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【光學炫彩紋理的關鍵先生——光刻膠】 光刻膠是指通過紫外光、準分子激光、電子束、離子束、X射線等光源的照射或輻射,其溶解度發生變化的耐蝕刻半流體材料。*早時期光刻膠是應用在印刷工業領域，到20世紀20年代才被逐漸用在印刷電路板領域，50年代開始用于半導體工業領域。20世紀50年代末，伊士曼柯達Eastman Kodak和施普萊 Shipley 公司分別設計出適合半導體工業需要的正膠和負膠。 光刻膠是利用曝光區和非曝光區的溶解速率差來實現圖像的轉移。具體從流程上來解釋，由于光刻膠具有光化學敏感性，可利用其進行光化學反應，將光刻膠涂覆半導體、導體和絕緣體上，經曝光、顯影后留下的部分對底層起保護...

【光學真空鍍膜機如何保養】 一、定期更換擴散泵油，擴散泵油使用一段時間，約二個月，因在長期高溫環境，雖然較高真空時才啟動擴散泵，但仍殘留氧氣及其它成份使之與擴散泵油起反應，擴散泵油在高溫下也可能產生裂解，使其品質下降，而延長抽氣時間。在我們認為時間延長得太多時，應予更換； 二、真空泵。機械泵油、維持泵油在使用二個月，油質會發生變化。因油可能抽入水分、雜質及其它原因，而使用油粘性變差，真空下降，故需要更換。如為新設備，在使用頭半個月即應更換，因在磨合期，油含磨合鐵粉較多，會加劇磨損。 三、要注意清潔衛生。定期將設備及其周圍環境衛生搞好，常保持設備內外清潔，將設備周圍環境整理有條，有一個好的工作...

【檢測光學鍍膜機鍍膜膜厚均勻性的方法】一種檢測光學鍍膜機鍍膜膜厚均勻性的方法,包括下列步驟:第一步:設計本發明雙腔濾光片膜系;第二步:模擬計算膜層厚度變化對所訴雙腔濾光片峰值透過率及中心波長的影響;第三步:計算尖峰極值點透過率比值與膜層光學厚度比值,中心波長與總光學厚度,兩組數學關系.第四步:根據第三步的數學關系,求解計算膜厚的公式;第五步:從工件盤中心到邊緣擺放數量大于2的基片,沉積本發明所述雙腔濾光片,測量出每一片的中心波長和尖峰極值透過率,用第四步的公式計算出每一片兩種膜層厚度,得到鍍膜機鍍膜膜厚度分布即膜厚均勻性.實驗表明:本發明可以快速準確獲得光學鍍膜機鍍膜膜厚均勻性數據,為鍍膜機鍍...

【光學真空鍍膜機如何保養】 一、定期更換擴散泵油，擴散泵油使用一段時間，約二個月，因在長期高溫環境，雖然較高真空時才啟動擴散泵，但仍殘留氧氣及其它成份使之與擴散泵油起反應，擴散泵油在高溫下也可能產生裂解，使其品質下降，而延長抽氣時間。在我們認為時間延長得太多時，應予更換； 二、真空泵。機械泵油、維持泵油在使用二個月，油質會發生變化。因油可能抽入水分、雜質及其它原因，而使用油粘性變差，真空下降，故需要更換。如為新設備，在使用頭半個月即應更換，因在磨合期，油含磨合鐵粉較多，會加劇磨損。 三、要注意清潔衛生。定期將設備及其周圍環境衛生搞好，常保持設備內外清潔，將設備周圍環境整理有條，有一個好的工作...

【光學鏡片鍍膜的膜形核過程之單層生長模式（層狀生長）】單層生長模式（Frank一VanderMerwe型），又稱之為弗蘭克一范德摩夫型，是層狀生長模式。該類型的生長便是業內說的理想的外延生長，作為同質外延，如若是異質外延，在引入失配位錯之后，便形成外延生長。而在晶體失配位錯發生前，那些沉積的原子是根據基片的晶體同期來排列的。通常把這種結構稱作“膺結構”。這種膜生長一般是在光學鏡片鍍膜時，沉積的原子和基底原子之間的相互作用力很da，da過沉積的原子之間的聚合力的情況下，沉積的原子會構成一種二維的簿層堆積，堆積成層狀的鍍膜生長模式。光學鍍膜設備為什么會越來越慢？重慶光學鍍膜設備企業【單層反射膜】線...

