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福建碳化硅納米壓印

來源: 發布時間:2021-11-17

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

®的 UV-NIL紫外光納米壓印系統。


EVG的HERCULES ® NIL產品系列

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

® UV-NIL系統達200毫米

對于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案,具有EVG's專有SmartNIL ®印跡技術


HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案,適用于比較大200 mm的晶圓,是EVG的NIL產品組合的***成員。HERCULES

NIL基于模塊化平臺,將EVG專有的SmartNIL壓印技術與清潔,抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟相結合。這將HERCULES NIL變成了“一站式服務”,將裸露的晶圓裝載到工具中,然后將經過完全處理的納米結構晶圓退回。 EVG ? 7200是自動SmartNIL ? UV納米壓印光刻系統。福建碳化硅納米壓印

福建碳化硅納米壓印,納米壓印

納米壓印光刻設備-處理結果:

新應用程序的開發通常與設備功能的提高緊密相關。 EVG的NIL解決方案能夠產生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案,并在顯示器,生物技術和光子應用中實現了許多新的創新。HRI SmartNIL®壓印上的單個像素的1.AFM圖像壓印全息結構的AFM圖像

資料來源:EVG與SwissLitho

AG合作(歐盟項目SNM)

2.通過熱壓花在PMMA中復制微流控芯片

資料來源:EVG

3.高縱橫比(7:1)的10 μm柱陣列

由加拿大國家研究委 員會提供

4.L / S光柵具有優化的殘留層,厚度約為10 nm

資料來源:EVG

5.紫外線成型鏡片300 μm

資料來源:EVG

6.光子晶體用于LED的光提取

多晶硅的蜂窩織構化(mc-Si)

由Fraunhofer ISE提供

7.金字塔形結構50 μm

資料來源:EVG

8.**小尺寸的光模塊晶圓級封裝

資料來源:EVG

9.光子帶隙傳感器光柵

資料來源:EVG(歐盟Saphely項目)

10.在強光照射下對HRISmartNIL®烙印進行完整的晶圓照相

資料來源:EVG 廣東高校納米壓印IQ Aligner UV-NIL是自動化紫外線納米壓印光刻系統,是用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印的系統。

福建碳化硅納米壓印,納米壓印

    NIL系統肖特增強現實負責人RuedigerSprengard博士表示:“將高折射率玻璃晶圓的制造擴展到300-mm,對于實現我們客戶滿足當今和未來**AR/MR設備不斷增長的市場需求所需的規模經濟產量來說至關重要。通過攜手合作,EVG和肖特彰顯了當今300-mm高折射率玻璃制造的設備和供應鏈的就緒性。”在此之前,使用光刻/納米壓印技術對具有光子學應用結構的玻璃基板進行圖案成形***于200-mm基板。向300-mm晶圓加工的遷移是將AR/MR頭戴顯示設備推向大眾消費和工業市場邁出的重要一步。不過,在這些較大的基板上保持高基板質量和工藝均勻性是很難控制的,需要先進的自動化和工藝控制能力。EVG的SmartNIL技術得益于多年的研究、開發和實驗,旨在滿足納米圖案成形的需求,經過了現場驗證,能夠輕松從晶圓級樣品尺寸擴展到大面積基板。去年六月,EVG推出了HERCULES?NIL300mm,將SmartNIL引入300-mm制造,滿足各種設備和應用的生產需求,其中包括AR、MR和虛擬現實(VR)頭戴顯示設備的光學器件以及3D傳感器、生物醫療設備、納米光子學和等離子電子學。集成到SmartNIL?UV-NIL系統的全模塊化EVG?HERCULES?。

EVG ® 720特征:

體積驗證的壓印技術,具有出色的復制保真度

專有SmartNIL ®技術,多使用聚合物印模技術

集成式壓印,UV固化脫模和工作印模制造

盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發模式

可選的頂部對準

可選的迷你環境

適用于所有市售壓印材料的開放平臺

從研發到生產的可擴展性

系統外殼,可實現比較好過程穩定性和可靠性技術數據

晶圓直徑(基板尺寸)

75至150毫米

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率LED(i線)> 400 mW /cm2

對準:可選的頂部對準

自動分離:支持的

迷你環境和氣候控制:可選的

工作印章制作:支持的


HERCULES ? NIL是完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光納米壓印系統。

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納米壓印應用三:連續性UV納米壓印

EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合,分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國區的代理商,歡迎各位聯系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。


EV Group 提供完整的UV 紫外光納米壓印光刻(UV-NIL)產品線。重慶納米壓印測樣

高 效,強大的SmartNIL工藝提供高圖案保真度,擁有高度均勻圖案層和**少殘留層,易于擴展的晶圓尺寸和產量。福建碳化硅納米壓印

納米壓印設備哪個好?預墨印章用于將材料以明顯的圖案轉移到基材上。該技術用于表面化學的局部修飾或捕獲分子在生物傳感器制造中的精確放置。

納米壓印設備可以進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。


將聚合物片或旋涂聚合物加熱到其玻璃化轉變溫度以上,從而將材料轉變為粘性狀態。然后以足夠的力將壓模壓入聚合物中。岱美作為EVG在中國區的代理商,歡迎各位聯系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。


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