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靶坯是高速離子束流轟擊的目標材料，屬于濺射靶材的**部分，涉及高純金屬、晶粒取向調控。在濺射鍍膜過程中，靶坯被離子撞擊后，其表面原子被濺射飛散出來并沉積于基板上制成電子薄膜。背板主要起到固定濺射靶材的作用，涉及焊接工藝。 按材質分類，靶材可分為常規金屬靶材，貴金屬靶材，稀土金屬靶材，非金屬靶材，合金濺射靶材，陶瓷濺射靶材等。按外形尺寸分，靶材可分為圓柱形、長方形、正方形板靶和管靶。靶材的制備工藝按金屬、非金屬類區別，制備過程中除嚴格控制成分、尺寸之外，對材料的純度、熱度處理條件及成型加工方法等亦需嚴格控制。靶材的制備方法主要有熔煉法與粉末冶金法。陶瓷靶材具有優異的化學穩定性和高熔點特性。云南顯...

5.應用建議a.選擇適合的鎢靶材規格針對不同的應用領域和設備，選擇合適規格和尺寸的鎢靶材至關重要。例如，在半導體制造中，應選擇高純度、精細晶體結構的靶材；而在X射線生成應用中，則可能需要更大尺寸和特定形狀的靶材。b.控制使用環境鎢靶材的性能在很大程度上取決于使用環境。維持合適的溫度和壓力條件，避免化學腐蝕和物理損傷是確保靶材穩定運行的關鍵。在高溫應用中應特別注意散熱問題。c.配合適當的技術和設備為了比較大限度地發揮鎢靶材的性能，建議配合使用適當的技術和設備。例如，在電子束或X射線應用中，應使用能夠準確控制能量和焦點的設備。d.遵循安全指南在處理和使用鎢靶材時，遵循安全操作規程非常重要。應提供適...

半導體制造中的硅靶材應用：在制造高性能微處理器和存儲器芯片的過程中，硅靶材起著至關重要的作用。制造這些微電子器件時，需要極高的精度和純度。硅靶材通過精確控制摻雜過程，可以實現對芯片性能的精細調整。硅靶材的質量特性如高純度和均一性，保證了最終產品的性能和可靠性，這對于高速處理器和大容量存儲設備尤為重要。材料科學研究中的氧化物和陶瓷靶材應用：研究人員利用特定的氧化物或陶瓷靶材開發出具有新穎電磁性質的復合材料。這些材料在制備透明導電膜、高溫超導材料以及磁性材料等方面具有廣泛的應用前景。例如，使用氧化鋅或二氧化硅等靶材可以制備出透明導電膜，這些膜在觸摸屏、光伏電池和柔性電子設備中有著重要應用。陶瓷靶材...

眾所周知，靶材材料的技術發展趨勢與下游應用產業的薄膜技術發展趨勢息息相關，隨著應用產業在薄膜產品或元件上的技術改進，靶材技術也應隨之變化。如Ic制造商．近段時間致力于低電阻率銅布線的開發，預計未來幾年將大幅度取代原來的鋁膜，這樣銅靶及其所需阻擋層靶材的開發將刻不容緩。另外，近年來平面顯示器（FPD）大幅度取代原以陰極射線管（CRT）為主的電腦顯示器及電視機市場．亦將大幅增加ITO靶材的技術與市場需求。此外在存儲技術方面。高密度、大容量硬盤，高密度的可擦寫光盤的需求持續增加．這些均導致應用產業對靶材的需求發生變化。下面我們將分別介紹靶材的主要應用領域，以及這些領域靶材發展的趨勢。在粒子加速器實驗...

