【真空鍍膜電阻加熱蒸發法】： 電阻加熱蒸發法就是采用鎢、鉬等高熔點金屬，做成適當形狀的蒸發源，其上裝入待蒸發材料，讓電流通過，對蒸發材料進行直接加熱蒸發，或者把待蒸發材料放入坩鍋中進行間接加熱蒸發。利用電阻加熱器加熱蒸發的鍍膜設備構造簡單、造價便宜、使用可靠，可用于熔點不太高的材料的蒸發鍍膜，尤其適用于對膜層質量要求不太高的大批量的生產中。目前在鍍鋁制品的生產中仍然大量使用著電阻加熱蒸發的工藝。電阻加熱方式的缺點是：加熱所能達到的Zui高溫度有限，加熱器的壽命也較短。近年來，為了提高加熱器的壽命，國內外已采用壽命較長的氮化硼合成的導電陶瓷材料作為加熱器。 真空鍍膜設備品牌有很多，你如何選擇？江蘇珠寶首飾真空鍍膜設備

【真空鍍膜產品常見不良分析及改善對策之膜內色斑】： 色斑（也稱膜色亞克、燒蝕）是指鏡片上的膜色局部變異。有膜內色斑和膜外色斑二種。 膜內色斑改善對策： 1. 加快研磨（拋光）到鍍膜的周期，減少鏡片被污染服飾的幾率，注意：是鏡片的全部拋光面。 2. 拋光加工中，注意對另一已拋好光的面保護 3. 注意拋光加工中的工裝、夾具、加工方法，以免造成對鏡片表面局部腐蝕傷害 4. 拋光加工完成的光面，必須立即清潔干凈，不能有拋光粉或其他雜志附著干結。 5. 控制研磨拋光液的PH值 6. 鍍膜前，用拋光粉或碳酸鈣粉對鏡片拋光面復新。 7. 加強鍍前的離子轟擊 8. 對于可見光區減反膜，在滿足技術要求的前提下設計制作成單峰形，反射色呈淡綠色，掩蓋色斑。 9. 對于化學性能較好的鏡片，在清洗前先用退膜液或稀酸液侵泡去除腐蝕斑 10. 選擇合適的膜層匹配對色斑改善也有幫助 11. 提高基片鍍制時的溫度，加快水汽的徹底揮發。 12. 第yi層鍍上Al2O3膜層一般會有好的改善效果。 四川真空鍍膜設備真空鍍膜設備培訓資料。

【真空鍍膜改善外層膜表面硬度】： 減反膜一般外層選用MgF2,該層剖面是較為松散的柱狀結構，表面硬度不高，容易擦拭出道子。改善外層表面硬度的方法包括： 1. 在膜系設計允許的條件下，膜外層加10nm左右的二氧化硅膜層，二氧化硅的表面光滑度優于氟化鎂（但二氧化硅表面耐磨度、硬度不如氟化鎂）。鍍膜后離子轟擊幾分鐘，牢固度效果會更好。（但表面會變粗） 2. 鏡片取出真空室后，放置在較為干燥潔凈的地方，防止鏡片快速吸潮，表面硬度降低。

【離子鍍膜法介紹】： 離子鍍膜技術是在真空條件下，應用氣體放電實現鍍膜的，即在真空室中使氣體或蒸發物質電離，在氣體離子或被蒸發物質離子的轟擊下、同時將蒸發物或其反應產物蒸鍍在基片上。根據不同膜材的氣化方式和離化方式可分為不同類型的離子鍍膜方式。膜材的氣化方式有電阻加熱、電子束加熱、等離子電子束加熱、高頻感應加熱、陰極弧光放電加熱等。氣體分子或原子的離化和激huo方式有：輝光放電型、電子束型、熱電子型、等離子電子束型、多弧型及高真空電弧放電型，以及各種形式的離子源等。不同的蒸發源與不同的電離或激發方式可以有多種不同的組合。常用的組合方式有：直流二極型(DCIP)、多陰極型、活性反應蒸鍍法(ABE)、空心陰極離子鍍(HCD)、射頻離子鍍(RFIP)等。 真空鍍膜設備為什么會越來越慢？

【為什么要在真空中鍍膜】： 1.鍍的過程中不會受空氣分子碰撞,有較大的動量到達待鍍件表面 2.防止氣體“污染”.如：鍍金屬膜時可以防止氧化 3.成膜過程不受氣體影響,致密牢固 4.真空（負壓）狀態下,鍍膜材料的熔點教常壓下低,易于融化蒸發（對于蒸發類型的鍍膜） 真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表面工程技術領域的重要組成部分。真空鍍膜技術是利用物理、化學手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、導電、導磁、絕緣和裝飾等許多優于固體材料本身的優越性能，達到提高產品質量、延長產品壽命、節約能源和獲得明顯技術經濟效益的作用。因此真空鍍膜技術被譽為Zui具發展前途的重要技術之一，并已在高技術產業化的發展中展現出誘人的市場前景。這種新興的真空鍍膜技術已在國民經濟各個領域得到應用，如航空、航天、電子、信息、機械、石油、化工、環保、Jun事等領域。 紅外真空鍍膜設備制造商。中國臺灣真空鍍膜設備市場

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【真空鍍膜設備之渦輪分子泵】： 渦輪分子泵：渦輪分子泵是利用高速旋轉的動葉輪將動量傳給氣體分子，使氣體產生定向流動而抽氣的真空泵。主要用于高真空或超高真空，屬于干泵，極限真空10&7~10&8Torr，烘烤后可到10&10Torr，抽速可從50L/S~3500L/S。分子泵是靠高速轉動的渦輪轉子攜帶氣體分子而獲得高真空、超高真空的一種機械真空泵。泵的轉速為10000轉/分到50000轉/分，這種泵的抽速范圍很寬，但不能直接對大氣排氣，需要配置前級泵。分子泵抽速與被抽氣體的種類有關，如對氫的抽速比對空氣的抽速大20%。 江蘇珠寶首飾真空鍍膜設備

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