【光學(xué)薄膜的研究新進(jìn)展之金剛石薄膜及類(lèi)金剛石薄膜】金剛石被認(rèn)為是自然界中*硬的物質(zhì)。在自然界中,碳以3種同位素異型體的形式存在,非晶態(tài)的炭黑、六方片狀結(jié)構(gòu)的石墨和立方體的金剛石。金剛石薄膜具有高硬度、高密度、熱導(dǎo)率高、全波段透光率高、高絕緣、抗輻射、化學(xué)惰性強(qiáng)和耐高溫、彈性模量大,摩擦系數(shù)jin為0.05。金剛石薄膜的高熱導(dǎo)率、高摩擦系數(shù)和良好的透光性也使其常作為導(dǎo)彈的整流罩材料。 類(lèi)金剛石(diamond-likecarbon,DLC)薄膜是碳的一種非晶態(tài),它含有大量的sp3鍵,硬度超過(guò)金剛石硬度20%的絕緣硬質(zhì)無(wú)定形碳膜,被稱(chēng)為類(lèi)金剛石膜,類(lèi)金剛石膜具有高硬度、高電阻率、熱傳導(dǎo)率高、化學(xué)惰性強(qiáng)、良好的光學(xué)性能等,同時(shí)又具有自身獨(dú)特摩擦學(xué)特性的非晶碳膜。隨著人們研究的深入,人們發(fā)現(xiàn)類(lèi)金剛石膜具有很大的研究?jī)r(jià)值和廣fan的應(yīng)用前景,引起學(xué)術(shù)界極大興趣。美國(guó)已經(jīng)將類(lèi)金剛石薄膜材料作為國(guó)家21世紀(jì)的戰(zhàn)略材料之一。 光學(xué)鍍膜機(jī)真空四個(gè)階段。山西光學(xué)鍍膜機(jī)開(kāi)發(fā)
【新型光學(xué)薄膜的典型應(yīng)用】現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)特別是激光技術(shù)和信息光學(xué)的發(fā)展,光學(xué)薄膜不jin用于純光學(xué)器件,在光電器件、光通信器件上也得到廣fan的應(yīng)用。近代信息光學(xué)、光電子技術(shù)及光子技術(shù)的發(fā)展,對(duì)光學(xué)薄膜產(chǎn)品的長(zhǎng)壽命、高可靠性及高qiang度的要求越來(lái)越高,從而發(fā)展了一系列新型光學(xué)薄膜及其制備技術(shù),并為解決光學(xué)薄膜產(chǎn)業(yè)化面臨的問(wèn)題提供了quan面的解決方案。包括高qiang度激光器、金剛石及類(lèi)金剛石膜、軟X射線多層膜、太陽(yáng)能選擇性吸收膜和光通信用光學(xué)膜等。四川光學(xué)鍍膜機(jī)的真空捕集泵作用關(guān)于光學(xué)鍍膜機(jī),你知道多少?
【光學(xué)鍍膜機(jī)的維護(hù)與保養(yǎng)之電子qiang安裝與維護(hù)】電子qiang蒸發(fā)源控制系統(tǒng)是由電子qiang燈絲電源、高壓電源、掃描電源、坩堝驅(qū)動(dòng)電源、蒸發(fā)源等組成一個(gè)電子qiang控制電柜。 電子qiang控制電柜內(nèi)含有高壓,在工作前必須保證柜門(mén)各個(gè)聯(lián)鎖裝置正常工作,非專(zhuān)業(yè)人員不得打開(kāi)電柜門(mén),電子qiang在工作時(shí)不得打開(kāi)電柜門(mén),整個(gè)電柜必須有良好的接地并與機(jī)臺(tái)接地連接。 電子qiang蒸發(fā)源安裝在真空室底板上,必須與底板有良好的接地效果,安裝蒸發(fā)源必須使用不銹鋼螺絲來(lái)固定,周邊200mm以?xún)?nèi)不得有導(dǎo)磁的物體,否則會(huì)影響到電子qiang的光斑成表,造成電子性能的不良。電子qiang檔板應(yīng)盡量裝在蒸發(fā)源坩堝的中心上30mm處,以不影響電子束的發(fā)射為好。 電子qiang蒸發(fā)源是一個(gè)精密機(jī)械加工體,在工作時(shí)必須保證有良好的冷卻水,如過(guò)高的溫度會(huì)影響電子束的成型及各密封圈的性能。