5.真空封裝：-未使用的ITO靶材應真空封裝儲存，避免空氣中的濕氣和氧化作用影響靶材品質。6.清潔工具：-應準備**的無塵布、高純度溶劑和其他清潔工具，用于靶材的清潔和維護。7.磨損監測工具：-定期使用厚度計等測量工具來監測靶材磨損情況，以評估靶材的剩余壽命。通過使用以上配套的設備和耗材，可以確保ITO靶材的性能被充分利用，并且在濺射過程中產生的薄膜具有高度的均勻性和一致性。這些配套工具也有助于提高生產效率，減少材料浪費。例如，高純度金屬或合金通常用于電子和半導體行業的靶材，而特定的陶瓷或復合材料則用于更專業的應用。江蘇氧化物靶材咨詢報價靶材的主要種類與特點金屬靶材：包括銅、鋁、金等，廣泛應用...

靶材是用于物理或化學蒸發過程的源材料，在工業和科研領域中具有重要應用。不同種類的靶材具有不同的特性和適用范圍，如金屬靶材適用于電子和光學薄膜的制備，氧化物靶材在制造透明導電薄膜和光電器件中扮演重要角色，陶瓷靶材適用于制造耐磨薄膜和保護涂層，半導體靶材用于制造微電子器件。在選擇和使用靶材時，需要考慮物理和化學屬性、成本效益、與應用領域的兼容性等多方面因素，以確保最終產品的性能和質量。深入理解不同靶材的特性，對于滿足特定應用需求至關重要此過程包括粉碎、混合、壓制成形和燒結，以形成均勻和緊密的靶材。河南功能性靶材價格咨詢一、靶材的定義靶材是指用于產生粒子束并進行實驗分析的材料，在物理、化學、材料學等...

若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，如今，常用的有電子回旋共振（ECR）型微波等離子體濺射。金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材，氮化物陶瓷濺射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材，硅化物陶瓷濺射靶材，硫化物陶瓷濺射靶材，碲化物陶瓷濺射靶材，其他陶瓷靶材，摻鉻一氧化硅陶瓷靶材（Cr-SiO），磷化銦靶材（InP），砷化鉛靶材（PbAs），砷化銦靶材（InAs）不過,在實現更快速地按比例縮小的道路上存在的挑戰,便是缺乏能夠生產可進一步調低復位電流的完全密閉單元。云南氧化鋅靶材生產企業此外密切關注靶材在濺射過程中...

靶材是制備薄膜的主要材料之一，主要應用于集成電路、平板顯示、太陽能電池、記錄媒體、智能玻璃等，對材料純度和穩定性要求高。濺射靶材的工作原理：濺射是制備薄膜材料的主要技術之一，它利用離子源產生的離子，在真空中經過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發生動能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體即為濺射靶材。靶材發展趨勢是：高濺射率、晶粒晶向控制、大尺寸、高純金屬。靶材由“靶坯”和“背板”焊接而成。常用的表面處理方法包括化學氣相沉積（CVD）和物理的氣相沉積（PVD）。甘肅功能性靶材一般多少錢研究直流磁控反應濺射ITO膜過程中ITO靶材的毒化現...

三、性能參數：純度：高質量的ITO靶材通常要求有99.99%（4N）至99.999%（5N）的高純度。純度越高，雜質越少，靶材產生的薄膜缺陷也相應減少。晶體結構：ITO靶材一般具有立方晶系的結構，晶格參數通常在10.118?左右。晶體結構的完整性會直接影響到薄膜的質量。熱導率：ITO靶材的熱導率大約在20-30W/(m·K)之間。較高的熱導率有利于濺射過程中熱量的迅速傳導和分散，減少靶材損耗。電導率：ITO材料的電導率高，一般為10^3-10^4S/cm，這使其成為制作透明導電薄膜的推薦材料。磁性：純度較高的ITO靶材通常表現出較弱的磁性，這對于靶材在濺射過程中的穩定性是有利的。靶材的平均粒徑...

