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【真空鍍膜技術專業詞匯】真空鍍膜vacuum coating：在處于真空下的基片上制取膜層的一種方法。 基片substrate：膜層承受體。 試驗基片testing substrate：在鍍膜開始、鍍膜過程中或鍍膜結束后用作測量和（或）試驗的基片。 鍍膜材料coating material：用來制取膜層的原材料。 蒸發材料evaporation material：在真空蒸發中用來蒸發的鍍膜材料。 濺射材料sputtering material：有真空濺射中用來濺射的鍍膜材料。 膜層材料(膜層材質)film material：組成膜層的材料。 蒸發速率evaporation rate：在給定時間...

【真空鍍膜機常見故障之旋片泵故障及處理方法】 1、未做保養導致灰塵太多。真空鍍膜設備在鍍膜過程中容易產生da量灰塵，這些灰塵伴隨空氣容易混雜到泵油中，時間久了容易對轉子及泵腔造成磨損及破壞。 處理方法：如果灰塵不多，可以油過濾系統除掉灰塵；如果灰塵過多可以用除塵器配合油過濾系統除掉灰塵。 2、旋片式真空泵冒煙和噴油：指旋片式真空泵在運轉中排氣口冒煙或者噴油，冒煙。處理方法：冒煙闡明泵的進氣口外，包括管道、閥門、容器有修理的狀況。 3、噴油，闡明進氣口外有da量的漏點，以至是進氣口暴露da氣。處理方法：封住泵的進氣口使泵運轉，假如不噴油的話，闡明有漏點；排氣閥片損壞，檢查排氣閥片能否損壞，改換壞...

【真空鍍膜機清洗工藝之紫外線輻照清洗】 利用紫外輻照來分解表面上的碳氫化合物。例如，在空氣中照射15h就可產生清潔的玻璃表面。如果把適當預清洗的表面放在一個產生臭氧的紫外線源中．要不了幾分鐘就可以形成清潔表面（工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機理是：在紫外線照射下，污物分子受激并離解，而臭氧的生成和存在產生高活性的原子態氧。受激的污物分子和由污物離解產生的自由基與原子態氧作用．形成較簡單易揮發分子．如H203、CO2和N2．其反應速率隨溫度的增加而增加。 真空鍍膜機國內有哪些產商？貴州真空鍍膜機品牌【真空鍍膜設備設計原則及常用技術指標】 真空設備設計原則：(1)先功能，后結構...

【真空鍍膜之磁控濺射鍍膜】 磁控濺射對陰極濺射中電子使基片溫度上升過快的缺點加以改良,形成了電場和磁場方向相互垂直的特點。在正交的電磁場的作用下,電子以擺線的方式沿著靶表面前進,從而xianzhu地延長了電子的運動路程,增加了同工作氣體分子的碰撞幾率,提高了電子的電離效率。由于電子每經過一次碰撞損失一部分動能,經過多次碰撞后,喪失了能量成為“*終電子”進入離陰極靶面較遠的弱電場區,*后到達陽極時已經是能量消耗殆盡的低能電子,也就不再會使基片過熱。同時高密度等離子體被束縛在靶面附近,又不與基片接觸,這樣電離產生的正離子能十分有效地轟擊靶面,而基片又可免受等離子體的轟擊,因而基片溫度又可降...

【真空鍍膜機之卷繞機構設計中應考慮的問題】 ①提高卷繞速度的問題。卷繞速度即是帶狀基材運動的線速度，它是卷繞機構的一個主要技術指櫟。國內早期鍍膜機卷繞速度只有10m/min，現在也只有80m/min～120m/min，在國外日本的EW系列產品中，其卷繞速度已達到300m/min，德國L．H公司生產的鍍膜機已達到600m/min，可見隨著鍍膜技術的發展，卷繞速度有待提高。 ②帶狀基材的線速恒定問題。這一問題也很重要，因為只有卷繞機構保證帶狀基材的線速恒定，才能使基材上鍍層厚度均勻。這一點對制備帶狀基材的功能性膜（如電容器膜）尤為重要。 ③帶狀基材的跑偏和起褶問題。隨著卷繞速度的提高，帶狀基材在卷...