【光學(xué)真空鍍膜之電子qiang蒸鍍系統(tǒng)注意事項(xiàng)】 光學(xué)真空鍍膜機(jī)電子qiang蒸鍍法比傳統(tǒng)熱電阻式加熱法的熱轉(zhuǎn)換效率高而秏能少,對(duì)蒸鍍材料的選擇方面受限較少。以純?cè)刂翦兌?電阻式蒸鍍受限于加熱溫度,多半只從事鋁、鉻、金、銀等少數(shù)幾種薄膜,電子束蒸鍍則可制鍍高熔點(diǎn)材料如鎢、鉬等金屬和活性甚強(qiáng)的鈦、鈮等金屬,即便是很難使用濺鍍技術(shù)制備的磁性材料如鐵、鈷、鎳等金屬,亦能夠蒸鍍出品質(zhì)良好的薄膜。為了顧及薄膜純度,在操作技巧上純?cè)刂翦兺ǔ2扇「哒婵斩扰c高蒸鍍速率的鍍膜條件。化合物材料如氧化物、硫化物、氮化物及氟化物等皆可使用電子qiang蒸鍍方式,部份材料在被電子束加熱蒸發(fā)過(guò)程中會(huì)因高熱而發(fā)生解離現(xiàn)象,這也是蒸鍍法的主要缺點(diǎn),通常是采用反應(yīng)式蒸鍍方式解決,為了確保薄膜形成時(shí)缺乏的部份能利用基板高溫在反應(yīng)過(guò)程將其補(bǔ)足,在操作上鍍膜速率必須適切地降低。部分屬于絕緣性的化合物在連續(xù)被電子轟擊時(shí)會(huì)有負(fù)電荷累積問(wèn)題,使得后續(xù)電子受負(fù)電位排斥而無(wú)法完全抵達(dá)待鍍材料表面,因此坩堝座在電路設(shè)計(jì)上是使其呈接地電位,以協(xié)助累積之負(fù)電荷順利導(dǎo)出,這在小型坩堝是相當(dāng)有效,但對(duì)大型坩堝則很難避免有些許鍍膜速率不穩(wěn)定情形。 光學(xué)鍍膜機(jī)廠家排名。
【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之固體噴涂法】噴涂鍍膜技術(shù)是將一種或多種反應(yīng)氣體或有機(jī)金屬鹽化合物溶液的霧化顆粒或有機(jī)金屬鹽粉末噴涂于熱玻璃表面而熱分解成膜的工藝方法。固體粉末噴涂法*初是由美國(guó)Ford汽車(chē)公司于20世紀(jì)80年代初應(yīng)用于浮法生產(chǎn)線上的一種鍍膜方法。 固體粉末噴涂法的鍍膜區(qū)一般設(shè)置在浮法玻璃生產(chǎn)線的過(guò)渡輾臺(tái)之后、退火窯之前的位置,也就是我們通常所說(shuō)的退火窯A0區(qū)。其基本原理是將一種或多種組分的有機(jī)金屬鹽粉末,借助壓縮氣載體通過(guò)特制噴qiang噴涂于熱玻璃表面,利用有機(jī)金屬鹽的高溫?zé)岱纸猓诓AП砻嫘纬梢粚咏饘傺趸锉∧ぃ磻?yīng)廢氣、未反應(yīng)的固體粉末以及參與反應(yīng)但并未在玻璃表面成膜的物質(zhì)經(jīng)收塵設(shè)備及時(shí)排出窯外,以保持玻璃表面和窯內(nèi)的清潔。鍍膜機(jī)組設(shè)備主要由伺服往復(fù)式自動(dòng)噴涂機(jī)、送料機(jī)、振動(dòng)喂料機(jī)、收塵系統(tǒng)構(gòu)成。其中,伺服往復(fù)式自動(dòng)噴涂機(jī)上安裝有噴qiang,噴qiang是將固體粉料噴涂于熱玻璃表面而成膜的重要裝置,其噴qiang結(jié)構(gòu)、重量、噴涂角度等因素對(duì)噴涂效果能夠產(chǎn)生很大影響。 光學(xué)鍍膜機(jī)的工作原理和構(gòu)成。山西光學(xué)鍍膜機(jī)開(kāi)發(fā)
光學(xué)鍍膜機(jī)的工作原理。山西光學(xué)鍍膜機(jī)開(kāi)發(fā)
【光學(xué)鍍膜之何為物理蒸鍍】物理蒸鍍就是把物質(zhì)加熱揮發(fā),然后將其蒸氣沉積在預(yù)定的基材上。由于蒸發(fā)源須加熱揮發(fā),又是在真空中進(jìn)行,故亦稱(chēng)為熱蒸鍍或真空蒸鍍。 其可分為三個(gè)步驟 (1)凝態(tài)的物質(zhì)被加熱揮發(fā)成汽相 (2)蒸汽在具空中移動(dòng)一段距離至基材 (3)蒸汽在基材上冷卻凝結(jié)成薄膜 膜厚的量測(cè)方法有哪些呢, 大致上可分為原位量測(cè)、離位量測(cè)兩類(lèi):原位星測(cè)系指鍍膜進(jìn)行中量測(cè),普遍使用在物理qi相沉積,如微天平、光學(xué)、電阻量測(cè)。 離位量測(cè)系指鍍膜完成后量測(cè),對(duì)電鍍膜的行使較為普遍,具有了解電鍍效率的目的,如質(zhì)量、剖面計(jì)、掃描式電子顯微鏡。 山西光學(xué)鍍膜機(jī)開(kāi)發(fā)
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