靶坯是高速離子束流轟擊的目標材料，屬于濺射靶材的**部分，涉及高純金屬、晶粒取向調控。在濺射鍍膜過程中，靶坯被離子撞擊后，其表面原子被濺射飛散出來并沉積于基板上制成電子薄膜。背板主要起到固定濺射靶材的作用，涉及焊接工藝。 按材質分類，靶材可分為常規金屬靶材，貴金屬靶材，稀土金屬靶材，非金屬靶材，合金濺射靶材，陶瓷濺射靶材等。按外形尺寸分，靶材可分為圓柱形、長方形、正方形板靶和管靶。靶材的制備工藝按金屬、非金屬類區別，制備過程中除嚴格控制成分、尺寸之外，對材料的純度、熱度處理條件及成型加工方法等亦需嚴格控制。靶材的制備方法主要有熔煉法與粉末冶金法。陶瓷靶材具有優異的化學穩定性和高熔點特性。中國澳...

鎢（元素符號W），銀白色重金屬，過渡金屬的一員。在元素周期表中位于第6族，原子序數為74。鎢的*****特性是它擁有所有金屬中比較高的熔點，高達3422°C，同時也具有很高的沸點（約5555°C）。這種獨特的高溫性能使鎢成為許多高溫應用場合的理想材料。鎢的密度接近于金，約為19.25g/cm3，僅次于鈾和金。它具有非常好的強度和硬度，即使在極高溫度下也能保持這些性質，這在金屬中是非常罕見的。此外，鎢還具有良好的耐腐蝕性，不會在空氣中氧化，即使在高溫下也能抵抗大多數酸和堿的腐蝕。鎢的用途非常***。在工業中，鎢主要用于硬質合金的生產，這種合金在切削工具、鉆頭、模具等方面有著重要應用。此外，由于其...

鎢（元素符號W），銀白色重金屬，過渡金屬的一員。在元素周期表中位于第6族，原子序數為74。鎢的*****特性是它擁有所有金屬中比較高的熔點，高達3422°C，同時也具有很高的沸點（約5555°C）。這種獨特的高溫性能使鎢成為許多高溫應用場合的理想材料。鎢的密度接近于金，約為19.25g/cm3，僅次于鈾和金。它具有非常好的強度和硬度，即使在極高溫度下也能保持這些性質，這在金屬中是非常罕見的。此外，鎢還具有良好的耐腐蝕性，不會在空氣中氧化，即使在高溫下也能抵抗大多數酸和堿的腐蝕。鎢的用途非常***。在工業中，鎢主要用于硬質合金的生產，這種合金在切削工具、鉆頭、模具等方面有著重要應用。此外，由于其...

它們通過不同的制備工藝，如蒸發磁控濺射、多弧離子鍍等，被加熱至高溫后原子從表面蒸發并沉積在襯底上，形成所需的薄膜。靶材的純度和制備工藝對其質量有著至關重要的影響，高純度的靶材材料能夠保證制備出的薄膜成分純度更高，從而得到性能更穩定、更可靠的器件。此外，靶材的應用領域***，不僅限于半導體工業，還應用于顯示屏、?筆記本電腦裝飾層、?電池封裝等多個方面，展示了其多樣性和重要性。純度是靶材的主要性能指標之一，因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。靶材，也稱為濺射靶材，是高速荷能粒子轟擊的目標材料。天津功能性靶材價錢四、應用建議：1.觸摸屏和顯示器：-在制備觸摸屏和液晶顯示器(LCD)、有機發光二極管(...

基于鍺銻碲化物的相變存儲器(PCM)顯示出***的商業化潛力,是NOR型閃存和部分DRAM市場的一項替代性存儲器技術，不過,在實現更快速地按比例縮小的道路上存在的挑戰之一,便是缺乏能夠生產可進一步調低復位電流的完全密閉單元。降低復位電流可降低存儲器的耗電量,延長電池壽命和提高數據帶寬,這對于當前以數據為中心的、高度便攜式的消費設備來說都是很重要的特征。TbFeCo/AI結構的Kerr旋轉角達到58，而TbFeCofFa則可以接近0.8。經過研究發現，低磁導率的靶材高交流局部放電電壓l抗電強度。不過,在實現更快速地按比例縮小的道路上存在的挑戰,便是缺乏能夠生產可進一步調低復位電流的完全密閉單元。...