【光學鏡片鍍膜的膜形核過程之單層生長模式（層狀生長）】單層生長模式（Frank一VanderMerwe型），又稱之為弗蘭克一范德摩夫型，是層狀生長模式。該類型的生長便是業內說的理想的外延生長，作為同質外延，如若是異質外延，在引入失配位錯之后，便形成外延生長。而在晶體失配位錯發生前，那些沉積的原子是根據基片的晶體同期來排列的。通常把這種結構稱作“膺結構”。這種膜生長一般是在光學鏡片鍍膜時，沉積的原子和基底原子之間的相互作用力很da，da過沉積的原子之間的聚合力的情況下，沉積的原子會構成一種二維的簿層堆積，堆積成層狀的鍍膜生長模式。光學光學鍍膜設備制造商。廣西生產型研究用光學鍍膜設備【光譜特性不良...

【光學鍍膜加工需要注意什么】當光線進入不同傳遞物質時（如由空氣進入玻璃），大約有5%會被反射掉，在光學瞄準鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失到達30%至40%。現代光學透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個瞄準鏡如果加以適當鍍膜，光線透穿率可達95%，鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍紫se或是紅se，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠se或暗紫se。 光學鍍膜機增透膜增加透射光強度的實質是作為電磁波的光波在傳播在過程中，在不同介質的分界面上，由于邊界條件的不同，改變了其能量的分布，對于單層薄膜來說，當增透膜...

【光學鏡片鍍膜的膜形核過程之單層生長模式（層狀生長）】單層上的形核生長模式（Stranki-Krastanov型），又稱作斯特朗斯基一克拉斯坦諾型，是層島混合模式。光學鏡片鍍膜按這種方式形成時，首先于基底上形成具有膺結構的單層膜（層狀生長），接著于單層膜上生成三維的形核生長（島狀生長）。以這種模式形成鍍膜的材料與基片的組合較少。這種膜生長一般是在真空鍍膜的基底原子和沉積原子的相互作用力大，加上沉積原子本身的凝聚力也大的情況下，鍍膜就按這種方式來形成。 光學鏡片鍍膜可作防反射或防眩光處理，這樣的鍍膜可以有效助于鏡片的使用壽命延長的同時，光學鏡片鍍膜的便利性和保護性也是非常出se的。鍍上合適的材料...

【減反射的原理】光具有波粒二相性，即從微觀上既可以把它理解成一種波、又可以把他理解成一束高速運動的粒子增透膜的原理是把光當成一種波來考慮的，因為光波和機械波一樣也具有干涉的性質。在鏡頭前面涂上一層增透膜（一般是氟化鈣，微溶于水），如果膜的厚度等于紅光，在增透膜中波長的四分之一時，那么在這層膜的兩側反射回去的紅光就會發生干涉，從而相互抵消，人們在鏡頭前將看不到一點反光，因為這束紅光已經全部穿過鏡頭了。 以簡單的單層增透膜為例。設膜的厚度為 e ，當光垂直入射時，薄膜兩表面反射光的光程差為 2ne，由于在膜的上、下表面反射時都有相位突變 ，結果沒有附加的相位差，兩反射光干涉相消時應滿足：2ne=(...

【光學鍍膜破邊、炸裂不良改善對策】一般的鍍膜會對基片加熱，由干基片是裝架在金屬(鋁、銅、不銹鋼)圈，碟內，由干鏡圈或碟片與鏡片(基片)的熱膨脹系數不一致，冷卻過程中會造成鏡片的破邊或炸裂。有些大鏡片，由干出置時的溫度較高，與室溫的溫差較大，鏡片的執應力作用造成鏡片炸烈或破邊有些零件邊緣倒邊的形狀容易造成卡圈而破邊。 如何改善對策: 1.夾具(鏡圈、碟片)的設計，在尺寸配合上要合理，充分考慮制造誤差帶來的影響。 2.注意鏡圈、碟片的變形，已經變形的夾具不能使用。 3.選用合適的夾具材料(非導磁材料、不生銹、耐高溫不變形)，不銹鋼較為理想(熱變形系數小)，就是加工難度大，價格貴。 4.對于大鏡片應...

