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【真空鍍膜對環境的基本要求】加工真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清潔處理很重要。基片進入鍍膜室前均應進行認真的鍍前清潔處理，達到工件去油、去污和脫水的目的。基片表面污染來自零件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、機油、拋光膏、油脂、汗漬等物;零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的氣體。真空鍍膜廠家這些污物基本上均可采用去油或化學清冼方法將其去掉。對經過清洗處理的清潔表面，不能在da氣環境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底，可使碳氫化合物蒸氣的吸附減至小。因為這些容器優先吸附碳氫化合物。對于高度不穩定的、對水蒸氣敏感的表面，...

【真空鍍膜機之輔助抽氣系統】真空腔各部分有連接閥，用來連接各抽氣泵浦。輔助抽氣系統：排氣系統為鍍膜機真空系統的重要部分，主要有由機械泵、增壓泵(主要介紹羅茨泵)、油擴散泵三da部分組成。此排氣系統采用“擴散泵+機械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。排氣流程為：機械泵先將真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空狀態，為擴散泵后繼抽真空提供前提，之后當擴散泵抽真空腔的時候，機械泵又配合油擴散泵組成串聯，以這樣的方式完成抽氣動作。真空鍍膜機類型推薦。寧夏真空鍍膜空心陰極霍爾離子源怎么選【真空鍍膜之電解拋光】電拋光是一種電化學過程，其中浸沒在電解質中的工件的原子轉化成離子，并由于電流...

【真空鍍膜機清洗工藝要求】真空工藝進行前應清洗真空材料，從工件或系統材料表面qing除污染物；真空零部件的表面清洗處理也是非常有必要的，因為由污染物所造成的氣體、蒸氣源不僅會使真空系統不能獲得所要求的真空度。而且由于污染物的存在，同時也會影響真空部件連接處的強度和密封性能。污染物可以定義為“任何一種無用的物質或能量”，根據污染物的物理狀態可分為固體、氣體及液體，它們以膜或散粒形式存在。就其化學特征來看，它可以處于離子態或共價態，可以是無機物或有機物。暴露在空氣中的表面易受到污染，污染的來源有很多種，初的污染通常是表面本身形成過程中的一部分。吸附現象、化學反應、浸析和干燥過程、機械處理以及擴散和...

【真空鍍膜機的鍍層與鍍膜原理】A、原材料與基本原理：原材料都是樹脂、聚合物、鐵氟隆、硅酮、丙烯酸、硅酸鹽等，輔料、配方與量度有所不同。例添加的乳化劑，不同的量相調和，乳化出來的狀態就不一樣，水狀、乳狀、膏狀都可以實現。這些物質經乳化破乳后，部份滲透或形成薄膜。B、它們的特點和區別：鍍層：滲透功能好(要視原材料顆粒da小)，表面光滑度更優，對漆面較多“毛細孔”、粗糙、重噴過漆、漆面本身較硬需要增加光亮度的歐美車系漆面比較適用。鍍膜：而鍍膜產品添加了成膜助劑與固化劑，真空鍍膜廠家使其瞬間成膜，性質相應的發生了改變。例如硬度比封釉更高，對需要提升漆面硬度的漆面(如日韓車系)比較適用。防護層的主要性能...

【真空鍍膜對環境的基本要求】加工真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清潔處理很重要。基片進入鍍膜室前均應進行認真的鍍前清潔處理，達到工件去油、去污和脫水的目的。基片表面污染來自零件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、機油、拋光膏、油脂、汗漬等物;零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的氣體。真空鍍膜廠家這些污物基本上均可采用去油或化學清冼方法將其去掉。對經過清洗處理的清潔表面，不能在da氣環境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底，可使碳氫化合物蒸氣的吸附減至小。因為這些容器優先吸附碳氫化合物。對于高度不穩定的、對水蒸氣敏感的表面，...

【真空鍍膜機清洗工藝之紫外線輻照清洗】利用紫外輻照來分解表面上的碳氫化合物。例如，在空氣中照射15h就可產生清潔的玻璃表面。如果把適當預清洗的表面放在一個產生臭氧的紫外線源中．要不了幾分鐘就可以形成清潔表面（工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機理是：在紫外線照射下，污物分子受激并離解，而臭氧的生成和存在產生高活性的原子態氧。受激的污物分子和由污物離解產生的自由基與原子態氧作用．形成較簡單易揮發分子．如H203、CO2和N2．其反應速率隨溫度的增加而增加。紅外真空鍍膜機制造商。北京真空鍍膜空心陰極霍爾離子源多少錢【真空鍍膜機常見故障】:一、當正在鍍膜室真空突然下降1.蒸發源水路膠...