靶材的主要種類與特點金屬靶材：包括銅、鋁、金等，廣泛應用于電子和光學薄膜的制備。主要特點是良好的導電性和反射性，使得在制**射鏡和電導膜等方面非常有效。金屬靶材在高溫下容易蒸發，可能對薄膜的質量和均勻性構成挑戰。氧化物靶材：二氧化硅或氧化鋅，靶材在制造透明導電薄膜和光電器件中扮演重要角色。主要優點是化學穩定性高，可在各種環境中保持性能。不過，在制備過程中，氧化物靶材可能需要特殊的環境控制，確保薄膜的質量和性能。陶瓷靶材：因其高熔點和良好的化學穩定性，陶瓷靶材在高溫和腐蝕性環境下表現優異。這材料常用于制造耐磨薄膜和保護涂層，如在刀具和航空部件上的應用。半導體靶材：如硅和鍺，這些材料在微電子和光伏...

（2）制造加工：塑性變形、熱處理、控制晶粒取向：需要根據下游應用領域的性能需求進行工藝設計，然后進行反復的塑性變形、熱處理，需要精確地控制晶粒、晶向等關鍵指標，再經過焊接、機械加工、清洗干燥、真空包裝等工序。靶材制造涉及的工序精細繁多，技術門檻高、設備投資大，具有規?；a能力的企業數量相對較少。靶材制造的方法主要有熔煉法與粉末冶金法。熔煉法主要有真空感應熔煉、真空電弧熔煉、真空電子束熔煉等方法，通過機械加工將熔煉后的鑄錠制備成靶材，該方法得到的靶材雜質含量低、密度高、可大型化、內部無氣孔，但若兩種合金熔點、密度差異較大則無法形成均勻合金靶材。粉末冶金法主要有熱等靜壓法、熱壓法、冷壓-燒結法三...

靶材是制備薄膜的主要材料之一，主要應用于集成電路、平板顯示、太陽能電池、記錄媒體、智能玻璃等，對材料純度和穩定性要求高。濺射靶材的工作原理：濺射是制備薄膜材料的主要技術之一，它利用離子源產生的離子，在真空中經過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發生動能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體即為濺射靶材。靶材發展趨勢是：高濺射率、晶粒晶向控制、大尺寸、高純金屬。靶材由“靶坯”和“背板”焊接而成。金屬靶材以其高導電性和熱導性著稱，常用于半導體和電子工業。吉林靶材多少錢四、應用建議：1.觸摸屏和顯示器：-在制備觸摸屏和液晶顯示器(LCD)、有機...

真空熱壓工藝：真空環境下壓制：將ITO粉末在真空環境下通過熱壓工藝進行成型。真空環境可以有效防止材料氧化，并且可以減少雜質的引入。同步進行熱處理：與傳統的壓制成型不同，真空熱壓將壓制和熱處理合二為一，粉末在壓力和溫度的作用下同時進行燒結，這有助于獲得更高密度和更好性能的靶材。冷卻：經過熱壓后的ITO靶材需在控溫條件下緩慢冷卻，以防止材料因冷卻速度過快而產生裂紋或內應力。粉末冶金法適用于大規模生產，成本相對較低，但在粒徑控制和材料均勻性上可能略有不足；而溶膠-凝膠法雖然步驟更為繁瑣，成本較高，但可以得到粒徑更小、分布更均勻的產品，適合于對薄膜質量要求極高的應用場合。冷壓燒結和真空熱壓工藝在制備I...

