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Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優先領導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術的3D微納加工系統基礎上進一步擴大產品組合實現多樣化，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe雙光子灰度光刻系統QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創建的工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創作工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造...

Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說，在納米級、微米級以及中尺度結構上，可以直接生產用于工業批量生產的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。歡迎咨詢雙光子灰度光刻技術多強大，如需了解詳情請咨詢Nan...

Nanoscribe的全球頭一次創造工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公...

Nanoscribe帶領全球高精度微納米3D打印 。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統生產商，擁有多項**技術，為全球客戶提供整套硬件，軟件，打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統生產商，擁有多項專項技術，為全球客戶提供整套硬件，軟件，打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點，結合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料，開發并制作真正意義上的高精度3D微納結構，適用于生命科學領域的應用，如設計和定制微型生物醫學設備的原型制作。更多灰度光刻技術，歡迎您致電Nanoscribe中國分...

Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說，在納米級、微米級以及中尺度結構上，可以直接生產用于工業批量生產的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統。Nanoscribe雙光子灰度光刻系統Quantum X適用于制造微光學衍射以及折射元件。德國高分辨率灰度光刻3D微納加工Quantum X shape...

近年來，利用雙光子聚合對聚合物類傳統光刻膠的3D飛秒激光打印技術已日臻成熟，其高精度、高度可設計性和維度可控性已經在平行技術中排名在前。與此同時，如何更有效地將微納結構功能化，也逐漸成為各種微納加工技術的研究重點。在現階段，對于3D飛秒激光打印技術而言，具體來說就是利用其加工的高度可設計性來實現微納結構的功能化和芯片化，并使這些結構能夠更好地集成器件，從而達到理想的應用目的。微凹透鏡陣列結構是光學器件中的一種常見組件，具有較強的聚焦和成像能力。以往制備此類結構的方法有熱回流、灰度光刻、干法刻蝕和注射澆鑄等。受加工手段的限制，傳統的微透鏡陣列往往是在1個平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結構...

QuantumX新型超高速無掩模光刻技術的重要部分是Nanoscribe獨有專項的雙光子灰度光刻技術（2GL?）。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業生產上的加工模具。Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統技術要點在于：這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態聚焦定位達到精細同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素...

Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體。基于2PP微納加工技術方面的專業知識，Nanoscribe為頂端科學研究和工業創新提供強大的技術支持，并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫學工程和集成光子學技術等不同領域的發展。“我們非常期待加入CELLINK集團，共同探索雙光子聚合技術在未來所帶來的更大機遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler說道。Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結構增材制造**，一直致力于開發和生產和無掩模光刻系統，以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創新科技企業的中，有超...

傳感器對可控技術的重要性，在眾多領域都是顯而易見的，無論是從簡單的家用電器，還是到可穿戴設備，甚至到航空應用，只有控制良好的流程才有被優化的可能。理想的傳感器應該具有高敏感度，不易故障，并且易于集成到流程中等優點。光纖端面的微型傳感器在這個方面具有巨大的潛力。這些傳感器空間占有率小，可以輕松多路復用，并且不需要額外的外部能源供應。對于這些基于光纖的傳感器的加工，雙光子聚合技術已被證明是其完美的搭檔。事實上，任何設計模型都能在微觀尺寸上被實現。然而，大多數設計都是靜態的，打印出來的部件在被加工出來后不能進行進一步的活動。更多灰度光刻技術，歡迎您致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上...

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統QuantumX的中心是Nanoscribe獨jia專li的雙光子灰度光刻技術。這種具有創新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業生產上的加工模具。德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展LASERWorldofPhotonics上發布了全新工業級雙光子灰度光刻微納打印系統QuantumX，并榮獲創新獎。該系統是世界上No.1基于雙光子灰度光刻技術（2GL?）的精密加工微納米打印系統，可應用于折射和衍射微光學。微納3D打印和灰度光刻技術有什么區別？江蘇進口灰度光刻系統 Na...

雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現多級衍射光學元件，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產母版工具。 Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件...