【真空鍍膜的膜層結構分布】基材：ABS、PC、ABS+PC、PP、PPMA、POM等樹脂類均可成型真空電鍍,要求底材為純原料,電鍍級別更佳,不可加再生材;底漆：UV底漆,對基材表面做預處理,為膜層的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情況可酌情加厚;膜層：靶材蒸發的結果，VM膜層可導電，NCVM鍍層不導電，且抗干擾性效果很好,膜層厚度0.3um以下。面漆：面漆利用三基色原理可與色漿搭配出各類顏色,同時對真空膜層起保護作用,再加上UV、PU的表面裝飾,效果更漂亮,厚度一般在8-10um,特殊情況可酌情加厚！真空鍍膜機品牌排行。北京塑膠鍍膜空心陰極霍爾離子源【不同類型鍍膜機應用范圍介...

【真空鍍膜機檢漏之氣壓檢漏】氣壓檢漏被檢零部件內腔充以氣體(一般為空氣)，充氣壓力的高低視零部件的強度而定，一般為(2~4)×105帕。充壓后的零部件如發出明顯的嘶嘶聲，音響源處就是漏孔位置。用這種方法可檢較小漏率為5帕·升/秒的漏孔。如不能用聲音直接察覺漏孔，則用皂液涂于零部件可疑表面處，有氣泡出現處便是漏孔位置。用這種方法較小可檢漏率為5×10-3帕·升/秒的漏孔。此外，還可將充氣的零部件浸在清凈的水槽中，氣泡形成處便是漏孔位置。用水槽顯示漏孔，方便可靠，并能同時全部顯示出漏孔位置。如氣泡小、成泡速度均勻、氣泡持續時間長，則為×10-2~13帕·升/秒漏率的漏孔。如氣泡da、成泡持續時間短...

【真空鍍膜之陽極氧化】陽極氧化：主要是鋁的陽極氧化，是利用電化學原理，在鋁和鋁合金的表面生成一層Al2O3（氧化鋁）膜。這層氧化膜具有防護性、裝飾性、絕緣性、耐磨性等特殊特性適用材料：鋁、鋁合金等鋁制品工藝成本：生產過程中，水、電的消耗是相當da的，特別是在氧化工序。機器本身的熱耗，需要不停地用循環水進行降溫，噸電耗往往在1000度左右。環境影響：陽極氧化在能效方面不算出色，同時在鋁電解生產中，陽極效應還會產生對da氣臭氧層造成破壞性副作用的氣體。空心陰極霍爾離子源可用于制備高質量的單晶材料。成都玻璃鍍膜空心陰極霍爾離子源怎么選【常見的真空材料表面上的污染物類型】1、油脂：加工、裝配、操作時沾...

【真空鍍膜機有哪些污染源】真空鍍膜機是由許多精密的零部件所組成的，這些零部件均經過許多機械加工流程而制作出來，如焊接、磨、車、刨、鏜、銑等工序。正因為有了這些工作，導致設備零部件表面不可避免地會沾染一些加工帶來的油脂、油垢、金屬屑、焊劑、拋光膏、汗痕等污染物。這些污染物在真空條件下易揮發，從而對設備的極限真空造成影響。此外，這些機械加工帶來的真空污染物在da氣壓環境中吸附da量的氣體，而到了真空狀態下，這些原先吸附的氣體也會被再次釋放出來，成為限制真空系統的極限真空的一da主要因素。1、真空規管的燈絲在高溫條件下蒸發，將導致陶瓷絕緣子上形成一層薄膜，對其絕緣強度有一定的損壞，對其測量的準確性也...

【真空鍍膜機的鍍層與鍍膜原理】A、原材料與基本原理：原材料都是樹脂、聚合物、鐵氟隆、硅酮、丙烯酸、硅酸鹽等，輔料、配方與量度有所不同。例添加的乳化劑，不同的量相調和，乳化出來的狀態就不一樣，水狀、乳狀、膏狀都可以實現。這些物質經乳化破乳后，部份滲透或形成薄膜。B、它們的特點和區別：鍍層：滲透功能好(要視原材料顆粒da小)，表面光滑度更優，對漆面較多“毛細孔”、粗糙、重噴過漆、漆面本身較硬需要增加光亮度的歐美車系漆面比較適用。鍍膜：而鍍膜產品添加了成膜助劑與固化劑，真空鍍膜廠家使其瞬間成膜，性質相應的發生了改變。例如硬度比封釉更高，對需要提升漆面硬度的漆面(如日韓車系)比較適用。防護層的主要性能...

【真空鍍膜之電解拋光】電拋光是一種電化學過程，其中浸沒在電解質中的工件的原子轉化成離子，并由于電流的通過而從表面移除，從而達到工件表面除去細微毛刺和光亮度增da的效果。適用材料：1.da多數金屬都可以被電解拋光，其中常用于不銹鋼的表面拋光（尤其適用于奧氏體核級不銹鋼）。2.不同材料不可同時進行電解拋光，甚至不可以放在同一個電解溶劑里。工藝成本：電解拋光整個過程基本由自動化完成，所以人工費用很低。環境影響：電解拋光采用危害較小的化學物質，整個過程需要少量的水且操作簡單，另外可以延長不銹鋼的屬性，起到讓不銹鋼延緩腐蝕的作用。真空鍍膜機詳細鍍膜方法。北京光學鍍膜空心陰極霍爾離子源【真空鍍膜機之真空泵...

【不同類型鍍膜機應用范圍介紹】不同類型鍍膜機的適用范圍介紹1.磁控濺射鍍膜設備：應用于信息存儲領域，如磁信息存儲、磁光信息存儲等2.磁控濺射鍍膜機：應用于防護涂層，如飛機發動機的葉片、汽車鋼板、散熱片等3.磁控濺射鍍Al膜生產線：應用于太陽能利用領域，如太陽能集熱管、太陽能電池等4.AZO透明導電膜磁控濺射鍍膜生產線：應用于信息顯示領域，如液晶屏、等離子屏等5.觸摸屏連續式鍍膜生產線：應用于觸摸屏領域，如手機、電腦、MP4等數碼產品屏幕等。6.磁控中頻多弧離子鍍膜設備：應用于硬質涂層，如切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。7.PECVD磁控生產線：應用于集成電路制造，如薄膜電阻器、薄膜電容器、薄...

【真空鍍膜之磁控濺射】在陰極靶表面形成一正交電磁場，在此區電子密度高，進而提高離子密度，使得濺鍍率提高(一個數量級)，濺射速度可達0.1—1um/min膜層附著力較蒸鍍佳，是目前實用的鍍膜技術之一。其它有偏壓濺射、反應濺射、離子束濺射等鍍膜技術濺鍍機設備與工藝濺鍍機由真空室，排氣系統，濺射源和控制系統組成。濺射源又分為電源和濺射qiang（sputtergun）。磁控濺射qiang分為平面型和圓柱型，其中平面型分為矩型和圓型，靶材料利用率30-40%，圓柱型靶材料利用率>50%濺射電源分為：直流（DC）、射頻（RF）、脈沖（pulse），直流：800-1000V（Max）導體用，須可災弧。射頻...

【如何減少真空鍍膜的灰塵】1、使用的源材料要符合必要的純度要求。2、樣品取出后放置環境要注意清潔的問題。3、鍍膜一段時間后，真空室內壁必須要清潔處理。4、清洗襯底材料，必須要做到嚴格合乎工藝要求。5、工作人員有專門的服裝，操作要戴手套、腳套等。6、適當的增加環境的濕度，有利于降低周圍環境的懸浮固體顆粒物。7、技術上明確允許的da顆粒尺寸和單位面積顆粒物的數量的上限da致是多少。8、室內空氣流動性低、地面干凈，如果是裸露的水泥地，需要覆蓋處理。墻壁、屋頂不能使用一般的灰質涂料粉刷。真空鍍膜機的產業集群。四川光學薄膜空心陰極霍爾離子源【真空鍍膜對環境的基本要求】加工真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清...

