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江蘇EVG6200 NT光刻機

來源: 發布時間:2022-03-08

IQAligner工業自動化功能:盒式磁帶/SMIF/FOUP/SECS/GEM/薄,彎曲,翹曲,邊緣晶圓處理晶圓直徑(基板尺寸):高達200毫米對準方式:上側對準:≤±0.5μm底側對準:≤±1,0μm紅外校準:≤±2,0μm/具體取決于基板材料曝光設定:真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式曝光選項:間隔曝光/洪水曝光系統控制操作系統:Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數多語言用戶GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR實時遠程訪問,診斷和故障排除產能全自動:弟一批生產量:每小時85片全自動:吞吐量對準:每小時80片EVG光刻機設備,可完全集成到HERCULES光刻軌道系統中,并輔以其用于從上到下側對準驗證的計量工具。江蘇EVG6200 NT光刻機

江蘇EVG6200 NT光刻機,光刻機

EVG620NT或完全容納的EVG620NTGen2掩模對準系統配備了集成的振動隔離功能,可在各種應用中實現出色的曝光效果,例如,對薄而厚的光刻膠進行曝光,對深腔進行構圖并形成可比的形貌,以及對薄而易碎的材料(例如化合物半導體)進行加工。此外,半自動和全自動系統配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。EVG620NT特征:晶圓/基板尺寸從小到150mm/6''系統設計支持光刻工藝的多功能性易碎,薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理,更換時間短帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補償序列EVG620 NT光刻機學校會用嗎OmniSpray涂層技術是對高形晶圓表面進行均勻涂層。

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       EV集團(EVG)是面向MEMS,納米技術和半導體市場的晶圓鍵合機和光刻設備的**供應商,***宣布已收到其制造設備和服務的***組合產品組合的多個訂單,這些產品和服務旨在滿足對晶圓的新興需求,水平光學(WLO)和3D感應。市場**的產品組合包括EVG®770自動UV-納米壓印光刻(UV-NIL)步進器,用于步進重復式主圖章制造,用于晶圓級透鏡成型和堆疊的IQAligner®UV壓印系統以及EVG ®40NT自動測量系統,用于對準驗證。EVG的WLO解決方案由該公司的NILPhotonics®能力中心提供支持。

      使用** 欣的壓印光刻技術和鍵合對準技術在晶圓級制造微透鏡,衍射光學元件和其他光學組件可帶來諸多好處。這些措施包括通過高度并行的制造工藝降低擁有成本,以及通過堆疊使**終器件的外形尺寸更小。EVG是納米壓印光刻和微成型領域的先驅和市場***,擁有全球比較大的工具安裝基礎。

我們的研發實力:EVG已經與研究機構合作超過35年,讓我們深入了解他們的獨特需求。我們專業的研發工具提供zhuo越的技術和*大的靈活性,使大學、研究機構和技術開發合作伙伴能夠參與多個研究項目和應用項目。此外,研發設備與EVG的合心技術平臺無縫集成,這些平臺涵蓋從研發到小規模和大批量生產的整個制造鏈。研發和權面生產系統之間的軟件和程序兼容性使研究人員能夠將其流程遷移到批量生產環境。以客戶的需求為導向,研發才具有價值,也是我們不斷前進的動力。岱美是EVG光刻機在中國的代理商,提供本地化的貼心服務。

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光刻機處理結果:EVG在光刻技術方面的合心競爭力在于其掩模對準系統(EVG6xx和IQAligner系列)以及高度集成的涂層平臺(EVG1xx系列)的高吞吐量的接近和接觸曝光能力。EVG的所有光刻設備平臺均為300mm,可完全集成到HERCULES光刻軌道系統中,并輔以其用于從上到下側對準驗證的計量工具。高級封裝:在EVG®IQAligner®上結合NanoSpray?曝光的涂層TSV底部開口;在EVG的IQAlignerNT®上進行撞擊40μm厚抗蝕劑;負側壁,帶有金屬兼容的剝離抗蝕劑涂層;金屬墊在結構的中間;用于LIGA結構的高縱橫比結構,用EVG®IQAligner®曝光200μm厚的抗蝕劑的結果;西門子星狀測試圖暴露在EVG®6200NT上,展示了膏分辨率的厚抗蝕劑圖形處理能力;MEMS結構在20μm厚的抗蝕劑圖形化的結果。可以在EVG105烘烤模塊上執行軟烘烤、曝光后烘烤和硬烘烤操作。重慶光刻機學校會用嗎

EVG已經與研究機構合作超過35年,能夠深入了解他們的獨特需求。江蘇EVG6200 NT光刻機

IQAligner®■晶圓規格高達200mm/300mm■某一時間內(弟一次印刷/對準)>90wph/80wph■頂/底部對準精度達到±0.5μm/±1.0μm■接近過程100/%無觸點■可選Ergoload磁盤,SMIF或者FOUP■經準的跳動補償,實現蕞佳的重疊對準■手動裝載晶圓的功能■IR對準能力–透射或者反射IQAligner®NT■零輔助橋接工具-雙基片,支持200mm和300mm規格■無以倫比的吞吐量(弟一次印刷/對準)>200wph/160wph■頂/底部對準精度達到±250nm/±500nm■接近過程100/%無觸點■暗場對準能力/全場青除掩模(FCMM)■經準的跳動補償,實現蕞佳的重疊對準■智能過程控制和性能分析框架軟件平臺江蘇EVG6200 NT光刻機

岱美儀器技術服務(上海)有限公司發展規模團隊不斷壯大,現有一支專業技術團隊,各種專業設備齊全。在岱美中國近多年發展歷史,公司旗下現有品牌EVG,Filmetrics,MicroSense,Herz,Herzan,Film Sense,Polyteknik,4D,Nanotronics,Subnano,Bruker,FSM,SHB等。我公司擁有強大的技術實力,多年來一直專注于磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務 的發展和創新,打造高指標產品和服務。誠實、守信是對企業的經營要求,也是我們做人的基本準則。公司致力于打造***的半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀。