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【光學鍍膜機的維護與保養之電子qiang安裝與維護】電子qiang蒸發源控制系統是由電子qiang燈絲電源、高壓電源、掃描電源、坩堝驅動電源、蒸發源等組成一個電子qiang控制電柜。 電子qiang控制電柜內含有高壓，在工作前必須保證柜門各個聯鎖裝置正常工作，非專業人員不得打開電柜門，電子qiang在工作時不得打開電柜門，整個電柜必須有良好的接地并與機臺接地連接。 電子qiang蒸發源安裝在真空室底板上，必須與底板有良好的接地效果，安裝蒸發源必須使用不銹鋼螺絲來固定，周邊200mm以內不得有導磁的物體，否則會影響到電子qiang的光斑成表，造成電子性能的不良。電子qiang檔板應盡量裝在蒸...

【光學鍍膜之蒸發源的類型和特點】 ①電阻加熱源：用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發物質 。電阻加熱源主要用于蒸發Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。 ②高頻感應加熱源：用高頻感應電流加熱坩堝和蒸發物質。 ③電子束加熱源：用電子束轟擊材料使其蒸發。適用于蒸發溫度較高（不低于2000℃）的材料。 特點：能在金屬、半導體、絕緣體甚至塑料、紙張、織物表面上沉積金屬、半導體、絕緣體、不同成分比的合金、化合物及部分有基聚合物等的薄膜，其適用范圍之廣是其它方法無法與之比擬的。可以不同的沉積速率、不同的基板溫度和不同的蒸氣分子入射角蒸鍍成膜，因而可...

【光學鍍膜法的應用之化學鍍膜法和物理鍍膜法】 浸鍍法是唯yi可以同時制作雙面膜的方法。不過，后來的一些鏡片設計要求，不需要雙面膜。因此，必須將另一面清洗掉，增加了成本和環保的負擔。 噴鍍法則是把配置好的膜溶液裝在噴qiang上，噴在玻璃表面，并烘干和定型。玻璃載體可以是移動或旋轉，以增加膜的均勻性。可鍍雙面或單面。以此方法延生的還有一種甩膠法。將溶液滴至鏡片中心，利用鏡片高速旋轉的離心力，將溶液均勻的“拋”在表面上。以現在的觀點來看，化學鍍膜的好處，在于其設備投資低，因此它仍然是鍍有機膜的一種常用且成本低廉的方法。 化學鍍膜法具有價格低，操作容易等優點，但也有相對污染較大，無法鍍多層膜的缺點。...

【光學鍍膜機電子qiang打火問題】 電子qiang在蒸鍍時，由于電子束中的電子與氣體分子和蒸發材料的蒸汽發生碰撞產生的離子轟擊帶負電高壓電極及其引線，即產生打火。另外，若這些帶負高壓電的部分有塵粒等雜物，會使該處電場集中了容易打火。故電子束蒸鍍設備的高壓電源都附有高壓自動滅弧復位裝置，在打火非常嚴重時才會自動切斷高壓，然后又自動恢復，切斷與恢復的時間愈短，愈不會影響蒸鍍工藝。 高壓引線應盡量短，并用接地良好的不銹鋼板屏蔽住，不要追求美觀把引線彎來彎去。 qiang頭金屬件和引線定期用細砂紙打光，然后用丙tong清洗干凈。上螺釘的螺孔定期用絲錐攻螺孔，以便螺釘上下方便并保證壓的很緊。 所有陶瓷...

【光學鍍膜之什么是蒸發鍍】通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發鍍膜。蒸發物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質蒸發。蒸發物質的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。 薄膜厚度可由數百埃至數微米。膜厚決定于蒸發源的蒸發速率和時（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關。對于大面積鍍膜，常采用旋轉基片或多蒸發源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發源到基片的距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏。 ...

【光學濾光片相關名詞解釋】 中心波長(CWL): 濾光片在實際應用中所使用的波長,如光源主峰值是850nm led燈,那需求的中心波長就是850nm。 峰值透過率(TP): 假設光初始值為100%,通過濾光片后有部分損耗了,通過光譜測量得出只有85%了,那就可以把這個濾光片的光學透過率定為(Tp)>80%。 半帶寬(FWHM): 簡單說就是*高透過率的1/2處所對應的波長,左右波長值相減,例如,峰值*好是90%,1/2就是45%,45%所對應的左右波長是875nm和825nm,那半帶寬就是50nm。 截止率(Blocking): 截止區所對應的透過率.由于要想透過率達到零,那是非常...

【光學鍍膜機是什么】光學鍍膜設備可鍍制層數較多的短波通、長波通、增透膜、反射膜、濾光膜、分光膜、帶通膜、介質膜、高反膜、彩se反射膜等各種膜系，能夠實現多層膜的膜系鍍膜，也能滿足如汽車反光玻璃、望遠鏡、眼鏡片、光學鏡頭、冷光杯等產品的鍍膜要求。配置不同的蒸發源、電子qiang和離子源及膜厚儀可鍍多種膜系，對金屬、氧化物、化合物及其他高熔點膜材皆可蒸鍍，并可在玻璃表面超硬鍍膜。應用于手機鏡頭、光學鏡頭、手機PET膜、手機玻璃后蓋板等。光學鍍膜機該如何維修。江西光馳2350光學鍍膜機靶材【光學鍍膜之CVD化學氣相沉積法反應可以分為哪些步驟】 (1)不同成份氣相前置反應物由主流氣體進來，以擴散機制傳...

【光學鍍膜之良好的薄膜需要具備哪些特性】 通俗的定義為在正常狀況下，其應用功能不會失效。想要達到這個目的，一般而言這層薄膜必須具有堅牢的附著力、很低的內應力、針kong密度很少、夠強的機械性能、均勻的膜厚、以及足夠的抗化學侵蝕性。薄膜的特性主要受到沉積過程、成膜條件、接口層的形成和基材的影響，隨后的熱處理亦扮演重要角色。 沉積的薄膜有內應力的存在，其來源為： (1)薄膜和基材之間的晶格失配 (2)薄膜和基材之間的熱膨脹系數差異 (3)晶界之間的互擠 光學鍍膜機真空度多少？上海900光學鍍膜機【鍍膜玻璃的主要產生法之真空蒸鍍法】真空蒸發鍍膜法（簡稱真空蒸鍍法，Vacuum Evapo...

【光學薄膜的特點】表面光滑，膜層之間的界面呈幾何分割；膜層的折射率在界面上可以發生躍變，但在膜層內是連續的；可以是透明介質，也可以是吸收介質；可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的。實際應用的薄膜要比理想薄膜復雜得多。這是因為：制備時，薄膜的光學性質和物理性質偏離大塊材料，其表面和界面是粗糙的，從而導致光束的漫散射；膜層之間的相互滲透形成擴散界面；由于膜層的生長、結構、應力等原因，形成了薄膜的各向異性；膜層具有復雜的時間效應。不同物質對光有不同的反射、吸收、透射性能，光學薄膜就是利用材料對光的這種性能，并根據實際需要制造的。光學鍍膜機真空四個階段。貴州光學鍍膜機簡介【光學真空鍍膜機如何保養】 ...

【光學薄膜的研究新進展之金剛石薄膜及類金剛石薄膜】金剛石被認為是自然界中*硬的物質。在自然界中，碳以3種同位素異型體的形式存在，非晶態的炭黑、六方片狀結構的石墨和立方體的金剛石。金剛石薄膜具有高硬度、高密度、熱導率高、全波段透光率高、高絕緣、抗輻射、化學惰性強和耐高溫、彈性模量大，摩擦系數jin為0.05。金剛石薄膜的高熱導率、高摩擦系數和良好的透光性也使其常作為導彈的整流罩材料。 類金剛石(diamond-likecarbon，DLC)薄膜是碳的一種非晶態，它含有大量的sp3鍵，硬度超過金剛石硬度20%的絕緣硬質無定形碳膜，被稱為類金剛石膜，類金剛石膜具有高硬度、高電阻率、熱傳導率高、...

【光學鍍膜之什么是蒸發鍍】通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發鍍膜。蒸發物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質蒸發。蒸發物質的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。 薄膜厚度可由數百埃至數微米。膜厚決定于蒸發源的蒸發速率和時（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關。對于大面積鍍膜，常采用旋轉基片或多蒸發源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發源到基片的距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏。 ...