【真空鍍膜機之卷繞機構設計中應考慮的問題】①提高卷繞速度的問題。卷繞速度即是帶狀基材運動的線速度，它是卷繞機構的一個主要技術指櫟。國內早期鍍膜機卷繞速度只有10m/min，現在也只有80m/min～120m/min，在國外日本的EW系列產品中，其卷繞速度已達到300m/min，德國L．H公司生產的鍍膜機已達到600m/min，可見隨著鍍膜技術的發展，卷繞速度有待提高。②帶狀基材的線速恒定問題。這一問題也很重要，因為只有卷繞機構保證帶狀基材的線速恒定，才能使基材上鍍層厚度均勻。這一點對制備帶狀基材的功能性膜（如電容器膜）尤為重要。③帶狀基材的跑偏和起褶問題。隨著卷繞速度的提高，帶狀基材在卷繞鍍膜...

【真空鍍膜機清洗工藝之紫外線輻照清洗】利用紫外輻照來分解表面上的碳氫化合物。例如，在空氣中照射15h就可產生清潔的玻璃表面。如果把適當預清洗的表面放在一個產生臭氧的紫外線源中．要不了幾分鐘就可以形成清潔表面（工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機理是：在紫外線照射下，污物分子受激并離解，而臭氧的生成和存在產生高活性的原子態氧。受激的污物分子和由污物離解產生的自由基與原子態氧作用．形成較簡單易揮發分子．如H203、CO2和N2．其反應速率隨溫度的增加而增加。空心陰極霍爾離子源具有較高的離子產額和較低的氣體消耗率。浙江空心陰極霍爾離子源廠家【真空鍍膜機之真空泵的安裝和指導】真空泵安裝...

【真空鍍膜設備之真空的獲得】：真空泵：真空泵是指利用機械、物理、化學或物理化學的方法對被抽容器進行抽氣而獲得真空的器件或設備。通俗來講，真空泵是用各種方法在某一封閉空間中改善、產生和維持真空的裝置。按真空泵的工作原理，真空泵基本上可以分為兩種類型，即氣體捕集泵和氣體傳輸泵。其廣fan用于冶金、化工、食品、電子鍍膜等行業。A、粗真空泵（RoughVacuumPump）：一般用于抽粗真空，有油泵和干泵。從結構上可分幾種：旋轉葉片泵：油泵，極限真空可達10&3Torr，抽速1~650CFM隔膜泵：干泵，極限真空1Torr左右，抽速<10CFM往復式活塞泵：干泵，極限真空10&2Torr，抽速6~32...

【真空鍍膜機清洗工藝之真空加熱清洗】將工件放置于常壓或真空中加熱．促使其表面上的揮發雜質蒸發來達到清洗的目的，這種方法的清洗效果與工件的環境壓力、在真空中保留時間的長短、加熱溫度、污染物的類型及工件材料有關。其原理是加熱工件．促使其表面吸附的水分子和各種碳氫化合物分子的解吸作用增強。解吸增強的程度與溫度有關。在超高真空下，為了得到原子級清潔表面，加熱溫度必高于450度才行．加熱清洗方法特別有效。但有時，這種處理方法也會產生副作用。由于加熱的結果，可能發生某些碳氫化合物聚合成較da的團粒，并同時分解成碳渣。空心陰極霍爾離子源可用于表面處理、材料改性、離子注入等領域。甘肅光纖鍍膜空心陰極霍爾離子源...

【真空鍍膜機有哪些污染源】真空鍍膜機是由許多精密的零部件所組成的，這些零部件均經過許多機械加工流程而制作出來，如焊接、磨、車、刨、鏜、銑等工序。正因為有了這些工作，導致設備零部件表面不可避免地會沾染一些加工帶來的油脂、油垢、金屬屑、焊劑、拋光膏、汗痕等污染物。這些污染物在真空條件下易揮發，從而對設備的極限真空造成影響。此外，這些機械加工帶來的真空污染物在da氣壓環境中吸附da量的氣體，而到了真空狀態下，這些原先吸附的氣體也會被再次釋放出來，成為限制真空系統的極限真空的一da主要因素。1、真空規管的燈絲在高溫條件下蒸發，將導致陶瓷絕緣子上形成一層薄膜，對其絕緣強度有一定的損壞，對其測量的準確性也...

