【如何改善由于設計膜系導致的光譜特性不良】膜系設計時的膜厚、折射率允差太小,試制時的分光曲線在技術要求的邊緣,制造中稍有偏差就導致分光不良。膜系設計中選用膜料的折射率應與使用膜料使用機臺吻合。膜系設計盡量考慮厚度與折射率允差(各層的厚度及折射率允許偏差1%-2%),特別是敏感層,要有一定的允差(1%)。控制厚度與實際測試厚度的" tooling"值,要準確,并經常確認調整。設計的技術要求必須高于圖紙提出的技術要求,設計時考慮基片變異層折射率變化帶來的影響,設計時考慮膜料的折射率変化及膜料之間、膜料與基片之間的匹配。光學鍍膜設備升級改造。天津玻璃光學鍍膜設備廠家【光學鍍膜技術的未來前景】我國的光...
【光學鍍膜出現劃痕(膜傷)如何處理】劃痕是指膜面內外有道子,膜內的稱劃痕,膜外的稱膜傷。這也是鍍膜品質改善中的一個頑癥,雖然很清楚產生的原因和改善方法但難以**。 產生原因: 膜內的劃痕: 1.前工程外觀不良殘留,有些劃痕在鍍膜前不容易發現,前工程檢驗和鍍前上傘檢查都不容易發現,而在鍍膜后會將劃痕顯現。 2.各操作過程中的作業過失造成鏡片劃痕。 3.鏡片擺放太密,搬運過程中造成互相磕碰形成劃痕。鏡片的擺放器具、包裝材料造成鏡片表面擦傷。超聲波清洗造成的傷痕。 膜外傷痕(膜傷) 1.鏡片的擺放器具、包裝材料造成的膜傷。 2.鍍后超聲波清洗造成的膜傷。 3.各作業過程作業過失造成的膜傷。 改善思路...
【磁控濺射光學鍍膜設備及鍍膜方法】設備包含真空鍍膜室、磁控濺射靶組件、立式旋轉鼓,真空鍍膜室為立式圓筒形結構,立式旋轉鼓位于真空鍍膜室內,繞垂直軸線旋轉,立式旋轉鼓中心設置有旋轉密封箱,旋轉密封箱內設置有膜厚測量儀表,旋轉密封箱的上部連接有旋轉軸,旋轉密封箱內的氣氛與真空鍍膜室隔離。多組磁控濺射靶組件設置在立式旋轉鼓wai圍的真空鍍膜室的側壁上。鍍膜方法包括將需要鍍膜的工件裝卡到鍍膜設備的立式旋轉鼓的側面,對鍍膜設備抽真空;轉動立式旋轉鼓達到設定的轉速;啟動射頻離子源;交替啟動第一種材料的磁控靶靶和第二種材料的磁控靶,按工藝要求鍍制膜層。 錦成國泰光學鍍膜設備怎么樣?山西光學鍍膜設備廠家【鍍...
【光譜分光不良的具體情況】分光不良分為二種情況:一是全部膜系鍍制完成后,經測試分光不良,此類不良主要按六節所述方法處理,一般減反膜難以補救。但對于高反膜、帶通光膜等可以通過加層的方法補救。二是鍍制中途中斷(包括發現錯誤中斷)造成的分光不良,一般都可以通過后續努力補救。后方法正確,補救的成功率比較高中斷的原因形式不一: ①停電 ②機器故障 ③人為中斷(發現錯誤、疑問后中斷) 中斷后信息: (一)知道鍍到第幾層,已鍍各層的膜厚; (二)知道到第幾層,*后一層膜的膜厚不確定; (三)不知道鍍了多少。 紅外光學鍍膜設備制造商。湖北全自動光學鍍膜設備【減反射的原理】光具有波粒二相性,即從微觀上既可以...