【光學鏡片鍍膜的膜形核過程之單層生長模式（層狀生長）】單層上的形核生長模式（Stranki-Krastanov型），又稱作斯特朗斯基一克拉斯坦諾型，是層島混合模式。光學鏡片鍍膜按這種方式形成時，首先于基底上形成具有膺結構的單層膜（層狀生長），接著于單層膜上生成三維的形核生長（島狀生長）。以這種模式形成鍍膜的材料與基片的組合較少。這種膜生長一般是在真空鍍膜的基底原子和沉積原子的相互作用力大，加上沉積原子本身的凝聚力也大的情況下，鍍膜就按這種方式來形成。 光學鏡片鍍膜可作防反射或防眩光處理，這樣的鍍膜可以有效助于鏡片的使用壽命延長的同時，光學鏡片鍍膜的便利性和保護性也是非常出se的。鍍上合適的材料...

【光學鍍膜破邊、炸裂不良改善對策】一般的鍍膜會對基片加熱，由干基片是裝架在金屬(鋁、銅、不銹鋼)圈，碟內，由干鏡圈或碟片與鏡片(基片)的熱膨脹系數不一致，冷卻過程中會造成鏡片的破邊或炸裂。有些大鏡片，由干出置時的溫度較高，與室溫的溫差較大，鏡片的執應力作用造成鏡片炸烈或破邊有些零件邊緣倒邊的形狀容易造成卡圈而破邊。 如何改善對策: 1.夾具(鏡圈、碟片)的設計，在尺寸配合上要合理，充分考慮制造誤差帶來的影響。 2.注意鏡圈、碟片的變形，已經變形的夾具不能使用。 3.選用合適的夾具材料(非導磁材料、不生銹、耐高溫不變形)，不銹鋼較為理想(熱變形系數小)，就是加工難度大，價格貴。 4.對于大鏡片應...

【如何改善由于設計膜系導致的光譜特性不良】膜系設計時的膜厚、折射率允差太小，試制時的分光曲線在技術要求的邊緣，制造中稍有偏差就導致分光不良。膜系設計中選用膜料的折射率應與使用膜料使用機臺吻合。膜系設計盡量考慮厚度與折射率允差(各層的厚度及折射率允許偏差1%-2%)，特別是敏感層，要有一定的允差(1%)。控制厚度與實際測試厚度的" tooling"值，要準確,并經常確認調整。設計的技術要求必須高于圖紙提出的技術要求，設計時考慮基片變異層折射率變化帶來的影響，設計時考慮膜料的折射率変化及膜料之間、膜料與基片之間的匹配。光學鍍膜設備怎么保養？山東集美光學鍍膜設備【光學炫彩紋理的關鍵先生——光刻膠】 ...

【霍爾離子源的工作原理】工作氣體或反應氣體由陽極底部進入放電區內參與放電，放電區內由磁鐵產生如圖所示的錐形磁場，在放電區的上部安裝有補償或中和陰極。根據工作要求該型號離子源的工作氣體為氬氣，反應氣體可以使用氮氣、氧氣或碳氫等多種氣體。放電區上部陰極燈絲加熱后產生熱電子，當離子源的陽極施以正電位+U時，電子在電場作用下向陽極運動，由于磁場的存在，電子繞磁力線以螺旋軟道前進，與工作氣體或反應氣體的原子發生碰撞使其離化。離子在霍爾電場的作用下被加速獲得相應的能量，與燈絲熱陰極發射的部分熱電子形成近等離子體，由等離子體源發射出來與基片發生作用達到清洗和輔助鍍膜的目的。光學鍍膜設備升級改造。遼寧新款光學...

【關于反射式濾光片】在手機領域另一個應用較多的是紅外截止濾光片又稱IR-cut Filter。從原理分有反射式濾光片和吸收式濾光片兩種，它們采用了不同的玻璃基材。 反射式濾光片原理是在普通光學玻璃上交替鍍多層高折射率光學膜，達到可見光波段的高透（400-630nm），近紅外波段光線的截止（700-1100nm），截止部分干擾成像質量的近紅外光，因為通過反射方式截止紅外光線，所以容易產生二次反射，產生雜光和鬼影。 吸收式濾光片主要以藍玻璃為基材，通過藍玻璃中光吸收物質來過濾紅外光，同時通過一面鍍紅外截止膜，一面鍍增透膜來同時提升紅外的截止性能和可見光的透過率，從下圖反射率對比圖可以看出藍玻璃...