【光學真空鍍膜機之電子蒸鍍】 電子qiang蒸鍍系統的原理是利用電子qiang所射出之電子束轟擊待鍍材料,將高能電子射束之動能轉為熔化待鍍材料之熱能,其擁有較佳之熱轉換效率,同時也可得到較高的鍍膜速率,而且利用電流大小控制熱電子數目也可精密調控其蒸發速率。電子束的來源主要由電子qiang系統提供,電子qiang的操作原理類似于陰極射線管,它的電源輸出功率可從1kw到1000kw,使得電子束的動能達到30kev 以上。當陰極燈絲被施以低壓電流而達到白熱化時,電子將從燈絲表面釋出而向四方發射,且隨燈射溫度提高而增加其釋放量,此為熱電子。 一般低功率電子qiang之電子束的折射方向是靠永久磁鐵的磁場...

【光學鍍膜之良好的薄膜需要具備哪些特性】 通俗的定義為在正常狀況下，其應用功能不會失效。想要達到這個目的，一般而言這層薄膜必須具有堅牢的附著力、很低的內應力、針kong密度很少、夠強的機械性能、均勻的膜厚、以及足夠的抗化學侵蝕性。薄膜的特性主要受到沉積過程、成膜條件、接口層的形成和基材的影響，隨后的熱處理亦扮演重要角色。 沉積的薄膜有內應力的存在，其來源為： (1)薄膜和基材之間的晶格失配 (2)薄膜和基材之間的熱膨脹系數差異 (3)晶界之間的互擠 光學鍍膜機的工作原理。遼寧光學鍍膜機光柵不穩怎樣處理【光學鍍膜之CVD化學氣相沉積法反應可以分為哪些步驟】 (1)不同成份氣相前置反應...

【常見的光學鍍膜材料】常見的光學鍍膜材料有以下幾種： 1、氟化鎂材料特點：無se四方晶系粉末，純度高，用其制備光學鍍膜可提高透過率，不出崩點。 2、二氧化硅材料特點：無se透明晶體，熔點高，硬度大，化學穩定性好。純度高，用其制備高質量Si02鍍膜，蒸發狀態好，不出現崩點。按使用要求分為紫外、紅外及可見光用。 3、氧化鋯材料特點 白se重質結晶態，具有高的折射率和耐高溫性能，化學性質穩定，純度高，用其制備高質量氧化鋯鍍膜，不出崩點 光學鍍膜機日常怎么維護？北京光學鍍膜機 采購【光學鍍膜之減反射膜技術】 1）鍍膜前準備：鏡片在接受鍍膜前必須進行分子級的預清洗。在清洗槽中分別放置各種清洗液，并采用超...

【光學鍍膜機是什么】光學鍍膜設備可鍍制層數較多的短波通、長波通、增透膜、反射膜、濾光膜、分光膜、帶通膜、介質膜、高反膜、彩se反射膜等各種膜系，能夠實現多層膜的膜系鍍膜，也能滿足如汽車反光玻璃、望遠鏡、眼鏡片、光學鏡頭、冷光杯等產品的鍍膜要求。配置不同的蒸發源、電子qiang和離子源及膜厚儀可鍍多種膜系，對金屬、氧化物、化合物及其他高熔點膜材皆可蒸鍍，并可在玻璃表面超硬鍍膜。應用于手機鏡頭、光學鏡頭、手機PET膜、手機玻璃后蓋板等。磁控濺射光學鍍膜機是什么？天津900光學鍍膜機【光學鍍膜的好處】光學鍍膜由薄的分層介質構成的，通過界面傳播光束的一類光學介質材料。光學薄膜的應用始于20世紀30年代...

【光學鍍膜之鍍腱反射膜技術】有機鏡片鍍膜的難度要比玻璃鏡片高。玻璃材料能夠承受300 °C以上的高溫，而有機鏡片在超過100°C時便會發黃，隨后很快分解。 可以用于玻璃鏡片的減反射膜材料通常采用氟化鎂（MgF2），但由于氟化鎂的鍍膜工藝必須在高于200°C的環境下進行，否則不能附著于鏡片的表面，所以有機鏡片并不采用它。 20世紀90年代以后，隨著真空鍍膜技術的發展，利用離子束轟擊技術，使得膜層與鏡片的結合，膜層間的結合得到了改良。而且提煉出的象氧化鈦，氧化鋯等高純度金屬氧化物材料可以通過蒸發工藝鍍于樹脂鏡片的表面，達到良好的減反射效果。 ling先的真空鍍膜設備及工藝解決方案供應商-裕康源光學...

