【真空鍍膜真空蒸發鍍膜原理】: 真空蒸發法的原理是：在真空條件下，用蒸發源加熱蒸發材料，使之蒸發或升華進入氣相，氣相粒子流直接射向基片上沉積或結晶形成固態薄膜；由于環境是真空，因此，無論是金屬還是非金屬，在這種情況下蒸發要比常壓下容易得多。真空蒸發鍍膜是發展較早的鍍膜技術，其特點是：設備相對簡單，沉積速率快，膜層純度高，制膜材料及被鍍件材料范圍很廣，鍍膜過程可以實現連續化，應用相當guang泛。按蒸發源的不同，主要分為：電阻加熱蒸發、電子束蒸發、電弧蒸發和激光蒸發等。 真空鍍膜設備品牌有很多，你如何選擇？四川真空鍍膜設備質量

【真空鍍膜設備之渦輪分子泵】： 渦輪分子泵：渦輪分子泵是利用高速旋轉的動葉輪將動量傳給氣體分子，使氣體產生定向流動而抽氣的真空泵。主要用于高真空或超高真空，屬于干泵，極限真空10&7~10&8Torr，烘烤后可到10&10Torr，抽速可從50L/S~3500L/S。分子泵是靠高速轉動的渦輪轉子攜帶氣體分子而獲得高真空、超高真空的一種機械真空泵。泵的轉速為10000轉/分到50000轉/分，這種泵的抽速范圍很寬，但不能直接對大氣排氣，需要配置前級泵。分子泵抽速與被抽氣體的種類有關，如對氫的抽速比對空氣的抽速大20%。 四川真空鍍膜設備質量關于真空鍍膜設備，你知道多少？

【光譜分光不良的補救（補色）之停電】： 分光不良分為二種情況：一是全部膜系鍍制完成后，經測試分光不良，此類不良主要按六節所述方法處理，一般減反膜難以補救。但對于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補救。二是鍍制中途中斷（包括發現錯誤中斷）造成的分光不良，一般都可以通過后續努力補救。后續方法正確，補救成功率比較高。 中斷的原因形式之停電： 對于停電這種情況，比較好處理，只要確認前面鍍的沒錯，程序沒有用錯，就可以繼續原來的程序，要注意的是：如果某一層鍍了一部分繼續鍍下去時，交接處要減少一些膜厚（根據膜料、蒸發速率決定減少多少，一般時0.2~1nm左右），如果該層剩下的膜厚不足15~20秒蒸鍍時，要考慮降低蒸發速率或干脆不讀，通過后續層調整膜厚解決。

【光譜分光不良的補救（補色）之機器故障和人為中斷】： 分光不良分為二種情況：一是全部膜系鍍制完成后，經測試分光不良，此類不良主要按六節所述方法處理，一般減反膜難以補救。但對于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補救。二是鍍制中途中斷（包括發現錯誤中斷）造成的分光不良，一般都可以通過后續努力補救。后續方法正確，補救成功率比較高。 中斷的原因形式之機器故障和人為中斷： 模擬：根據已經實鍍的鏡片（測試比較片）實測分光數據輸入計算機膜系設計程序的優化目標值，再根據已經掌握的膜系信息輸入，采用倒推法逐層優化，模擬出實際鍍制的膜系數據。 *測試比較片是指隨鏡片一起鍍制（在傘片上、與鏡片同折射率），用于測試鍍后分光曲線的平片。 優化：再鎖定通過模擬得到的膜系數據，通過后續層膜厚優化找到實現目標的Zui佳方案。 試鍍：根據新優化的后續膜層數據，試鍍若干鏡片或測試片，確認補色膜系的可行性。 補色鍍：對試鍍情況確認后實施補色鍍。補色鍍前，確認基片是否潔凈，防止產生其他不良。 真空鍍膜設備操作視頻。

【真空鍍膜產品常見不良分析及改善對策之膜外色斑】： 色斑（也稱膜色亞克、燒蝕）是指鏡片上的膜色局部變異。有膜內色斑和膜外色斑二種。 膜外色斑改善對策： 1. 對減反膜，設計條件許可時，外層加以SiO2層，10nm左右即可（一般的外層膜是MgF2）。使外層趨于光滑、致密、減少有害物質的侵蝕。 2. 適當降低蒸鍍速率（在一定范圍內），提高膜層光滑度，減少吸附。 3. 鏡片在出罩后，待冷卻后再下傘和擦拭。 4. 鏡片在出罩后，放置在潔凈干燥的場合待冷卻。減少污染可能。 5. 用碳酸鈣粉，輕擦去除外層附著物。 6. 改善工作環境的濕度、溫差 7. 改善充氣口附近的環境，使充入的大氣干燥、潔凈。 8. 工作人員的個人衛生改善 9. 檢討真空室返油狀況，防止返油。 10. 適當降低基片溫度。 11. 改善膜系，取消太薄的膜層，根據硝材特性，選擇合適的膜層材料。 離子真空鍍膜設備是什么？陜西真空鍍膜設備國家標準

真空鍍膜設備操作培訓。四川真空鍍膜設備質量

【真空鍍膜磁控濺射法】： 濺射鍍膜Zui初出現的是簡單的直流二極濺射，它的優點是裝置簡單，但是直流二極濺射沉積速率低；為了保持自持放電，不能在低氣壓(<0．1 Pa)下進行；不能濺射絕緣材料等缺點限制了其應用。 磁控濺射是由二極濺射基礎上發展而來，在靶材表面建立與電場正交磁場，解決了二極濺射沉積速率低，等離子體離化率低等問題，成為目前鍍膜工業主要方法之一。磁控濺射與其它鍍膜技術相比具有如下特點：可制備成靶的材料廣，幾乎所有金屬，合金和陶瓷材料都可以制成靶材；在適當條件下多元靶材共濺射方式，可沉積配比精確恒定的合金；在濺射的放電氣氛中加入氧、氮或其它活性氣體，可沉積形成靶材物質與氣體分子的化合物薄膜；通過精確地控制濺射鍍膜過程，容易獲得均勻的高精度的膜厚；通過離子濺射靶材料物質由固態直接轉變為等離子態，濺射靶的安裝不受限制，適合于大容積鍍膜室多靶布置設計；濺射鍍膜速度快，膜層致密，附著性好等特點，很適合于大批量，高效率工業生產。近年來磁控濺射技術發展很快，具有代表性的方法有射頻濺射、反應磁控濺射、非平衡磁控濺射、脈沖磁控濺射、高速濺射等。 四川真空鍍膜設備質量

成都國泰真空設備有限公司總部位于成都海峽兩岸科技產業開發園科林西路618號，是一家一般項目：泵及真空設備制造‘泵及真空設備銷售；機械設備銷售；機械零件、零部件銷售；光學儀器銷售；光學玻璃銷售；功能玻璃和新型光學材料銷售；電子元器件批發；技術服務、技術開發、技術咨詢、技術交流、技術轉讓、技術推廣。的公司。國泰真空深耕行業多年，始終以客戶的需求為向導，為客戶提供高品質的光學鍍膜設備，真空鍍膜設備，光學真空鍍膜機，紅外鍍膜設備。國泰真空不斷開拓創新，追求出色，以技術為先導，以產品為平臺，以應用為重點，以服務為保證，不斷為客戶創造更高價值，提供更優服務。國泰真空始終關注機械及行業設備市場，以敏銳的市場洞察力，實現與客戶的成長共贏。