所述支撐條431和所述第二支撐條432一一平行對(duì)應(yīng)設(shè)置,所述連接部433活動(dòng)連接所述支撐條431和所述第二支撐條432,所述支撐條431固定設(shè)置于所述底座41上,所述接觸部434均勻設(shè)置在所述第二支撐條432上。同時(shí)可通過(guò)設(shè)置所述支撐條431的高度或所述支撐條431的固定位置從而調(diào)節(jié)所述底支撐件43的高度,如通過(guò)將上述支撐條431的兩端固定在兩所述豎直平板421上。較佳的,所述支撐條431和所述第二支撐條432上設(shè)置有磁性組,所述支撐條431和所述第二支撐條432在所述磁性組提供的磁性斥力作用下具有調(diào)節(jié)間隙。所述磁性組包括磁性件435和第二磁性件436,所述磁性件435和所述第二磁性件436分別設(shè)置于所述支撐條431和所述第二支撐條432上,且所述磁性件435和所述第二磁性件436之間具有磁性斥力,從而使所述第二支撐條432懸浮于所述支撐條431的上方。所述連接部433設(shè)置有限位孔437,所述限位孔437設(shè)置為腰型孔,所述支撐條431的水平兩側(cè)均設(shè)置有若干限位塊438,所述第二支撐條432的水平兩側(cè)均設(shè)置有若干第二限位塊439,所述限位塊438和所述第二限位塊439一一對(duì)應(yīng)設(shè)置,對(duì)應(yīng)設(shè)置的所述限位塊438和所述第二限位塊439均設(shè)置在同一所述連接部433的所述限位孔437內(nèi)。減薄清洗劑,輕松應(yīng)對(duì)各種涂層挑戰(zhàn),讓您的工作更輕松。上海哪家公司減薄用清洗劑技術(shù)指標(biāo)
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并控制磁轉(zhuǎn)子12和噴頭11每間隔20s旋轉(zhuǎn)10s,也就是說(shuō),控制磁轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)10s,控制磁轉(zhuǎn)子停止旋轉(zhuǎn)后,控制噴頭噴涂拋光液10s,停止噴涂拋光液10s后,控制磁轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)10s,以此類推。本發(fā)明實(shí)施例中,控制部件在脈沖工作模式下,實(shí)現(xiàn)減薄和拋光兩種工藝交替作用,使得減薄和拋光一體化完成,整個(gè)過(guò)程穩(wěn)定,速度快,控制性好,重復(fù)度高,無(wú)粉塵污染,襯底減薄終厚度達(dá)到20μm,拋光面ra<2nm。還需要說(shuō)明的是,本發(fā)明實(shí)施例中,在減薄的過(guò)程中,可以不斷更換磁轉(zhuǎn)子12,如磁轉(zhuǎn)子12工作1小時(shí)后,將磁轉(zhuǎn)子12更換為新的磁轉(zhuǎn)子,以使磁轉(zhuǎn)子與待加工表面貼合緊密,避免了傳統(tǒng)減薄工藝中由于轉(zhuǎn)子形變誤差造成的加工精度失真。此外,本發(fā)明實(shí)施例中,在完成拋光和減薄后,可以采用直鏈烷基苯磺酸鹽溶劑對(duì)待加工部件20進(jìn)行清洗,用di水沖洗干凈,40℃的氮?dú)獯蹈伞V螅瑢⑶逑春蟮拇庸げ考?0和托盤10侵入60℃的nmp(n甲基吡咯烷酮)30min,使得待加工部件20和托盤10自動(dòng)分離,取出待加工部件20后清洗干凈即可。本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種拋光減薄方法,如圖5所示,包括:s101:將待加工部件固定在托盤上,待加工部件包括inp基晶圓;可選地。減薄清洗劑采用獨(dú)特配方,提高工作效率。
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