霍爾離子源霍爾離子源是陽極在一個強軸向磁場的協作下將工藝氣體等離子化。這個軸向磁場的強不平衡性將氣體離子分離并形成離子束。由于軸向磁場的作用太強，霍爾離子源離子束需要補充電子以中和離子流。常見的中和源就是鎢絲（陰極）。霍爾離子源的特點是：1簡單耐用。2離子電流與氣體流量幾乎成比例，可獲得較大離子電流。3鎢絲一般橫跨在出口，收離子束沖擊很快會銷蝕，尤其對反應氣體，一般十幾個小時就需更換。并且鎢絲還會有一定的污染。為解決鎢絲的缺點。有采用較長壽中和器的，如一個小的空心陰極源。霍爾離子源可以說是應用較廣的離子源。如Veece的MarkI和MarkII離子源。適用的如國產的大部分離子源。如果鍍耐磨裝飾膜，膜厚大，需要與機體結合力強，而均勻性要求不高。可用霍爾離子源。其離子電流大，且離子能級也高。如果是鍍光學膜，則主要要求離子電流能級集中，離子電流均勻性好。故建議用Kaufman或RF離子源，有條件的可采用ECR（電子回旋）或ICP(感應耦合)離子源。另外，也要考慮到耗材，如用鎢絲的霍爾源在反應氣體中十來個小時就燒斷了。而離子源如ICP離子源可在反應氣體中連續工作幾百小時。無錫真空鍍膜機廠家，哪家專業?山東**真空鍍膜機價格

真空的基本知識“真空”是指壓力低于一個大氣壓的任何氣態的空間。在這種空間中氣體是比較稀薄的，至少比大氣要稀薄，但是“真空”，即沒有任何氣態微粒的空間是找不到的，就是在遠離地球一萬公里處、每立方厘米也有3～4千個空氣的分子。由于真空度大小仍然是氣體壓力大小的問題，所以計量壓強的單位也就是計量真空度的單位。國際標準單位為帕斯卡（Pa），也可用“托”(Torr)、“巴”(bar)和“毫巴”(mbar)來計量，他們之間的關系如下式：1標準大氣壓=1.01×105帕斯卡（Pa）=760托(Torr)=1.01×103毫巴直銷真空鍍膜機特點無錫光潤，專業真空鍍膜機供應商！

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與金屬鍍層間的附著性差塑料與金屬鍍層間的附著性差首先是由于塑料的表面能一般都比較低，表面極性差;其次塑料易帶靜電，表面容易吸附灰塵，同時塑料零件又軟，化學穩定性差，不易得到真正清潔的表面，而塑料表面的清潔度是影響塑料與金屬鍍層間附著力的重要因素。第三，即使保持了塑料表面的清潔，由于塑料與金屬的膨脹系數相差一個數量級，在成膜過程中或成膜后，溫度變化會產生熱應力，應力過大將會使鍍層開裂甚至脫落。此外，由于沉積過程中金屬膜結構受到工藝等因素的影響致使其內部產生一定的內應力，當內應力很大時，膜料沉積到塑料表面后，內應力會轉移到金屬鍍層上來，從而降低鍍層的穩定性，甚至使鍍層開裂、起皺。為解決金屬鍍層與塑料基體的結合問題，保證鍍層與塑料表面具有良好結合力，真空鍍膜時，采用在塑料表面涂上與鍍膜金屬有親和力的底涂層，或者對塑料表面進行電暈放電活化處理。真空鍍膜機廠家哪家好？

真空鍍膜機鍍膜是指在真空中制備膜層，包括鍍制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。無錫光潤為您介紹真空鍍膜機的原理。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜機鍍膜方法有三種形式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。蒸發鍍膜：通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發鍍膜。現代已成為常用鍍膜技術之一。蒸發源有三種類型：①電阻加熱源：用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發物質。電阻加熱源主要用于蒸發Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料;（2）高頻感應加熱源源：用高頻感應電流加熱坩堝和蒸發物質;（3）電子束加熱源：適用于蒸發溫度較高（不低于2000[618-1]）的材料，即用電子束轟擊材料使其蒸發。無錫光潤為您提供專業真空鍍膜機售后服務！真空鍍膜機生產

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需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。基片與靶材同在真空腔中。蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且**終沉積在基片表面，經歷成膜過程，形成薄膜。真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空電阻加熱蒸發，電子槍加熱蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積，離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。山東**真空鍍膜機價格

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