【鍍膜玻璃的主要產生法之真空蒸鍍法】真空蒸發鍍膜法（簡稱真空蒸鍍法，Vacuum Evaporation) 是指在一定的真空條件下，利用高溫加熱蒸鍍材料（金屬合金或金屬氧化物）到一定溫度條件下， 使其原子或分子從表面汽化逸出，形成蒸汽流，并飛行濺射到玻璃基板表面凝結形成固態薄膜的方法。 由于真空蒸鍛法的主要物理過程是通過加熱蒸發材料而產生，所以又稱熱蒸發法。蒸發源作為蒸發裝置的關鍵部件，大多數蒸發材料都要求在1000-2000℃的高溫下蒸發。真空蒸鍍法按蒸發源的不同可分為電阻法、電子束蒸發法、高頻感應法和激光蒸發法等。目前，采用真空蒸鍍法生產鍍膜玻璃的均是采用間歇式生產。 光學鍍膜機的工作原理...

【減反射膜的原理】 減反射膜是以光的波動性和干涉現象為基礎的。二個振幅相同，波長相同的光波疊加，那么光波的振幅增強；如果二個光波原由相同，波程相差，如果這二個光波疊加，那么互相抵消了。 1）振幅條件：膜層材料的折射率必須等于鏡片片基材料折射率的平方根。 2）位相條件：膜層厚度應為基準光的1/4波長。d=λ/4 λ=555nm時，d=555/4=139nm 對于減反射膜層，許多眼鏡片生產商采用人眼敏感度較高的光波（波長為555nm)。當鍍膜的厚度過薄（〈139nm),反射光會顯出淺棕黃色，如果呈藍色則表示鍍膜的厚度過厚（ 〉139nm）。鍍膜反射膜層的目的是要減少光線的反射，但并不可能做到沒有反...

【光學鍍膜之抗污膜】抗污膜（頂膜） 鏡片表面鍍有多層減反射膜后，鏡片特別容易產生污漬，而污漬會破壞減反射膜的減反射效果。在顯微鏡下，我們可以發現減反射膜層呈孔狀結構，所以油污特別容易浸潤至減反射膜層。解決的方法是在減反射膜層上再鍍一層具有抗油污和抗水性能的頂膜，而且這層膜必須非常薄，以使其不會改變減反射膜的光學性能。 當減反射膜層完成后，可使用蒸發工藝將氟化物鍍于反射膜上。抗污膜可將多孔的減反射膜層覆蓋起來，并且能夠將水和油與鏡片的接觸面積減少，使油和水滴不易粘附于鏡片表面，因此也稱為防水膜。 對于有機鏡片而言，理想的表面系統處理應該是包括抗磨損膜、多層減反射膜和頂膜抗污膜的復合膜。通常抗磨...

【光學濾光之按光譜波段區分片】光學濾光片，簡單來說就是用來選擇性過濾所需要輻射波段的光學器件。基片多為白玻璃、石英、有色玻璃或塑料樹脂等光學材料。光學濾光片的分類方式可以按光譜分布、光譜類型、帶寬、波長、膜層特性、行業應用特點等方式分類。 按光譜波段區分濾光片：通過光譜的分布長短（即光譜所處區域）把濾光片分為：紫外濾光片，可見光濾光片，近紅外濾光片，紅外濾光片，遠紅外濾光片。 光譜波長范圍如下： 紫外濾光片180~400nm 可見光濾光片400~700nm 近紅外濾光片700~3000nm 紅外濾光片3000nm~10um以上 國產光學鍍膜機廠商推薦。上海光學鍍膜機的功率【鍍膜玻璃的主要產生法...

