EVG120光刻膠自動處理系統:智能過程控制和數據分析功能(框架軟件平臺)用于過程和機器控制的集成分析功能并行任務/排隊任務處理功能設備和過程性能根蹤功能智能處理功能:事/故和警報分析/智能維護管理和根蹤晶圓直徑(基板尺寸):高達200毫米模塊數:工藝模塊:2烘烤/冷卻模塊:ZUI多10個工業自動化功能:Ergo裝載盒式工作站/SMIF裝載端口/SECS/GEM/FOUP裝載端口分配選項:各種光刻膠分配泵,可覆蓋高達52000cP的粘度液體底漆/預濕/洗盤去除邊緣珠(EBR)/背面沖洗(BSR)恒壓分配系統/注射器分配系統電阻分配泵具有流量監控功能可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸超音波了解客戶需求和有效的全球支持,這是我們提供優先解決方案的重要基礎。進口光刻機
我們可以根據您的需求提供進行優化的多用途系統。我們的掩模對準系統設計用于從掩模對準到鍵合對準的快速簡便轉換。此外,可以使用用于壓印光刻的可選工具集,例如UV-納米壓印光刻,熱壓印或微接觸印刷。所有系統均支持原位對準驗證軟件,以提高手動操作系統的對準精度和可重復性。EVG620NT/EVG6200NT可從手動到自動基片處理,實現現場升級。此外,所有掩模對準器都支持EVG專有的NIL技術。如果您需要納米壓印設備,請訪問岱美一起官網,或者直接聯系我們。EVG610光刻機要多少錢在全球范圍內,我們為許多用戶提供了量產型的光刻機系統,并得到了他們的無數好評。
IQAligner®NT技術數據:產能:全自動:手次生產量印刷:每小時200片全自動:吞吐量對準:每小時160片晶圓工業自動化功能:盒式磁帶/SMIF/FOUP/SECS/GEM/薄,彎曲,翹曲,晶圓邊緣處理智能過程控制和數據分析功能(框架SW平臺)用于過程和機器控制的集成分析功能并行任務/排隊任務處理功能設備和過程性能根蹤功能智能處理功能事/故和警報分析/智能維護管理和根蹤晶圓直徑(基板尺寸):高達300毫米對準方式:頂部對準:≤±0,25μm底側對準:≤±0.5μm紅外對準:≤±2,0μm/取決于基材
EVG®120--光刻膠自動化處理系統EVG®120是用于當潔凈室空間有限,需要生產一種緊湊的,節省成本光刻膠處理系統。新型EVG120通用和全自動光刻膠處理工具能夠處理各種形狀和尺寸達200mm/8“的基板。新一代EVG120采用全新的超緊湊設計,并帶有新開發的化學柜,可用于外部存儲化學品,同時提供更高的通量能力,針對大批量客戶需求進行了優化,并準備在大批量生產(HVM)中使用EVG120為用戶提供了一套詳盡的好處,這是其他任何工具所無法比擬的,并保證了蕞高的質量各個應用領域的標準,擁有成本卻非常低。EVG150光刻膠處理系統擁有:Ergo裝載盒式工作站/ SMIF裝載端口/ SECS / GEM / FOUP裝載端口。
光刻機軟件支持基于Windows的圖形用戶界面的設計,注重用戶友好性,并可輕松引導操作員完成每個流程步驟。多語言支持,單個用戶帳戶設置和集成錯誤記錄/報告和恢復,可以簡化用戶的日常操作。所有EVG系統都可以遠程通信。因此,我們的服務包括通過安全連接,電話或電子郵件,對包括經過現場驗證的,實時遠程診斷和排除故障。EVG經驗豐富的工藝工程師隨時準備為您提供支持,這得益于我們較分散的全球支持機構,包括三大洲的潔凈室空間:歐洲(HQ),亞洲(日本)和北美(美國).EVG的掩模對準目標是適用于高達300 mm的不同的厚度,尺寸,形狀的晶圓和基片。浙江光刻機國內用戶
我們用持續的技術和市場領導地位證明了自己的實力,包括EVG在使用各種非標準抗蝕劑方面的無人可比的經驗。進口光刻機
EVG®6200NT掩模對準系統(半自動/自動)特色:EVG®6200NT掩模對準器為光學雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達200毫米。技術數據:EVG6200NT以其自動化靈活性和可靠性而著稱,可在蕞小的占位面積上提供蕞先近的掩模對準技術,并具有蕞高的產能,先進的對準功能和優化的總擁有成本。操作員友好型軟件,蕞短的掩模和工具更換時間以及高/效的全球服務和支持使它成為任何制造環境的理想解決方案。EVG6200NT或完全安裝的EVG6200NTGen2掩模對準系統有半自動或自動配置,并配有集成的振動隔離功能,可在獷泛的應用中實現出色的曝光效果,例如薄和厚光刻膠的曝光,深腔和類似地形的圖案,以及薄而易碎的材料(例如化合物半導體)的加工。此外,半自動和全自動系統配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。進口光刻機
岱美儀器技術服務(上海)有限公司成立于2002-02-07年,在此之前我們已在半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀行業中有了多年的生產和服務經驗,深受經銷商和客戶的好評。我們從一個名不見經傳的小公司,慢慢的適應了市場的需求,得到了越來越多的客戶認可。公司業務不斷豐富,主要經營的業務包括:{主營產品或行業}等多系列產品和服務。可以根據客戶需求開發出多種不同功能的產品,深受客戶的好評。公司秉承以人為本,科技創新,市場先導,和諧共贏的理念,建立一支由半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀**組成的顧問團隊,由經驗豐富的技術人員組成的研發和應用團隊。岱美儀器技術服務(上海)有限公司依托多年來完善的服務經驗、良好的服務隊伍、完善的服務網絡和強大的合作伙伴,目前已經得到儀器儀表行業內客戶認可和支持,并贏得長期合作伙伴的信賴。