三、靶材的制備方法靶材的制備方法有多種，包括物***相沉積、濺射、電子束蒸發、化學氣相沉積、磁控濺射等。通常需要根據實驗的需要，選擇合適的制備方法和材料。四、靶材的應用領域靶材在各個領域中都有重要應用，以下是其中的幾個方面：1.物理學和核物理學：靶材在核物理學實驗中廣泛應用，如離子束慢化、中子束散裂等。2.醫學：靶材和放射性同位素結合應用于放射***和放射性示蹤。3.電子學：靶材在電子顯微技術、集成電路和光電子器件制備中應用***。4.材料科學和工程學：靶材在材料表征、薄膜制備、涂層技術等方面有廣泛應用?？傊胁淖鳛楫a生粒子束的重要材料，在各個研究領域中都有廣泛的應用前景。背板通過焊接工藝和...

（2）制造加工：塑性變形、熱處理、控制晶粒取向：需要根據下游應用領域的性能需求進行工藝設計，然后進行反復的塑性變形、熱處理，需要精確地控制晶粒、晶向等關鍵指標，再經過焊接、機械加工、清洗干燥、真空包裝等工序。靶材制造涉及的工序精細繁多，技術門檻高、設備投資大，具有規模化生產能力的企業數量相對較少。靶材制造的方法主要有熔煉法與粉末冶金法。熔煉法主要有真空感應熔煉、真空電弧熔煉、真空電子束熔煉等方法，通過機械加工將熔煉后的鑄錠制備成靶材，該方法得到的靶材雜質含量低、密度高、可大型化、內部無氣孔，但若兩種合金熔點、密度差異較大則無法形成均勻合金靶材。粉末冶金法主要有熱等靜壓法、熱壓法、冷壓-燒結法三...

適宜的存儲環境：應將鎳靶材存放在干燥、陰涼、通風良好的環境中。避免高濕度和極端溫度，因為這些條件可能導致材料氧化或其他化學變化。防止污染：存儲鎳靶材時，應避免與其他化學品或污染源直接接觸，以防止表面污染或化學反應。防塵措施：在存儲和搬運過程中，需保持環境的潔凈，避免塵埃和顆粒物沉積在靶材表面，這些顆?？赡苡绊懫湓跒R射過程中的性能。包裝和防護：使用原廠包裝或適當的防護材料（如防靜電袋）進行封裝，保護鎳靶材不受物理損傷或環境影響。定期檢查：定期檢查鎳靶材的狀態，特別是在長期存儲后。檢查是否有氧化、變色或其他形式的退化。正確搬運：在搬運鎳靶材時，應小心輕放，避免跌落或撞擊，因為物理損傷可能影響材料的...

三、靶材的制備方法靶材的制備方法有多種，包括物***相沉積、濺射、電子束蒸發、化學氣相沉積、磁控濺射等。通常需要根據實驗的需要，選擇合適的制備方法和材料。四、靶材的應用領域靶材在各個領域中都有重要應用，以下是其中的幾個方面：1.物理學和核物理學：靶材在核物理學實驗中廣泛應用，如離子束慢化、中子束散裂等。2.醫學：靶材和放射性同位素結合應用于放射***和放射性示蹤。3.電子學：靶材在電子顯微技術、集成電路和光電子器件制備中應用***。4.材料科學和工程學：靶材在材料表征、薄膜制備、涂層技術等方面有廣泛應用?？傊?，靶材作為產生粒子束的重要材料，在各個研究領域中都有廣泛的應用前景。靶材，也稱為濺射靶...

靶材是用于物理或化學蒸發過程的源材料，在工業和科研領域中具有重要應用。不同種類的靶材具有不同的特性和適用范圍，如金屬靶材適用于電子和光學薄膜的制備，氧化物靶材在制造透明導電薄膜和光電器件中扮演重要角色，陶瓷靶材適用于制造耐磨薄膜和保護涂層，半導體靶材用于制造微電子器件。在選擇和使用靶材時，需要考慮物理和化學屬性、成本效益、與應用領域的兼容性等多方面因素，以確保最終產品的性能和質量。深入理解不同靶材的特性，對于滿足特定應用需求至關重要用它制造的磁光盤具有存儲容量大，壽命長，可反復無接觸擦寫的特點。河南鍍膜靶材廠家化學特性化學穩定性：碳化硅在多數酸性和堿性環境中都顯示出極好的化學穩定性，這一特性是...