【光學鍍膜的好處】光學鍍膜由薄的分層介質構成的，通過界面傳播光束的一類光學介質材料。光學薄膜的應用始于20世紀30年代。現代，光學薄膜已廣fan用于光學和光電子技術領域，制造各種光學儀器。 主要的光學薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等。它們在國民經濟和**建設中得到了廣 fan的應用，獲得了科學技術工作者的日益重視。例如采用減反射膜后可使復雜的光學鏡頭的光通量損失成十倍地減小，采用高反射比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高，利用光學薄膜可提高硅光電池的效率和穩定性。 光學鍍膜機大概多少錢一臺？山東光學鍍膜機開發【光學鍍膜之抗污膜】抗污膜（頂膜） 鏡片表面鍍有多層減...

【光學鍍膜之何為物理蒸鍍】物理蒸鍍就是把物質加熱揮發，然后將其蒸氣沉積在預定的基材上。由于蒸發源須加熱揮發，又是在真空中進行，故亦稱為熱蒸鍍或真空蒸鍍。 其可分為三個步驟 (1)凝態的物質被加熱揮發成汽相 (2)蒸汽在具空中移動一段距離至基材 (3)蒸汽在基材上冷卻凝結成薄膜 膜厚的量測方法有哪些呢， 大致上可分為原位量測、離位量測兩類：原位星測系指鍍膜進行中量測，普遍使用在物理qi相沉積，如微天平、光學、電阻量測。 離位量測系指鍍膜完成后量測，對電鍍膜的行使較為普遍，具有了解電鍍效率的目的，如質量、剖面計、掃描式電子顯微鏡。 光學鍍膜機類型推薦。吉林納米真空光學鍍膜機【常...

【光學真空鍍膜機如何保養】 一、定期更換擴散泵油，擴散泵油使用一段時間，約二個月，因在長期高溫環境，雖然較高真空時才啟動擴散泵，但仍殘留氧氣及其它成份使之與擴散泵油起反應，擴散泵油在高溫下也可能產生裂解，使其品質下降，而延長抽氣時間。在我們認為時間延長得太多時，應予更換； 二、真空泵。機械泵油、維持泵油在使用二個月，油質會發生變化。因油可能抽入水分、雜質及其它原因，而使用油粘性變差，真空下降，故需要更換。如為新設備，在使用頭半個月即應更換，因在磨合期，油含磨合鐵粉較多，會加劇磨損。 三、要注意清潔衛生。定期將設備及其周圍環境衛生搞好，常保持設備內外清潔，將設備周圍環境整理有條，有一個好的工作...

【光學鍍膜之CVD化學氣相沉積法反應可以分為哪些步驟】 (1)不同成份氣相前置反應物由主流氣體進來，以擴散機制傳輸基板表面。理想狀況下，前置物在基板上的濃度是零，亦即在基板上立刻反應，實際上并非如此。 (2)前置反應物吸附在基板上，此時仍容許該前置物在基板上進行有限程度的表面橫向移動。 (3)前置物在基板上進行化學反應，產生沉積物的化學分子，然后經積聚成核、遷移、成長等步驟，*后聯合一連續的膜。 (4)把多余的前置物以及未成核的氣體生成物去吸附。 (5)被去吸附的氣體，以擴散機制傳輸到主流氣相，并經傳送排出。 光學鍍膜機廠家qian十。貴州光馳真空光學鍍膜機怎么樣【光學鍍膜機的清...

【光學鍍膜在航天上的應用】在科學衛星表面上鍍鋁和氧化硅膜，衛星的溫度可控制在10～40℃范圍。空間飛行器的主要能源是硅太陽能電池，通常在太陽能電池的熔石英蓋片上淀積熱性能控制濾光片。該濾光片只允許透過可轉變成電能的太陽可見光和近紅外區的輻射，反射有害的紅外區熱量。 新一代氣象衛星對紅外帶通濾光片的光譜控制提出了很高的要求，對濾光片片的指標要求并非簡單的數值指標，而是一個由內框和外框組成的框圖，氣象衛星的光學遙感儀器通常利用多個紅外光譜通道進行探測，3.5～4.0ptm是*為常用的光譜通道之一。為了提高儀器的光譜信噪比，提升對目標的探測與識別能力，濾光片的光譜控制水平是一關鍵因素。對帶通膜系...