【真空鍍膜機之真空電鍍】真空電鍍是一種物理沉積現象。即在真空狀態下注入氬氣，氬氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的仿金屬表面層。 適用材料： 1、很多材料可以進行真空電鍍，包括金屬，軟硬塑料，復合材料，陶瓷和玻璃。其中*常見用于電鍍表面處理的是鋁材，其次是銀和銅。 2、自然材料不適合進行真空電鍍處理，因為自然材料本身的水分會影響真空環境。 工藝成本：真空電鍍過程中，工件需要噴涂，裝載，卸載和再噴涂，所以人力成本相當高，但是也取決于工件的復雜度和數量。 環境影響：真空電鍍對環境污染很小，類似于噴涂對環境的影響。 真空鍍膜機的相關資料。四川真空鍍膜機常見問題與解決辦法【...

【真空鍍膜的分類】真空鍍膜的鍍層結構一般為：基材、底漆、真空膜層、面漆，因靶材理化特性直接決定膜層的特性，根據膜層的導電與否，可分為導電真空鍍膜（VM）和不導電真空鍍膜（NCVM）兩種。 VM：一般用在化妝品類、NB類、3C類、汽配類按鍵、裝飾框、按鍵RING類飾品的表面處理，其表面效果與水電鍍相媲美，靶材一般為鋁、銅、錫、金、銀等。 NCVM：具有金屬質感、透明，但不導電，一般用在通訊類、3C類對抗擾要較高的機殼、裝飾框、按鍵件、RING類飾品的表面處理，其表面效果為水電鍍不可取代，靶材一般為銦、銦錫。三、擴散泵連續使用6個月以上，抽的速度會顯然變慢，當操作不當應拆去聯結水管，卸下電爐盤，...

【真空鍍膜機真空檢漏方法普及之熒光檢漏法】 熒光檢漏法首先需要將熒光材料溶于如丙tong等一些浸潤性能好、易于揮發的有機溶劑中，使之成為飽和溶液；然后將被檢的真空部件外表面浸泡到溶液中或涂抹到部件表面，這一過程中，為了提升效果、縮短浸泡時間，可以在抽真空或者加壓條件下對其進行浸泡。如果存在漏孔，熒光劑溶液會因毛細作用滲入到其中；qing除表面多余的溶液，待有機溶劑揮發后，熒光材料便會在漏孔中殘留下來；此時再用紫外線燈光照射，漏孔位置就會觀察到明顯的熒光點。 在進行紫外光源照射時，對于一些存在盲孔、表面不平的器件，可能也會存在殘留熒光材料，因此玻璃真空器件*好在背面進行照射觀察；為了提高對比...

【真空鍍膜設備設計原則及常用技術指標】 真空設備設計原則：(1)先功能，后結構。先給出指標參數、生產要求、功能；(2)先核xin后輔助。由內向外。先決定靶尺寸、靶基距；(3)先局部，后整體。再由整體，定局部。(4)先設計，后校核。由粗到細。 鍍膜機常用技術指標：鍍膜方法：CVD，PVD（蒸發、濺射、離子鍍、復合鍍）；被鍍工件的形狀、尺寸;工件架尺寸;真空室尺寸;生產方式:連續、半連續、周期式。生產周期。生產量。生產速率。技術參數;設備極限真空度、工作本底真空度工作真空度、工作氣氛;漏率、抽空時間、恢復真空時間。工作(烘烤)溫度;(熱處理爐、凍干機)膜厚不均勻程度;功率;*高電壓。 真空鍍膜...

【真空鍍膜設備設計原則及常用技術指標】 真空設備設計原則：(1)先功能，后結構。先給出指標參數、生產要求、功能；(2)先核xin后輔助。由內向外。先決定靶尺寸、靶基距；(3)先局部，后整體。再由整體，定局部。(4)先設計，后校核。由粗到細。 鍍膜機常用技術指標：鍍膜方法：CVD，PVD（蒸發、濺射、離子鍍、復合鍍）；被鍍工件的形狀、尺寸;工件架尺寸;真空室尺寸;生產方式:連續、半連續、周期式。生產周期。生產量。生產速率。技術參數;設備極限真空度、工作本底真空度工作真空度、工作氣氛;漏率、抽空時間、恢復真空時間。工作(烘烤)溫度;(熱處理爐、凍干機)膜厚不均勻程度;功率;*高電壓。 關于真空...

