領域，如液晶顯示器、液晶電視、MP4、車載顯示、手機顯示、數碼相機和掌上電腦等。

【真空鍍膜機之真空泵的安裝和指導】真空泵安裝指導1、泵應安裝在地面結實堅固的場所，周圍應留有充分的余地，便于檢查、維護、保養。2、泵底座下應保持地基水平，底座四角處建議墊減震橡皮或用螺栓澆制安裝，確保泵運轉平穩，振動小。3、泵與系統的連接管道應密封可靠，對小泵可采用金屬管路連接密封墊采用耐油橡膠，對小泵可采用真空膠管連接，管道管徑不得小于泵吸氣口徑，且要求管路短而少彎頭。（焊接管路時應qing除管道中焊渣，嚴禁焊渣進入泵腔。）4、在連接管路中，用戶可在泵進氣口上方安裝閥門及真空計，隨時可檢查泵的極限壓力。5、按電動機標牌規定連接電源，并接地線和安裝合適規格的熔斷器及熱繼電器。6、泵通電試運轉時，須取下電機皮帶，確認泵轉向符合規定方向方可投入使用，以防泵反轉噴油。（轉向按防護罩指示方向）7、對于有冷卻水的泵，按規定接通冷卻水。8、如泵口安裝電磁閥時，閥與泵應同時動作。9、當泵排出氣體影響工作環境時，可在排氣口裝接管道引離或裝接油霧過濾器。國產真空鍍膜機廠商推薦。

【真空鍍膜機概述】：真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空電阻加熱蒸發，電子搶加熱蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積，離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。真空鍍膜機構造的五da系統：排氣系統、控制系統、蒸鍍系統、監控系統、輔助系統。真空鍍膜三要素：真空度、抽氣時間、溫度；任何鍍膜工藝都需要為這三個要素設定目標值；因此，只有當三個條件同時滿足時，自動化程序才會自動運行。真空鍍膜機需要做定期定期保養，目的在于：讓鍍膜機能長時間地正常運轉；降低故障時間，避免影響產能，減少損失；提高機器精度，穩定品質；加快抽氣速度，提升機器利用率等。真空鍍膜機真空度多少？安徽光學鍍膜卷繞真空鍍膜源頭實力廠家

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【真空鍍膜之離子束濺射鍍膜】離子束濺射沉積法在離子源內由惰性氣體(通常為氬)產生具有較高能量的離子轟擊靶材料，把靶材料沉積到基片上的方法。離子束濺射沉積法的一da優點是基片相對于離子源和靶是du立的，它的溫度可以單獨控制。基片通常接地位，它和靶與高頻電路無關，不會象陰極濺射鍍膜那樣受到高能電子的轟擊，因而溫度較低。所以只要配置一臺較好的恒溫循環器(如HX1050型，控溫范圍為-10℃~50℃，精度≤0。5℃)，實現對樣品臺的單獨控溫，就可以根據不同樣品的要求以及薄膜生長不同階段的溫度需要進行適當調節。根據現有離子束濺射設備的構造，設計、加工了專門的金屬樣品架，放上樣品后蓋上金屬壓片，用螺絲緊密地固定在鍍膜腔體的樣品臺上，可使樣品和控溫的樣品臺有良好的熱接觸。并在樣品架中放置了一個測溫鉑電阻，用螺絲把金屬壓片連同其下的鉑電阻一起固定壓緊，再用導線引出與高精度的萬用表相連，以監測薄膜生長過程中的樣品溫度。北京真空鍍膜卷繞真空鍍膜專業生產