【炫彩的搬運工——UV轉印技術】 在完成母模制作的基礎之上，在較硬承載板材聚碳酸酯PC、聚甲基丙烯酸甲酯PMMA上制作出可放入轉印設備上的復制模具，即可開始炫彩紋理的轉印工序。 工序流程如下： ---機臺上以玻璃或大理石材料為模座，模座上根據不同復制模具尺寸固定安裝模具（模具上有排列方式和紋路效果）； ---轉印設備的自動滴膠噴嘴會根據產品的用膠量預設好噴在模具上的光刻膠，膠層上面覆蓋菲林片（膜片）； ---機臺在完成覆蓋膜片工序后由人為確認擺放位置，然后進入到滾壓區，把膜片和膠水進行滾壓； ---機臺進入到固化區，由產品所需光固能量照射進行固化； ---機臺旋轉到剝離區，把膜片進行剝離； ...

【炫彩的搬運工——UV轉印技術】 在完成母模制作的基礎之上，在較硬承載板材聚碳酸酯PC、聚甲基丙烯酸甲酯PMMA上制作出可放入轉印設備上的復制模具，即可開始炫彩紋理的轉印工序。 工序流程如下： ---機臺上以玻璃或大理石材料為模座，模座上根據不同復制模具尺寸固定安裝模具（模具上有排列方式和紋路效果）； ---轉印設備的自動滴膠噴嘴會根據產品的用膠量預設好噴在模具上的光刻膠，膠層上面覆蓋菲林片（膜片）； ---機臺在完成覆蓋膜片工序后由人為確認擺放位置，然后進入到滾壓區，把膜片和膠水進行滾壓； ---機臺進入到固化區，由產品所需光固能量照射進行固化； ---機臺旋轉到剝離區，把膜片進行剝離； ...

【光譜特性不良產生的原因】膜系設計時的膜厚、折射率允差太小，試制時的分光曲線在技術要求的邊緣，制造中稍有偏差就導致分光不良。設計的膜料折射率與實際的折射率有差異,或發生了變異。實被的中心波長(膜厚)與希望達到的中心波長(膜厚)有差異,或發生了変異。( tooling值(也有F值)有偏差)。制造中出了差錯;如膜料用錯、程序用錯、預熔時沒關擋板等。工藝條件改變:真空度、充氧星、加熱溫度、蒸發速率、基片旋轉速度、離子輔助條件等。材料變更,如不同廠家生產的同種光學材料(基片材料和膜料)在光學性能化學性能有所不同(有時同廠家不同生產批次也有不同),生產過程中(特別是大批量生產)材料突然變更(末作論證),...

【光學鍍膜的目的】： &反射率的提高或透射率的降低 &反射率的降低或透射率的提高 &分光作用：中性分光、變se分光、偏極光分光 &光譜帶通、帶止及長波通或短波通之濾光作用 &相位改變 &液晶顯示功能之影顯 &se光顯示、se光反射、偽chao及有價證券之防止 &光波的引導、光開關及集體光路 a. 在膜層中，波的干涉結果，如R%, T%都是與膜質本身和兩邊界邊的折射率率有關系，相位變化也是如此。 b. 由于干涉作用造成的反射率有時升高，有時反而降低，都要視磨蹭的折射率高于或低于基板折射率而定。若Nf>Ns,則反射率會提高（Ns為基底），若Nf

【鍍膜玻璃的主要產生法之真空磁控濺射法】磁控濺射法的生產方式包括間歇式和連續式生產法，其中連續式生產法又可分為水平和垂直連續式生產兩種。其中，水平連續式生產法是玻璃基片在水平輸送過程中完成全部加工工藝的生產方式，以具有3個濺射室的雙端機。 磁控濺射鍍膜的優點主要有：①對靶材的面積和形狀不作要求，且可實現大面積鍍膜，且膜層均勻性好、膜厚可控、濺射工藝重復性好；②可用的膜材廣fan，只要能做成靶材的任何材料都可實現濺射，因此可制備絕大多數材料的薄膜，包括合金和化合物等；③薄膜與基片的附著力強，膜層純度高、致密；④成膜速度快，生產效率高。 光學鍍膜設備升級改造。河南新款光學鍍膜設備【多層反射膜】在...