【真空鍍膜機沖洗工藝之反應氣體沖洗】這種方法特別適用于da型超高不銹鋼真空系統的內部洗(去除碳氫化合物污染)。通常對于某些da型超高真空系統的真空室和真空元件，為了獲得原子態的清潔表面，消除其表面污染的標準方法是化學清洗，真空爐焙燒、輝光放電清洗及原能烘烤真空系統等方法。以上的清洗和除氣方法常用于真空系統安裝前及裝配期間。在真空系統安裝后(或系統運行后)，由于真空系統內的各種零部件已經被固定，這時對它們進行除氣處理就很困難，一旦系統受到(偶然)污染(主要是da原子數的分子如碳氫化合物的污染)，通常要拆卸后重新處理再安裝．而用反應氣體工藝，可以進行原位在線除氣處理．有效地除去不銹鋼真空室內的碳氫...

【真空鍍膜的膜層結構分布】基材：ABS、PC、ABS+PC、PP、PPMA、POM等樹脂類均可成型真空電鍍,要求底材為純原料,電鍍級別更佳,不可加再生材;底漆：UV底漆,對基材表面做預處理,為膜層的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情況可酌情加厚;膜層：靶材蒸發的結果，VM膜層可導電，NCVM鍍層不導電，且抗干擾性效果很好,膜層厚度0.3um以下。面漆：面漆利用三基色原理可與色漿搭配出各類顏色,同時對真空膜層起保護作用,再加上UV、PU的表面裝飾,效果更漂亮,厚度一般在8-10um,特殊情況可酌情加厚。真空鍍膜機技術教程。廣西光纖鍍膜空心陰極霍爾離子源怎么選【真空鍍膜之磁控濺射...

【真空鍍膜機真空系統檢漏法之真空計檢漏法】常用的真空計檢漏法主要是熱傳導真空計法與電離真空計法。以熱傳導真空計法為例，它是利用低壓下不同氣體種類的熱傳導能力差異與壓力的關系來分析真空系統泄漏情況。使用時，要保證被檢系統處于一個壓力不變的動態平衡狀態，將示漏氣體噴吹于可疑處（也可能用有機溶劑涂抹，但易吸附、堵塞漏孔，并造成污染）。一旦有漏孔存在，示漏氣體會通過漏孔進入被檢系統，因為示漏氣體的熱傳導能力與原系統的氣體成分差異da，會引起明顯的熱傳導性質變化，熱傳導真空計的儀表讀數在原有的平衡基礎上就會發生波動變化，根據這些確定漏孔位置并根據讀數變化換算漏率da小。相應地，電離真空計法利用的即是示漏...

【真空鍍膜機真空系統檢漏法之真空計檢漏法】常用的真空計檢漏法主要是熱傳導真空計法與電離真空計法。以熱傳導真空計法為例，它是利用低壓下不同氣體種類的熱傳導能力差異與壓力的關系來分析真空系統泄漏情況。使用時，要保證被檢系統處于一個壓力不變的動態平衡狀態，將示漏氣體噴吹于可疑處（也可能用有機溶劑涂抹，但易吸附、堵塞漏孔，并造成污染）。一旦有漏孔存在，示漏氣體會通過漏孔進入被檢系統，因為示漏氣體的熱傳導能力與原系統的氣體成分差異da，會引起明顯的熱傳導性質變化，熱傳導真空計的儀表讀數在原有的平衡基礎上就會發生波動變化，根據這些確定漏孔位置并根據讀數變化換算漏率da小。相應地，電離真空計法利用的即是示漏...

【真空鍍膜機清洗工藝之放電清洗】利用熱絲或電極作為電子源，在其相對于待清洗的表面加負偏壓可以實現離子轟擊的氣體解吸及某些碳氫化合物的去除。清洗效果取決于電極材料、幾何形狀及其與表面的關系。即取決于單位表面積上的離子數和離子能量，從而取決于有效電功率。在真空室中充入適當分壓力的惰性氣體(典型的如Ar氣)，可以利用兩個適當的電極間的低壓下的輝光放電產生的離子轟擊來達到清洗的目的。該方法中，惰性氣體被離化并轟擊真空室內壁、真空室內的其它結構件及被鍍基片，它可以使某些真空系統免除被高溫烘烤。如果在充入的氣體中加入氧氣，對某些碳氫化合物可以獲得更好的清洗效果。因為氧氣可以使某些碳氫化合物氧化生成易揮發性...