納米紋理在納米技術中起著越來越重要的作用。近期的研究表明，可以通過空間調節其納米級像素的高度來進一步增強其功能。但是，實現該概念非常具有挑戰性，因為它需要對納米像素進行“灰度”打印，其中，納米像素高度的精度需要控制在幾納米之內。只有少數幾種方法（例如，灰度光刻或掃描束光刻）可以滿足這種嚴格的要求，但通常其成本較高，并且它們中的大多數需要化學開發過程。因此，具有高垂直和水平分辨率的可重構灰度納米像素打印技術受到高度追捧。雙光子灰度光刻技術多強大，如需了解詳情請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。湖北高精度灰度光刻設備 QuantumX新型超高速無掩模光刻技術的重...

國際上，激光直寫設備是光掩模制備的主要工具，尤其在高世代TFT-Array掩模的平面圖形，面積可達110英寸（瑞典MICRONIC）單價高于1.5億元/套，制備一個線寬分辨率1.5微米的110吋光掩模單價500萬RMB；然而，這種激光直寫設備并不適用于微納3Ｄ形貌結構和深紋圖形制備。已有的基于藍光405nm直接成像光刻（DIL）適合光刻分辨率較低的圖形，也不適用于3D結構的灰度光刻。因此，面向柔性光電子材料與器件的需求，必須攻克大面積3D形貌的微結構的高效高精度制備，解決海量數據高效率轉化、高精度數據迭代與疊加曝光，高速率飛行直寫技術的難題。基于雙光子灰度光刻技術 (2GL ?)的Quantu...

基于雙光子聚合(2PP)，一種提供比較高精度和完整設計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術，Nanoscribe認為直接激光寫入系統是微加工的比較好選擇幾乎任何，在面積達25cm2的區域上都具有亞微米級精度。Nanoscribe的聯合創始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示，該公司正在通過其新機器為科學和工業用途的晶圓級高精度微制造設定新標準。“雖然QuantumX已經通過雙光子灰度光刻技術推動了平面微光學器件的超快速制造，但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為高效可靠的工具用于研究實驗室和工業...

Nanoscribe的Quantum X打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術 (2GL ?)的Quantum X打印系統可以實現一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學元件，并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續的拓撲。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統，Quantum X可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產的流水線工業程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業程序...

Nanoscribe是卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的子公司，開發并提供用于納米、微米和中尺度的3D打印機以及光敏材料和工藝解決方案。其口號是：“我們讓小物件變得重要”，公司創始人開發出一種技術，對智能手機、手持設備和醫療技術領域至關重要的3D打印產品。通過基于雙光子聚合（2PP）的3D打印機投入市場，他們已經為全球的大學和新興行業提供了新的解決方案，致力于3D微打印生命科學研究以及納米級3D打印光學，甚至利用他們的技術來開發創新的設備，例如用于類固醇洗脫的3D微支架人工耳蝸。根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beer's定律對當今的無...

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統QuantumX，Nanoscribe的全球頭一次創建的工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創作工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫學研究中心的科學家們新研發的微型內窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優先的自由...

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統QuantumX的中心是Nanoscribe獨jia專li的雙光子灰度光刻技術（2GL®）。這種具有創新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業生產上的加工模具。這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態聚焦定位達到準同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的性能與雙光子聚合的jing確性和靈活性*結合，使其同時具...

經過10年的市場銷售，Nanoscribe已幫助了許多科學和工業領域的開拓者和創新的帶領者，例如，為ICT生產DOE，微光學以及光子引線鍵合。他們的新IP-Visio在30個國家/地區擁有1,000多個用戶，受到業界的強烈關注。2019年6月該公司推出了一款新型的機器QuantumX，使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件，尺寸可小至200微米。根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用...

灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區域完全曝透，而某些區域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態的光刻膠結構（如下圖4所示，八邊金字塔結構）。微透鏡陣列也是類似，可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態。需要注意，灰度光刻方法獲得的微透鏡陣列的表面粗糙度相比于熱回流和噴墨法獲得的透鏡要大的多，約為Ra=100nm，前兩者可以會的Ra=50nm的球面。微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似，但是原理不同，我們常見的微納3D打印技術是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術，利用該技術我們理論上可以獲得任意想要的結構，不光是微透鏡陣列結構（...

Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說，在納米級、微米級以及中尺度結構上，可以直接生產用于工業批量生產的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公...

Nanoscribe 的Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。Photonic Professional GT2 結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及非常廣的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中，超過1,000個開創性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的特別好證明。如果了解雙光子灰度光刻技術，敬請咨詢N...

