車燈真空鍍膜UV漆的技術要求車燈真空鍍膜UV漆的技術要求由于輻射固化涂料的綠色環(huán)保與高效率，使得該技術在世界范圍內獲得了重視和快速增長，其應用領域越來越廣。UV涂層具有極好的表面光潔度，很適合作為底漆用于真空金屬鍍膜技術領域，在塑料基材上可獲得十分光亮的金屬外觀。隨著汽車工業(yè)的發(fā)展，許多金屬替代工藝得到了應用，目前在汽車車燈反射罩應用領域，已經完全采用在PC、BMC等塑料表面通過真空鍍鋁膜來提高反射效果，用于這一領域的UV涂料要求具有良好的流平性，高耐溫性(用于PC基材要求120℃以上，BMC基材高達180℃以上)。在設計PC車燈反射罩用UV底漆時，要注意提高涂層的交聯(lián)密度來保證涂層有良好的封閉性，通過調整配方中活性稀釋劑的配比來使涂層與基材、鍍膜與涂層之間的附著力達到比較好，工件結構復雜時，要特別注意保證UV照射不充分的部位也能完全固化。1真空鍍膜對UV底漆的要求在真空鍍膜前要在塑料基材表面進行UV涂裝的主要原因有以下兩點:通過UV涂層來封閉基材，防止真空鍍膜時或工件使用時基材中的揮發(fā)性雜質逸出，影響鍍膜質量。像在車燈反射罩應用時，由于在使用過程中溫度會升到100℃以上。無錫卷繞鍍膜機廠商？河北口碑好卷繞鍍膜機

    Q1:請問什么是PVD？A1:PVD是英文PhysicalVaporDeposition的縮寫，中文意思是“物***相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。Q2:請問什么是PVD鍍膜？什么是PVD鍍膜機？A2:PVD(物***相沉積)技術主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對于PVD技術的三個分類，相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。近十多年來，真空離子鍍技術的發(fā)展是**快的，它已經成為了當代**先進的表面處理方法之一。我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜；通常所說的PVD鍍膜機，指的也就是真空離子鍍膜機。Q3:請問PVD鍍膜的具體原理是什么？A3:離子鍍膜（PVD鍍膜）技術，其原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質電離，在電場的作用下，使被蒸發(fā)物質或其反應產物沉積在工件上。Q4:請問PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學電鍍（水電鍍）相比有何優(yōu)點？A4:PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學電鍍的相同點是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。兩者的不同點是：PVD鍍膜膜層與工件表面的結合力更大，膜層的硬度更高。河南卷繞鍍膜機推薦咨詢無錫卷繞鍍膜機哪家好？

    （1）成膜溫度低。鋼鐵行業(yè)中的熱鍍鋅鍍膜溫度一般是400℃～500℃，化學鍍膜溫度更高達1000℃以上。這樣高的溫度很容易引起被鍍件的變形、變質，而真空鍍膜的溫度低，可以降到常溫，避免了常規(guī)鍍膜工藝的弊端。（2）蒸發(fā)源選擇自由度大。可選擇的鍍膜材料多而不受材料熔點限制，可鍍種類眾多的金屬氮化膜，金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復合膜。（3）不使用有害氣體、液體，對環(huán)境無不利影響。在當前越來越重視環(huán)保的大趨勢下，這點極其可貴。（4）帶鋼鍍膜質量好。能獲得均勻、平滑且極薄的鍍膜，鍍膜純度高，耐蝕性和附著力好。不存在熱鍍鋅中的漏鍍點、鋅浪、鋅花等問題。（5）工藝靈活，改變品種方便。可鍍單面、雙面和單層、多層及混合層。鍍膜厚度易于控制。總之，真空鍍膜機帶鋼真空鍍膜是一個集冶金、真空、化學、物理等學科于一體的高新技術，其產品具有高附加值，既有帶鋼的強度和廉價的特點，又有鍍膜后的多功能，多品種，高質量的優(yōu)點，是極具潛力的新型帶鋼材料的研發(fā)方向。

    缺點是電子***要求較高的真空度，并需要使用負高壓，這些造成了設備結構復雜，安全性差，不易維護，造價也較高。空心陰極電子***是利用低電壓，大電流的空心陰極放電產生的等離子電子束作為加熱源。空心陰極電子***用空心的鉭管作為陰極，坩鍋作為陽極，鉭管附近裝有輔**極。利用空心陰極電子***蒸鍍時，產生的蒸發(fā)離子能量高，離化率也高，因此，成膜質量好。空心陰極電子***對真空室的真空度要求比e型電子***低，而且是使用低電壓工作，相對來說，設備較簡單和安全，造價也低。目前，在我國e型電子***和空心陰極電子***都已成功地應用于蒸鍍及離子鍍的設備中。***的功率可達10幾萬千瓦，已經為機械，電子等工業(yè)鍍出了各種薄膜。電子束蒸發(fā)源的優(yōu)點為：1）電子束轟擊熱源的束流密度高，能獲得遠比電阻加熱源更大的能量密度。可以將高達3000度以上的材料蒸發(fā)，并且能有較高的蒸發(fā)速度；2）由于被蒸發(fā)的材料是置于水冷坩鍋內，因而可避免容器材料的蒸發(fā)，以及容器材料與蒸鍍材料之間的反應，這對提高鍍膜的純度極為重要；3）熱量可直接加到蒸鍍材料的表面，因而熱效率高，熱傳導和熱輻射的損失少。江蘇專業(yè)真空鍍膜機供應商！

    常采用旋轉基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。蒸氣分子平均動能約為～。蒸發(fā)源有三種類型。①電阻加熱源：用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發(fā)物質（圖1[蒸發(fā)鍍膜設備示意圖]）電阻加熱源主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料；②高頻感應加熱源：用高頻感應電流加熱坩堝和蒸發(fā)物質；③電子束加熱源：適用于蒸發(fā)溫度較高（不低于2000[618-1]）的材料，即用電子束轟擊材料使其蒸發(fā)。蒸發(fā)鍍膜與其他真空鍍膜方法相比，具有較高的沉積速率，可鍍制單質和不易熱分解的化合物膜。為沉積高純單晶膜層，可采用分子束外延方法。生長摻雜的GaAlAs單晶層的分子束外延裝置如圖2[分子束外延裝置示意圖]。噴射爐中裝有分子束源，在超高真空下當它被加熱到一定溫度時，爐中元素以束狀分子流射向基片。基片被加熱到一定溫度，沉積在基片上的分子可以徙動，按基片晶格次序生長結晶用分子束外延法可獲得所需化學計量比的高純化合物單晶膜，薄膜慢生長速度可控制在1單層/秒。買卷繞鍍膜機哪家比較優(yōu)惠？品質卷繞鍍膜機口碑推薦

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