EV Group的一系列高精度熱壓花系統基于該公司市場**的晶圓鍵合技術。出色的壓力和溫度控制以及大面積上的均勻性可實現高精度的壓印。熱壓印是一種經濟高 效且靈活的制造技術，具有非常高的復制精度，可用于**小50 nm的特征尺寸。該系統非常適合將復雜的微結構和納米結構以及高長寬比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。

NILPhotonics®能力中心-支持和開發

NILPhotonics能力中心是經過驗證的創新孵化器。

歡迎各位客戶來樣制作，驗證EVG的納米壓印設備的性能。

HERCULES NIL 300 mm提供市場上**納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印，快速高功率曝光和平滑壓模分離。上海半導體設備納米壓印

EVG ® 510 HE特征：

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應用

自動化壓花工藝

EVG專有的**對準工藝，用于光學對準的壓印和壓印

完全由軟件控制的流程執行

閉環冷卻水供應選項

外部浮雕和冷卻站

EVG ® 510 HE技術數據：

加熱器尺寸：150毫米 ，200毫米

比較大基板尺寸：150毫米，200毫米

**小基板尺寸：單芯片，100毫米

比較大接觸力：10、20、60 kN

比較高溫度：標準：350°C；可選：550°C

夾盤系統/對準系統

150毫米加熱器：EVG ® 610，EVG ® 620，EVG ® 6200

200毫米加熱器：EVG ® 6200，MBA300，的Smart View ® NT

真空：

標準：0.1毫巴

可選：0.00001 mbar

上海半導體設備納米壓印SmartNIL 非常適合對具有復雜納米結構微流控芯片進行高精度圖案化，用在下一代藥 物研究和醫學診斷設備生產。

       EVG公司技術開發和IP總監Markus Wimplinger補充說：“我們開發新技術和工藝以應對*復雜的挑戰，幫助我們的客戶成功地將其新產品創意商業化。技術，我們創建了我們的NILPhotonics能力中心。“在具有保護客戶IP的強大政策的框架內，我們為客戶提供了從可行性到生產階段的產品開發和商業化支持。這正是我們***與AR領域的**者WaveOptics合作所要做的，以為*終客戶提供真正可擴展的解決方案。”

      EVG的NILPhotonics®能力中心框架內的協作開發工作旨在支持WaveOptics的承諾，即在工業，企業和消費者等所有主要市場領域釋放AR在大眾市場的應用，并遵循公司模塊計劃的推出。

EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV納米壓印光刻系統。

用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統®技術，在100毫米范圍內。

EVG620 NT以其靈活性和可靠性而聞名，它以**小的占位面積提供了***的掩模對準技術。操作員友好型軟件，**短的掩模和模具更換時間以及有效的全球服務支持使它們成為任何研發環境（半自動批量生產）的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對準選項。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻。此外，半自動和全自動系統配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。

EVG提供不同的***積壓印系統，大面積壓印機，微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統。

    其中包括家用電器、醫藥、電子、光學、生命科學、汽車和航空業。肖特在全球34個國家和地區設有生產基地和銷售辦事處。公司目前擁有員工超過15500名，2017/2018財年的銷售額為。總部位于德國美因茨的母公司SCHOTTAG由卡爾蔡司基金會（CarlZeissFoundation）全資擁有。卡爾蔡司基金會是德國歷史**悠久的私立基金會之一，同時也是德國規模比較大的科學促進基金會之一。作為一家基金公司，肖特對其員工，社會和環境負有特殊責任。關于EV集團（EVG）EV集團（EVG）是為半導體、微機電系統（MEMS）、化合物半導體、功率器件和納米技術器件制造提供設備與工藝解決方案的**供應商。其主要產品包括：晶圓鍵合、薄晶圓處理、光刻/納米壓印（NIL）與計量設備，以及涂膠機、清洗機和檢測系統。EV集團成立于1980年，可為遍及全球的眾多客戶和合作伙伴網絡提供各類服務與支持。SmartNIL，NILPhotonics及EVGroup標識是EVGroup的注冊商標,SCHOTTRealView?是SCHOTT的注冊商標。（來自網絡。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。上海半導體設備納米壓印

納米壓印是一種用于大規模制造微米級和納米級結構的低成本的技術，大批量替代光刻技術。上海半導體設備納米壓印

IQ Aligner®：用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統

■用于光學元件的微成型應用

■用于全場納米壓印應用

■三個**控制的Z軸，用于控制壓印光刻膠的總厚度變化（TTV），并在壓模和基材之間實現出色的楔形補償

■粘合對準和紫外線粘合功能

紫外線壓印_紫外線固化

印章

防紫外線基材

附加印記壓印納米結構分離印記

用紫外線可固化的光刻膠旋涂或滴涂基材。隨后，將壓模壓入光刻膠并在仍然接觸的情況下通過UV光交聯。

μ-接觸印刷

軟印章

基板上的材料

領取物料，物料轉移，刪除印章

上海半導體設備納米壓印