【什么是薄膜干涉】薄膜可以是透明固體、液體或由兩塊玻璃所夾的氣體薄層。入射光經薄膜上表面反射后得第yi束光，折射光經薄膜下表面反射，又經上表面折射后得第二束光，這兩束光在薄膜的同側，由同一入射振動分出，是相干光，屬分振幅干涉。若光源為擴展光源(面光源)，則只能在兩相干光束的特定重疊區才能觀察到干涉，故屬定域干涉。對兩表面互相平行的平面薄膜，干涉條紋定域在無窮遠，通常借助于會聚透鏡在其像方焦面內觀察;對楔形薄膜，干涉條紋定域在薄膜附近。 實驗和理論都證明，只有兩列光波具有一定關系時，才能產生干涉條紋，這些關系稱為相干條件。薄膜的想干條件包括三點： 兩束光波的頻率相同; 束光波的震動方向相同; 兩...

【如何清洗光學鍍膜機】設備使用一個星期后，因鍍料除鍍在工件表面外，亦因無定向性而工作室內的襯板上鍍料，并越鍍越厚，該層膜厚因組織、繞疏松，吸收大量氣體而造成真空鍍膜設備抽氣越來越慢。此時，應對工作室及襯板進行清洗，如不必要拆落來的部件，可用砂紙打磨干凈，襯板可浸泡在氫氟酸水溶液里，氫氟酸和水的比例看需要浸泡時間長短以及不傷襯板為原則。 因此，襯板必須烘干水份才能安裝，烘干前，襯板的水分盡量抹干，工作架等部件用砂紙清潔后，需要把真空室的所有灰塵清理干凈，此可用吸塵器吸干凈灰塵。安裝襯板時，真空室及襯板都需要用酒精控拭干凈。如使用電子qiang及離子源輔助鍍膜，可能會造成清潔困難，可使用噴沙等方法...

【鍍膜玻璃的主要產生法之真空蒸鍍法】真空蒸發鍍膜法（簡稱真空蒸鍍法，Vacuum Evaporation) 是指在一定的真空條件下，利用高溫加熱蒸鍍材料（金屬合金或金屬氧化物）到一定溫度條件下， 使其原子或分子從表面汽化逸出，形成蒸汽流，并飛行濺射到玻璃基板表面凝結形成固態薄膜的方法。 由于真空蒸鍛法的主要物理過程是通過加熱蒸發材料而產生，所以又稱熱蒸發法。蒸發源作為蒸發裝置的關鍵部件，大多數蒸發材料都要求在1000-2000℃的高溫下蒸發。真空蒸鍍法按蒸發源的不同可分為電阻法、電子束蒸發法、高頻感應法和激光蒸發法等。目前，采用真空蒸鍍法生產鍍膜玻璃的均是采用間歇式生產。 光學鍍膜設備真空度多...

【光學薄膜的定義】 光學薄膜的定義是∶涉及光在傳播路徑過程中,附著在光學器件表面的厚度薄而均勻的介質膜層,通過分層介質膜層時的反射、透(折)射和偏振等特性,以達到我們想要的在某一或是多個波段范圍內的光的全部透過或光的全部反射或偏振分離等各特殊形態的光.。 光學薄膜系指在光學元件或duli基板上,制鍍上或涂布一層或多層介電質膜或金屬膜或這兩類膜的組合,以改變光波之傳遞特性,包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改變.故經由適當設計可以調變不同波段元件表面之穿透率及反射率,亦可以使不同偏振平面的光具有不同的特性.。 一般來說,光學薄膜的生產方式主要分為干法和濕法的生產工藝.所謂的干式就是沒有液...

【光學鏡片鍍膜的膜形核過程之單層生長模式（層狀生長）】單層上的形核生長模式（Stranki-Krastanov型），又稱作斯特朗斯基一克拉斯坦諾型，是層島混合模式。光學鏡片鍍膜按這種方式形成時，首先于基底上形成具有膺結構的單層膜（層狀生長），接著于單層膜上生成三維的形核生長（島狀生長）。以這種模式形成鍍膜的材料與基片的組合較少。這種膜生長一般是在真空鍍膜的基底原子和沉積原子的相互作用力大，加上沉積原子本身的凝聚力也大的情況下，鍍膜就按這種方式來形成。 光學鏡片鍍膜可作防反射或防眩光處理，這樣的鍍膜可以有效助于鏡片的使用壽命延長的同時，光學鏡片鍍膜的便利性和保護性也是非常出se的。鍍上合適的材料...

