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來源: 發布時間:2023-02-15

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為了解決上述技術問題,本發明采用以下技術方案: 一種PCB酸性蝕刻液提取銅的方法,包括以下步驟:將使用過的酸性蝕刻液收集到廢液池中,送入離子膜電解室;使低ORP的酸性蝕刻液從離子膜電解槽陽極低位進入,當ORP升高時,高ORP的酸性蝕刻液再經陽極區高位流出;高含銅量的蝕刻液從離子膜電解槽陰極區低位進入,蝕刻廢液在電解作用下還原出銅單質,降低銅離子含量之后的蝕刻液從陰極高位流出,經再生調配室調配后繼續用于蝕刻,蝕刻產生的廢液收集到廢液池中進行循環處理;電解室電解過程中的鹽酸揮發進入中和室進行中和反應;對銅單質進行水洗烘干,即可得到提取的銅。江蘇哪些新型BOE蝕刻液溶劑蘇州博洋化學股份有限公司用真誠對待每一位顧客。

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銅酸蝕刻液是半導體和顯示技術中一類重要的原材料。半導體、薄膜晶體管液晶顯示器),有機發光半導體)等微電路原件首先由銅、鉬或其合金在玻璃基板或者絕緣層上形成一定厚度的膜層,再用光刻膠形成圖案,然后用銅酸蝕刻液將圖案外的金屬蝕刻掉,再用去光阻液將光刻膠去掉,以進行金屬膜層的圖案化,形成電極電路。隨著顯示器的大型化以及畫質高清化,需要電阻率更低的金屬來做電子傳輸導線,目前銅金屬可以滿足電導率高、價格相對較低等要求,但由于其與玻璃基板的粘附性較差以及銅元素易于向氧硅或者氮硅膜內進行擴散,所以會在其與玻璃之間加一層很薄的緩沖層,一般選用鉬或者鉬合金。

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蝕刻是將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術,蝕刻技術分為濕蝕刻和干蝕刻,其中,濕蝕刻是采用化學試劑,經由化學反應達到蝕刻的目的,薄膜場效應晶體管液晶顯示器(tft~lcd)、發光二極管(led)、有機發光二極管(oled)等行業用作面板過程中銦錫氧化物半導體透明導電膜(ito)的蝕刻通常采用鹽酸和硝酸的混合水溶液?,F有的制備裝置在進行制備時會發熱反應,使得裝置外殼穩定較高,工作人員直接接觸有燙傷風險,熱水與鹽酸接觸會產生較為劇烈的反應,濺出容易傷害工作人員,保護性不足,鹽酸硝酸具有較強的腐蝕性,常規的攪拌裝置容易被腐蝕,影響蝕刻液的質量,用防腐蝕的聚四氟乙烯攪拌漿進行攪拌,成本過高,且混合的效果不好。所以,如何設計一種ito蝕刻液制備裝置,成為當前要解決的問題。蘇州博洋生產銷售BOE蝕刻液。江蘇工業級BOE蝕刻液銷售公司

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