【真空鍍膜機之真空泵的安裝和指導】真空泵安裝指導 1、泵應安裝在地面結實堅固的場所，周圍應留有充分的余地，便于檢查、維護、保養。 2、泵底座下應保持地基水平，底座四角處建議墊減震橡皮或用螺栓澆制安裝，確保泵運轉平穩，振動小。 3、泵與系統的連接管道應密封可靠，對小泵可采用金屬管路連接密封墊采用耐油橡膠，對小泵可采用真空膠管連接，管道管徑不得小于泵吸氣口徑，且要求管路短而少彎頭。（焊接管路時應qing除管道中焊渣，嚴禁焊渣進入泵腔。） 4、在連接管路中，用戶可在泵進氣口上方安裝閥門及真空計，隨時可檢查泵的極限壓力。 5、按電動機標牌規定連接電源，并接地線和安裝合適規格的熔斷器及熱繼電器。 6、...

【不同類型鍍膜機應用范圍介紹】不同類型鍍膜機的適用范圍介紹 1. 磁控濺射鍍膜設備：應用于信息存儲領域，如磁信息存儲、磁光信息存儲等 2. 磁控濺射鍍膜機：應用于防護涂層，如飛機發動機的葉片、汽車鋼板、散熱片等 3. 磁控濺射鍍Al膜生產線：應用于太陽能利用領域，如太陽能集熱管、太陽能電池等 4. AZO透明導電膜磁控濺射鍍膜生產線：應用于信息顯示領域，如液晶屏、等離子屏等 5. 觸摸屏連續式鍍膜生產線：應用于觸摸屏領域，如手機、電腦、MP4等數碼產品屏幕等。 6. 磁控中頻多弧離子鍍膜設備：應用于硬質涂層，如切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。 7. PECVD磁控生產線：應用于集成電路制造，...

【真空鍍膜之絲網印刷】絲網印刷：通過刮板的擠壓，使油墨通過圖文部分的網孔轉移到承印物上，形成與原稿一樣的圖文。絲網印刷設備簡單、操作方便，印刷、制版簡易且成本低廉，適應性強。 常見的印刷品有：彩色油畫、招貼畫、名片、裝幀封面、商品標牌以及印染紡織品等。 適用材料： 幾乎所有的材料都可以絲網印刷，包括紙張，塑料，金屬，陶藝和玻璃等。 工藝成本：模具費用低，但是還是取決于顏色的數量，因為每一種顏色都要單獨制版。人力成本偏高，尤其當涉及到多彩印刷。 環境影響：淺色絲印油墨對環境影響較小，然而含有PVC和甲醛的油墨具有有害的化學物質，需及時回收和處理以防污染水資源。 真空鍍膜機常見故障及解決方法。河北...

【真空鍍膜機之卷繞機構設計中應考慮的問題】 ①提高卷繞速度的問題。卷繞速度即是帶狀基材運動的線速度，它是卷繞機構的一個主要技術指櫟。國內早期鍍膜機卷繞速度只有10m/min，現在也只有80m/min～120m/min，在國外日本的EW系列產品中，其卷繞速度已達到300m/min，德國L．H公司生產的鍍膜機已達到600m/min，可見隨著鍍膜技術的發展，卷繞速度有待提高。 ②帶狀基材的線速恒定問題。這一問題也很重要，因為只有卷繞機構保證帶狀基材的線速恒定，才能使基材上鍍層厚度均勻。這一點對制備帶狀基材的功能性膜（如電容器膜）尤為重要。 ③帶狀基材的跑偏和起褶問題。隨著卷繞速度的提高，帶狀基材在卷...

【真空鍍膜機清洗工藝之紫外線輻照清洗】 利用紫外輻照來分解表面上的碳氫化合物。例如，在空氣中照射15h就可產生清潔的玻璃表面。如果把適當預清洗的表面放在一個產生臭氧的紫外線源中．要不了幾分鐘就可以形成清潔表面（工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機理是：在紫外線照射下，污物分子受激并離解，而臭氧的生成和存在產生高活性的原子態氧。受激的污物分子和由污物離解產生的自由基與原子態氧作用．形成較簡單易揮發分子．如H203、CO2和N2．其反應速率隨溫度的增加而增加。 真空鍍膜機類型推薦。貴州鏡片真空鍍膜機【真空鍍膜機之電鍍工藝】利用電解作用使零件表面附著一層金屬膜的工藝，從而起到防止金屬...

