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OLED均勻光源測試方法

來源: 發布時間:2025-01-27

由于積分球較常用于穩態條件下,隨著積分球涂層反射率的增加和開口端口面積比例的減小,產生穩態輻射度的反射次數越多。因此,積分球設計應嘗試優化這兩個參數,以獲得較佳的輻射通量空間積分。圖2是一個機器人成像系統的圖像,用于通過積分球參考端口映射空間均勻性。涂層,在為積分球選擇涂層時,必須考慮兩個因素:反射率和耐久性。例如,如果有足夠的光線,并且積分球將在可能導致積分球收集污垢或灰塵的環境中使用,則耐久性和可清洗的涂層是您的理想選擇。球坐標系下,積分球體積元素的推導,展現了數學的嚴謹與美妙。OLED均勻光源測試方法

OLED均勻光源測試方法,積分球

理想積分球原理:理想積分球的條件:A、積分球的內表面為一完整的幾何球面,半徑處處相等;B、球內壁是中性均勻漫射面,對各種波長的入射光線具有相同的漫反射比;C、球內沒有任何物體,光源也看作只發光而沒有實物的抽象光源。2、影響積分球測量精度的因素A、球內壁是均勻的理想漫射層,服從朗伯定則;B、球內壁各點的反射率相等;C、球內壁白色涂層的漫射是中性的;D、球半徑處處相等,球內除燈外無其他物體存在;E、窗口材料是中性的,其E符合照度的余弦定則.實 際情況與理想條件不符合會帶來測量誤差,故需修正。北京Helios標準光源積分球內部光路的優化,提高了光線的利用率。

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內置光源積分球的被測光源安裝在積分球內部,于探測端球壁位置開一個窗口用來連接探測裝置,光源與探測窗口之間有一塊隔光板用來放置光源發出光直接照射在探測端口,光在積分球內壁進行充分的漫反射后,在內壁行程均勻照度,后照射到光電探測端口,進而得出光束的光學性質。積分球的進光口和探測端口分別各開一個窗口,積分球內部同樣放置遮光板放置光束直接照射探測端口,光束從進光口進入積分球,經過充分的漫反射后行程均勻照度,后從積分球探測端口進行光學性質測量。

積分球輻射源是一種非常優異的定標光源,其輸出的輻亮度面均勻性和穩定性是普通光源無法比擬的。在需要使用面光源的領域,被普遍用于光學探測器的實驗室定標,空間光學遙感儀器發射前的地面輻射定標。因此輻射源的穩定性、準確性對于輻射定標非常關鍵,直接影響到被定標儀器探測結果。影響積分球輻射源輸出穩定性和均勻性的主要因素包括積分球光源供電的恒流源穩定性、積分球內部材料的反射率穩定性和球內擋板設置,三者會影響積分球輸出光通量、輻亮度變化和均勻性。積分球的形狀和尺寸可以根據具體需求進行定制。

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由于積分球較常用于穩態條件下,隨著積分球涂層反射率的增加和開口端口面積比例的減小,產生穩態輻射度的反射次數越多。因此,積分球設計應嘗試優化這兩個參數,以獲得較佳的輻射通量空間積分。圖2是一個機器人成像系統的圖像,用于通過積分球參考端口映射空間均勻性。涂層,在為積分球選擇涂層時,必須考慮兩個因素:反射率和耐久性。例如,如果有足夠的光線,并且積分球將在可能導致積分球收集污垢或灰塵的環境中使用,則耐久性和可清洗的涂層是您的理想選擇。積分球內部裝置,包括擋板、燈具和燈座,會吸收輻射源的部分能量,降低球體的空間均勻性。通過在所有可能的表面上使用高反射漫反射涂層,可以改善空間均勻性的降低。積分球的內壁應是良好的球面,通常要求它相對于理想球面的偏差應不大于內徑的0.2%。Spectra-UT 超可調光譜均勻光源測試儀

積分球是一個內壁涂有白色漫反射材料的空腔球體,又稱光度球,光通球等。OLED均勻光源測試方法

積分球輻射度,入射到漫射表面上的光通過反射產生一個虛擬光源。從表面發出的光較好用它的輻射度來描述,即每單位立體角的通量密度。輻射度是一個重要的工程量,因為它可以預測光學系統在觀察被照射表面時所能收集到的光通量的數量。對于積分球,輻射度推導考慮了入射到積分球內的光、積分球壁反射率、積分球表面積、光進行的多次表面反射以及通過開口端口的損失。進入積分球體的光通過初始反射幾乎完全漫射。離開表面的一小部分光到達另一個表面區域并被漫反射,依此類推。這種輻射度交換一次又一次地發生,直到它在空間上整合。OLED均勻光源測試方法