【光學鍍膜機的清洗】設備使用一個星期后，因鍍料除鍍在工件表面外，亦因無定向性而工作室內的襯板上鍍料，并越鍍越厚，該層膜厚因組織、繞疏松，吸收大量氣體而造成真空鍍膜設備抽氣越來越慢。此時，應對工作室及襯板進行清洗，如不必要拆落來的部件，可用砂紙打磨干凈，襯板可浸泡在氫氟酸水溶液里，氫氟酸和水的比例看需要浸泡時間長短以及不傷襯板為原則。 注：襯板必須烘干水份才能安裝，烘干前，襯板的水分盡量抹干，工作架等部件用砂紙清潔后，需要把真空室的所有灰塵清理干凈，此可用吸塵器吸干凈灰塵。*后安裝襯板時，真空室及襯板都需要用酒精控拭干凈。 因使用電子qiang及離子源輔助鍍膜，可能會造成清潔困難，可使用...

【光學鍍膜之抗污膜】抗污膜（頂膜） 鏡片表面鍍有多層減反射膜后，鏡片特別容易產生污漬，而污漬會破壞減反射膜的減反射效果。在顯微鏡下，我們可以發現減反射膜層呈孔狀結構，所以油污特別容易浸潤至減反射膜層。解決的方法是在減反射膜層上再鍍一層具有抗油污和抗水性能的頂膜，而且這層膜必須非常薄，以使其不會改變減反射膜的光學性能。 當減反射膜層完成后，可使用蒸發工藝將氟化物鍍于反射膜上。抗污膜可將多孔的減反射膜層覆蓋起來，并且能夠將水和油與鏡片的接觸面積減少，使油和水滴不易粘附于鏡片表面，因此也稱為防水膜。 對于有機鏡片而言，理想的表面系統處理應該是包括抗磨損膜、多層減反射膜和頂膜抗污膜的復合膜。通常抗磨...

【新型光學薄膜的典型應用】現代科學技術特別是激光技術和信息光學的發展，光學薄膜不jin用于純光學器件，在光電器件、光通信器件上也得到廣fan的應用。近代信息光學、光電子技術及光子技術的發展，對光學薄膜產品的長壽命、高可靠性及高qiang度的要求越來越高，從而發展了一系列新型光學薄膜及其制備技術，并為解決光學薄膜產業化面臨的問題提供了quan面的解決方案。包括高qiang度激光器、金剛石及類金剛石膜、軟X射線多層膜、太陽能選擇性吸收膜和光通信用光學膜等。光學鍍膜機機組是怎樣的？廣東光學鍍膜機二手值多少錢【減反射膜的透過量】 反射光占入射光的百分比取決于鏡片材料的折射率，可通過反射量的公式進行...

【光學真空鍍膜機之電子蒸鍍】 電子qiang蒸鍍系統的原理是利用電子qiang所射出之電子束轟擊待鍍材料,將高能電子射束之動能轉為熔化待鍍材料之熱能,其擁有較佳之熱轉換效率,同時也可得到較高的鍍膜速率,而且利用電流大小控制熱電子數目也可精密調控其蒸發速率。電子束的來源主要由電子qiang系統提供,電子qiang的操作原理類似于陰極射線管,它的電源輸出功率可從1kw到1000kw,使得電子束的動能達到30kev 以上。當陰極燈絲被施以低壓電流而達到白熱化時,電子將從燈絲表面釋出而向四方發射,且隨燈射溫度提高而增加其釋放量,此為熱電子。 一般低功率電子qiang之電子束的折射方向是靠永久磁鐵的磁場...

【光學鍍膜在航天上的應用】在科學衛星表面上鍍鋁和氧化硅膜，衛星的溫度可控制在10～40℃范圍。空間飛行器的主要能源是硅太陽能電池，通常在太陽能電池的熔石英蓋片上淀積熱性能控制濾光片。該濾光片只允許透過可轉變成電能的太陽可見光和近紅外區的輻射，反射有害的紅外區熱量。 新一代氣象衛星對紅外帶通濾光片的光譜控制提出了很高的要求，對濾光片片的指標要求并非簡單的數值指標，而是一個由內框和外框組成的框圖，氣象衛星的光學遙感儀器通常利用多個紅外光譜通道進行探測，3.5～4.0ptm是*為常用的光譜通道之一。為了提高儀器的光譜信噪比，提升對目標的探測與識別能力，濾光片的光譜控制水平是一關鍵因素。對帶通膜系...