Quantum X shape在3D微納加工領域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結構應用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL ?)。全新的Quantum X shape的高精度有賴于其高能力的體素調制比和超精細處理網格，從而實現亞體素的尺寸控制。此外，受益于雙光子灰度光刻對體素的微調，該系統在表面微結構的制作上可達到超光滑，同時保持高精度的形狀控制。它不只是應用于生物醫學、微光學、MEMS、微流道、表面工程學及其他很多領域中器件的快速原型制作的理想工具，同時也成為基于晶圓的小結構單元的批量生產的簡易工具。通過系統集成觸控屏控制打印文件來很大程度提高實用性。通過系統自帶的nano...

在計算成像領域中有一個重要的分支，即光場成像。而光場成像中的中心光學元件，即為微透鏡陣列。其材質為透明玻璃，表面刻有很多微小的透鏡，組成陣列結構，用來成像。目前比較成熟的制作石英微透鏡的工藝是光刻膠制作圖形配合刻蝕的方法，但該方法存在著各種各樣的問題。常用的光刻膠制作圖形配合刻蝕的方法在透鏡的設計時需通過掩膜板圖形確定，無法自由調節，且成本高，周期長。這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態聚焦定位達到準同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的性能與雙光子聚合的jing...

全新的Quantum X無掩模光刻系統能夠數字化制造高精度2維和2.5維光學元件。 作為世界上頭一個雙光子灰度光刻系統，在充分滿足設計自由的同時，一步制造具有光學質量表面以及高形狀精度要求的微光學元件，達到所見即所得。全新的Nanoscribe Quantum X系統適用于工業生產中所需手板和模具的定制化精細加工。該無掩模光刻系統顛覆了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級衍射光學元件的傳統制作工藝。而且Quantum X提供了完全的設計自由度、高速的打印效率、以及增材制造復雜結構超光滑表面所需的高精度。快速、準確的增材制造工藝極大地縮短了設計迭代周期，實現了低成本的微納加工。Nanoscribe...

近年來，實現微納尺度下的3D灰度光刻結構在包括微機電（MEMS）、微納光學及微流控研究領域內備受關注，良好的線性側壁灰度結構可以很大程度上提高維納器件的靜電力學特性，信號通訊性能及微流通道的混合效率等。相比一些獲取灰度結構的傳統手段，如超快激光刻蝕工藝、電化學腐蝕或反應離子刻蝕等，灰度直寫圖形曝光結合干法刻蝕可以更加方便地制作任意圖形的3D微納結構。該方法中，利用微鏡矩陣（DMD）開合控制的激光灰度直寫曝光表現出更大的操作便捷性、易于設計等特點，不需要特定的灰度色調掩膜版，結合軟件的圖形化設計可以直觀地獲得灰度結構。如需了解更多全新工業級雙光子灰度光刻微納打印系統Quantum X的內容，請咨...

QuantumX新型超高速無掩模光刻技術的中心是Nanoscribe獨有的雙光子灰度光刻技術（2GL?）。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業生產上的加工模具。這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態聚焦定位達到精細同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀...

Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統，用于快速原型制作和晶圓級批量生產，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。該系統是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業激光直寫系統，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。Quantum X shape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要，這對于科研和工業生產領域應用有著重大意義。全新Quantum X shape作為Nanoscribe工業級無掩膜光刻系統Quantum X產品系列的第二臺設備，可實現在25 cm2面積內打印任...

在計算成像領域中有一個重要的分支，即光場成像。而光場成像中的中心光學元件，即為微透鏡陣列。其材質為透明玻璃，表面刻有很多微小的透鏡，組成陣列結構，用來成像。目前比較成熟的制作石英微透鏡的工藝是光刻膠制作圖形配合刻蝕的方法，但該方法存在著各種各樣的問題。常用的光刻膠制作圖形配合刻蝕的方法在透鏡的設計時需通過掩膜板圖形確定，無法自由調節，且成本高，周期長。這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態聚焦定位達到準同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的性能與雙光子聚合的jing...

經過10年的市場銷售，Nanoscribe已幫助了許多科學和工業領域的開拓者和創新的帶領者，例如，為ICT生產DOE，微光學以及光子引線鍵合。他們的新IP-Visio在30個國家/地區擁有1,000多個用戶，受到業界的強烈關注。2019年6月該公司推出了一款新型的機器QuantumX，使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件，尺寸可小至200微米。根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用...