【真空鍍膜之陽極氧化】陽極氧化：主要是鋁的陽極氧化，是利用電化學原理，在鋁和鋁合金的表面生成一層Al2O3（氧化鋁）膜。這層氧化膜具有防護性、裝飾性、絕緣性、耐磨性等特殊特性 適用材料： 鋁、鋁合金等鋁制品 工藝成本：生產過程中，水、電的消耗是相當da的，特別是在氧化工序。機器本身的熱耗，需要不停地用循環水進行降溫，噸電耗往往在1000度左右。 環境影響：陽極氧化在能效方面不算出色，同時在鋁電解生產中，陽極效應還會產生對da氣臭氧層造成破壞性副作用的氣體。 真空鍍膜機的相關資料。北京卷繞式真空鍍膜機【真空鍍膜機有哪些污染源】真空鍍膜機是由許多精密的零部件所組成的，這些零部件均經過許多機械加工流...

【真空鍍膜機真空系統檢漏法之真空計檢漏法】 常用的真空計檢漏法主要是熱傳導真空計法與電離真空計法。以熱傳導真空計法為例，它是利用低壓下不同氣體種類的熱傳導能力差異與壓力的關系來分析真空系統泄漏情況。使用時，要保證被檢系統處于一個壓力不變的動態平衡狀態，將示漏氣體噴吹于可疑處（也可能用有機溶劑涂抹，但易吸附、堵塞漏孔，并造成污染）。一旦有漏孔存在，示漏氣體會通過漏孔進入被檢系統，因為示漏氣體的熱傳導能力與原系統的氣體成分差異da，會引起明顯的熱傳導性質變化，熱傳導真空計的儀表讀數在原有的平衡基礎上就會發生波動變化，根據這些確定漏孔位置并根據讀數變化換算漏率da小。相應地，電離真空計法利用的即是示...

【如何減少真空鍍膜的灰塵】1、使用的源材料要符合必要的純度要求。2、樣品取出后放置環境要注意清潔的問題。3、鍍膜一段時間后，真空室內壁必須要清潔處理。4、清洗襯底材料，必須要做到嚴格合乎工藝要求。5、工作人員有專門的服裝，操作要戴手套、腳套等。6、適當的增加環境的濕度，有利于降低周圍環境的懸浮固體顆粒物。7、技術上明確允許的*da顆粒尺寸和單位面積顆粒物的數量的上限da致是多少。8、室內空氣流動性低、地面干凈，如果是裸露的水泥地，需要覆蓋處理。墻壁、屋頂不能使用一般的灰質涂料粉刷。真空鍍膜機的操作培訓。廣東真空鍍膜機價格【真空鍍膜機之電鍍工藝】利用電解作用使零件表面附著一層金屬膜的工藝，從...

【真空鍍膜機的鍍層與鍍膜原理】 A、原材料與基本原理： 　　原材料都是樹脂、聚合物、鐵氟隆、硅酮、丙烯酸、硅酸鹽等，輔料、配方與量度有所不同。例添加的乳化劑，不同的量相調和，乳化出來的狀態就不一樣，水狀、乳狀、膏狀都可以實現。這些物質經乳化破乳后，部份滲透或形成薄膜。 B、它們的特點和區別： 　　鍍層：滲透功能好(要視原材料顆粒da小)，表面光滑度更優，對漆面較多“毛細孔”、粗糙、重噴過漆、漆面本身較硬需要增加光亮度的歐美車系漆面比較適用。 　　鍍膜：而鍍膜產品添加了成膜助劑與固化劑，真空鍍膜廠家使其瞬間成膜，性質相應的發生了改變。例如硬度比封釉更高，對需要提升漆面硬度的漆面(如日韓車系)比較...

【真空鍍膜機之真空泵的安裝和指導】真空泵安裝指導 1、泵應安裝在地面結實堅固的場所，周圍應留有充分的余地，便于檢查、維護、保養。 2、泵底座下應保持地基水平，底座四角處建議墊減震橡皮或用螺栓澆制安裝，確保泵運轉平穩，振動小。 3、泵與系統的連接管道應密封可靠，對小泵可采用金屬管路連接密封墊采用耐油橡膠，對小泵可采用真空膠管連接，管道管徑不得小于泵吸氣口徑，且要求管路短而少彎頭。（焊接管路時應qing除管道中焊渣，嚴禁焊渣進入泵腔。） 4、在連接管路中，用戶可在泵進氣口上方安裝閥門及真空計，隨時可檢查泵的極限壓力。 5、按電動機標牌規定連接電源，并接地線和安裝合適規格的熔斷器及熱繼電器。 6、...