【光學真空鍍膜機的應用】光學真空鍍膜機無論對于手機，數碼產品，還是衛浴都有同樣的裝飾性要求產品，光學鍍膜通過底層鍍制顏se膜和透明介質多層膜實現多種顏se，se調和金屬光澤，并能配有絲印，熱轉印，鐳雕和拉絲工藝，得到多種se調的炫彩光澤，光學鍍膜加強條紋和圖案的立體視覺，它還能提高真空鍍膜的性能，并通過提高設備產率和穩定性，以及降低材料消耗。 光學真空鍍膜機使用范圍略為廣fan，除3C產業外，也適用于其他數碼產品，電器，衛浴，醫療等塑料或金屬件的裝飾及功能薄膜上加上AF、AS涂層，提升光滑度。光學真空鍍膜機可鍍制層數較多的短波通、長波通、增透膜，反射膜、濾光膜、分光膜、介質膜、高反膜、帶通膜、...

【霍爾離子源的工作原理】工作氣體或反應氣體由陽極底部進入放電區內參與放電，放電區內由磁鐵產生如圖所示的錐形磁場，在放電區的上部安裝有補償或中和陰極。根據工作要求該型號離子源的工作氣體為氬氣，反應氣體可以使用氮氣、氧氣或碳氫等多種氣體。放電區上部陰極燈絲加熱后產生熱電子，當離子源的陽極施以正電位+U時，電子在電場作用下向陽極運動，由于磁場的存在，電子繞磁力線以螺旋軟道前進，與工作氣體或反應氣體的原子發生碰撞使其離化。離子在霍爾電場的作用下被加速獲得相應的能量，與燈絲熱陰極發射的部分熱電子形成近等離子體，由等離子體源發射出來與基片發生作用達到清洗和輔助鍍膜的目的。光學鍍膜設備使用時，需要注意哪些問...

【光學薄膜的應用前景】光電信息產業中*有發展前景的通訊、顯示和存儲三大類產品都離不開光學薄膜，如投影機、背投影電視機、數碼照相機、攝像機、DVD，以及光通訊中的DWDM、GFF濾光片等，光學薄膜的性能在很大程度上決定了這些產品的*終性能。光學薄膜正在突破傳統的范疇，越來越廣fan地滲透到從空間探測器、集成電路、生物芯片、激光器件、液晶顯示到集成光學等各學科領域中，對科學技術的進步和全球經濟的發展都起著重要的作用，研究光學薄膜物理特性及其技術已構成現代科技的一個分支——薄膜光學。光學薄膜技術水平已成為衡量一個國家光電信息等高新技術產業科技發展水平的關鍵技術之一。 增透減反AR膜，主要也是...

【入射光的反射定律】照射到任何表面的光遵守光的反射、折射定律。表面平整的物體（這里以可以透光的玻璃為例）放置在空氣中，有一束光照射前表面時，將在入射點O 發生反射和折射。普通玻璃的反射率在8%左右，存在著眩光刺眼和透射影象的清晰度低等問題，甚至造成環境的不協調。在平板顯示、光伏發電、汽車玻璃、攝像鏡頭等領域均存在減反射（Anti －Reflectance，簡稱AR）的需求。 AR膜又稱增量膜，其主要功能是減少或消除透鏡、棱鏡、平面鏡等光學表面的反射光，從而增加這些元件的透光量。AR膜是應用*廣、產量*大的一種光學膜，很多領域必須鍍膜，否則無法達到應用的要求。如由18塊透鏡組成的35m...

【光學薄膜的特點分類】主要的光學薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等,它們在國民經濟和**建設中得到廣fan的應用,獲得了科學技術工作者的日益重視.例如采用減反射膜后可使復雜的光學鏡頭的光通量損失成十倍的減小;采用高反射膜比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高;利用光學薄膜可提高硅電池的效率和穩定性. *簡單的光學薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質膜層.在這種情況下,可以用光的干涉理論來研究光學薄膜的光學性質.當一束單se光平面波入射到光學薄膜上時,在它的兩個表面上發生多次反射和折射,反射光和折射光的方向有反射定律和折射定律給出,反射光和折射光的振幅大小則由菲涅...