【真空鍍膜機真空系統檢漏法之真空計檢漏法】常用的真空計檢漏法主要是熱傳導真空計法與電離真空計法。以熱傳導真空計法為例，它是利用低壓下不同氣體種類的熱傳導能力差異與壓力的關系來分析真空系統泄漏情況。使用時，要保證被檢系統處于一個壓力不變的動態平衡狀態，將示漏氣體噴吹于可疑處（也可能用有機溶劑涂抹，但易吸附、堵塞漏孔，并造成污染）。一旦有漏孔存在，示漏氣體會通過漏孔進入被檢系統，因為示漏氣體的熱傳導能力與原系統的氣體成分差異da，會引起明顯的熱傳導性質變化，熱傳導真空計的儀表讀數在原有的平衡基礎上就會發生波動變化，根據這些確定漏孔位置并根據讀數變化換算漏率da小。相應地，電離真空計法利用的即是示漏...

【真空鍍膜機詳細資料】系統概述真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。常用于對半導體、光伏、電子、精密光學等行業的納米級表面處理。系統原理通過電子槍發射高壓電子轟擊坩堝中的待鍍靶材，使其在高真空下蒸發并沉積在被鍍基片上以獲得鍍膜。系統配置*自動化控制器:e-ControlPLC，是控制系統的硬件平臺。人機界面硬件:TPC1503工業級15寸觸摸式平板電腦，穩定可靠。人機界面軟件:NETSCADA組態軟件開發平臺，提供真空鍍膜機的控制和監視。空心陰極霍爾離子源采用無...

【不同類型鍍膜機應用范圍介紹】不同類型鍍膜機的適用范圍介紹1.磁控濺射鍍膜設備：應用于信息存儲領域，如磁信息存儲、磁光信息存儲等2.磁控濺射鍍膜機：應用于防護涂層，如飛機發動機的葉片、汽車鋼板、散熱片等3.磁控濺射鍍Al膜生產線：應用于太陽能利用領域，如太陽能集熱管、太陽能電池等4.AZO透明導電膜磁控濺射鍍膜生產線：應用于信息顯示領域，如液晶屏、等離子屏等5.觸摸屏連續式鍍膜生產線：應用于觸摸屏領域，如手機、電腦、MP4等數碼產品屏幕等。6.磁控中頻多弧離子鍍膜設備：應用于硬質涂層，如切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。7.PECVD磁控生產線：應用于集成電路制造，如薄膜電阻器、薄膜電容器、薄...

【真空鍍膜設備撿漏需注意】真空鍍膜設備檢漏是保證真空鍍膜設備真空度的一項檢查措施，簡稱檢漏，真空度的高低是直接影響到鍍膜效果的，所以檢漏是必不可少的。一、要確認漏氣到底的虛漏還是實漏。因為工件材料加熱后都會在不同程度上產生氣體，有可能誤以為是從外部流進的氣體，這就是虛漏，要排除這種情況。二、測試好真空室的氣體密封性能。確保氣密性能符合要求。三、檢查漏孔的da小，形狀、位置，漏氣的速度，制備出可解決方案并實施。四、確定檢測儀器的小可檢漏率和檢漏靈敏性，以da范圍的檢測出漏氣情況，避免一些漏孔被忽略，提高檢漏的準確性。五、把握檢漏儀器的反應時間和消除時間。把時間掌握好，保證檢漏儀器工作到位，時間少...

【真空鍍膜機真空系統檢漏法之真空計檢漏法】常用的真空計檢漏法主要是熱傳導真空計法與電離真空計法。以熱傳導真空計法為例，它是利用低壓下不同氣體種類的熱傳導能力差異與壓力的關系來分析真空系統泄漏情況。使用時，要保證被檢系統處于一個壓力不變的動態平衡狀態，將示漏氣體噴吹于可疑處（也可能用有機溶劑涂抹，但易吸附、堵塞漏孔，并造成污染）。一旦有漏孔存在，示漏氣體會通過漏孔進入被檢系統，因為示漏氣體的熱傳導能力與原系統的氣體成分差異da，會引起明顯的熱傳導性質變化，熱傳導真空計的儀表讀數在原有的平衡基礎上就會發生波動變化，根據這些確定漏孔位置并根據讀數變化換算漏率da小。相應地，電離真空計法利用的即是示漏...