【真空鍍膜機清洗工藝之氮氣沖洗】 氮氣在材料表面吸附時，由于吸附能小，因而吸留表面時間極短.即便吸附在器壁上，也很容易被抽走。利用氮氣的這種性質沖洗真空系統，可以dada縮短系統的抽氣時間。如真空鍍膜機在放入da氣之前，先用干燥氮氣充入真空室沖刷一下再充入da氣，則下一抽氣循環的抽氣時間可縮短近一半，其原因為氮分予的吸附能遠比水氣分子小，在真空下充入氮氣后，氮分子先被真空室壁吸附了。由于吸附位是一定的，先被氮分子占滿了，其吸附的水分子就很少了，因而使抽氣時間縮短了。如果系統被擴散泵油噴濺污染了，還可以利用氮氣沖洗法來清洗被污染的系統.一般是一邊對系統進行烘烤加熱，一邊用氮氣沖洗系統，可將油污染...

【真空鍍膜機之真空電鍍】真空電鍍是一種物理沉積現象。即在真空狀態下注入氬氣，氬氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的仿金屬表面層。 適用材料： 1、很多材料可以進行真空電鍍，包括金屬，軟硬塑料，復合材料，陶瓷和玻璃。其中*常見用于電鍍表面處理的是鋁材，其次是銀和銅。 2、自然材料不適合進行真空電鍍處理，因為自然材料本身的水分會影響真空環境。 工藝成本：真空電鍍過程中，工件需要噴涂，裝載，卸載和再噴涂，所以人力成本相當高，但是也取決于工件的復雜度和數量。 環境影響：真空電鍍對環境污染很小，類似于噴涂對環境的影響。 真空鍍膜機廠家排名。貴州配分子泵的真空鍍膜機【真空鍍膜機...

【真空鍍膜機清洗工藝之紫外線輻照清洗】 利用紫外輻照來分解表面上的碳氫化合物。例如，在空氣中照射15h就可產生清潔的玻璃表面。如果把適當預清洗的表面放在一個產生臭氧的紫外線源中．要不了幾分鐘就可以形成清潔表面（工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機理是：在紫外線照射下，污物分子受激并離解，而臭氧的生成和存在產生高活性的原子態氧。受激的污物分子和由污物離解產生的自由基與原子態氧作用．形成較簡單易揮發分子．如H203、CO2和N2．其反應速率隨溫度的增加而增加。 真空鍍膜機品牌排行。江西實驗室真空鍍膜機【常見的真空材料表面上的污染物類型】 1、油脂：加工、裝配、操作時沾染上的潤滑劑、...

【如何減少真空鍍膜的灰塵】1、使用的源材料要符合必要的純度要求。2、樣品取出后放置環境要注意清潔的問題。3、鍍膜一段時間后，真空室內壁必須要清潔處理。4、清洗襯底材料，必須要做到嚴格合乎工藝要求。5、工作人員有專門的服裝，操作要戴手套、腳套等。6、適當的增加環境的濕度，有利于降低周圍環境的懸浮固體顆粒物。7、技術上明確允許的*da顆粒尺寸和單位面積顆粒物的數量的上限da致是多少。8、室內空氣流動性低、地面干凈，如果是裸露的水泥地，需要覆蓋處理。墻壁、屋頂不能使用一般的灰質涂料粉刷。真空鍍膜機的培訓資料。貴州真空鍍膜機什么品牌好【真空鍍膜機清洗工藝之真空加熱清洗】 將工件放置于常壓或真空中加...

【真空鍍膜設備的維修及保養方法】 1.真空鍍膜設備每完成200個鍍膜程序以上，應清潔工作室一次。 方法：用燒堿（NaOH）飽和溶液反復擦洗真空室內壁，（ 注意人體皮膚不可以直接接觸燒堿溶液，以免灼傷）目的是使鍍上去的膜料鋁（AL）與NaOH發生反應，反應后膜層脫落，并釋放出氫氣。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽閥內的污垢。 2.當粗抽泵（滑閥泵，旋片泵）連續工作一個月（雨季減半），需更換新油。 方法：擰開放油螺栓，放掉舊油，再將泵啟動數秒，使泵內的舊油完全排放出來。擰回放油螺栓，加入新油至額定量（油視鏡觀察）。連續使用半年以上，換油時應將油蓋打開，用布擦干凈箱內污垢。 3.在重新開機前，...

【真空鍍膜設備設計原則及常用技術指標】 真空設備設計原則：(1)先功能，后結構。先給出指標參數、生產要求、功能；(2)先核xin后輔助。由內向外。先決定靶尺寸、靶基距；(3)先局部，后整體。再由整體，定局部。(4)先設計，后校核。由粗到細。 鍍膜機常用技術指標：鍍膜方法：CVD，PVD（蒸發、濺射、離子鍍、復合鍍）；被鍍工件的形狀、尺寸;工件架尺寸;真空室尺寸;生產方式:連續、半連續、周期式。生產周期。生產量。生產速率。技術參數;設備極限真空度、工作本底真空度工作真空度、工作氣氛;漏率、抽空時間、恢復真空時間。工作(烘烤)溫度;(熱處理爐、凍干機)膜厚不均勻程度;功率;*高電壓。 電子束蒸...

【真空鍍膜對環境的基本要求】加工真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清潔處理很重要?；M入鍍膜室前均應進行認真的鍍前清潔處理，達到工件去油、去污和脫水的目的。 　　基片表面污染來自零件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、機油、拋光膏、油脂、汗漬等物;零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的氣體。真空鍍膜廠家這些污物基本上均可采用去油或化學清冼方法將其去掉。 　　對經過清洗處理的清潔表面，不能在da氣環境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底，可使碳氫化合物蒸氣的吸附減至*小。因為這些容器優先吸附碳氫化合物。對于高度不穩定的、對...

【常見的真空材料表面上的污染物類型】 1、油脂：加工、裝配、操作時沾染上的潤滑劑、切削液、真空油脂等； 2、酸、堿、鹽類物質：清洗時的殘余物質、手汗、水中的礦物質等； 3、表面氧化物：材料長期放置在空氣中或放置在潮濕空氣中所形成的表面氧化物； 4、水基類：操作時的手汗、吹氣時的水汽、唾液等； 5、拋光殘渣及環境空氣中的塵埃和其它有機物等。 清洗這些污染物的目的是為了改進真空鍍膜機的工作穩定性，使工作能夠更加順利的進行。清洗后的表面根據要求分為原子級清潔表面和工藝技術上的清潔表面兩類。　 在真空鍍膜機使用鍍膜材料鍍膜前，對鍍膜材料做簡單的表面清潔可以延長鍍膜機的使用壽命。因為各種污染物不僅使真空...

【真空鍍膜之磁控濺射】在陰極靶表面形成一正交電磁場，在此區電子密度高，進而提高離子密度，使得濺鍍率提高(一個數量級)，濺射速度可達0.1—1 um/min膜層附著力較蒸鍍佳，是目前*實用的鍍膜技術之一。其它有偏壓濺射、反應濺射、離子束濺射等鍍膜技術 濺鍍機設備與工藝濺鍍機由真空室，排氣系統，濺射源和控制系統組成。濺射源又分為電源和濺射qiang（sputter gun）。磁控濺射qiang分為平面型和圓柱型，其中平面型分為矩型和圓型，靶材料利用率30- 40%，圓柱型靶材料利用率>50% 濺射電源分為：直流（DC）、射頻（RF）、脈沖（pulse）， 直流：800-1000V（Max）導體...

【真空鍍膜機之輔助抽氣系統】真空腔各部分有連接閥，用來連接各抽氣泵浦。輔助抽氣系統：排氣系統為鍍膜機真空系統的重要部分，主要有由機械泵、增壓泵(主要介紹羅茨泵)、油擴散泵三da部分組成。此排氣系統采用“擴散泵+機械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。排氣流程為：機械泵先將真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空狀態，為擴散泵后繼抽真空提供前提，之后當擴散泵抽真空腔的時候，機械泵又配合油擴散泵組成串聯，以這樣的方式完成抽氣動作。真空鍍膜機的升級改造。廣東真空鍍膜機品牌【真空鍍膜機清洗工藝之紫外線輻照清洗】 利用紫外輻照來分解表面上的碳氫化合物。例如，在空氣中照射15h就可產生清潔...