靶材是半導體薄膜沉積的關鍵材料，是一種用于濺射沉積的高純度材料。根據半導體材料的種類，靶材可分為多種類型，包括硅（Si）、氮化硅（Si3N4）、氧化物（如二氧化硅、三氧化二鋁等）、化合物半導體（如砷化鎵GaAs、氮化鋁AlN等）以及其他材料。這些靶材都是經過嚴格的制備工藝，以保證其高純度、均勻性和穩定性。靶材的制備工藝包括多個步驟，如原料選材、原料制備、壓制成型、高溫燒結等過程。原料選材是靶材制備的重要一步，需要選擇高純度的原料，通常采用化學還原法、真空冶煉法、機械合成法等方法。在壓制成型的過程中，選用合適的成型模具和壓力，使得形成的靶材密度和形狀均勻一致。高溫燒結是為了進一步提高靶材的密度和...

a.選擇適合的鎢靶材規格針對不同的應用領域和設備，選擇合適規格和尺寸的鎢靶材至關重要。例如，在半導體制造中，應選擇高純度、精細晶體結構的靶材；而在X射線生成應用中，則可能需要更大尺寸和特定形狀的靶材。b.控制使用環境鎢靶材的性能在很大程度上取決于使用環境。維持合適的溫度和壓力條件，避免化學腐蝕和物理損傷是確保靶材穩定運行的關鍵。在高溫應用中應特別注意散熱問題。c.配合適當的技術和設備為了比較大限度地發揮鎢靶材的性能，建議配合使用適當的技術和設備。例如，在電子束或X射線應用中，應使用能夠準確控制能量和焦點的設備。d.遵循安全指南在處理和使用鎢靶材時，遵循安全操作規程非常重要。應提供適當的防護措施...

靶材，就像它的名字暗示的那樣，可以想象成射箭時箭靶的那塊區域，只不過在我們討論的科學和工業領域里，這個“箭靶”被用于非常特殊的目的。在物理、材料科學或者電子制造等行業中，靶材是一塊通常由金屬或其他材料制成的堅固板材，它被用作物***相沉積（PVD）等技術中的一個關鍵組成部分。在這些過程中，靶材表面的材料會被高能粒子（比如離子）轟擊，從而使得靶材表面的一部分材料被“擊出”并沉積到另一塊材料（比如晶片、鏡片等）上，形成一層薄薄的涂層。材料的純度、結構和化學組成直接影響最終產品的性能。浙江ITO靶材一般多少錢在所有應用產業中，半導體產業對靶材濺射薄膜的品質要求是**苛刻的。如今12英寸（300衄口）...

靶材的選擇和使用注意事項選擇靶材時的考慮因素：物理和化學屬性：包括靶材的熔點、導電性、化學穩定性等。例如，高溫應用通常需要選擇高熔點、化學穩定性強的陶瓷靶材。成本效益：在保證性能的前提下，考慮靶材的經濟性是重要的。一些高性能材料可能成本較高，需要平衡性能和成本。與應用領域的兼容性：確保所選材料適合特定的應用，如電子器件制造、光伏行業或材料科學研究等。使用靶材時的挑戰：蒸發率控制：特別是在使用金屬靶材時，高溫下的蒸發率控制是關鍵，以保證薄膜的均勻性和質量。薄膜的均勻性和純度：這直接影響到最終產品的性能。薄膜的均勻性和純度取決于靶材的質量和沉積過程的精確控制。設備調整和工藝控制：精確的設備調整和工...

眾所周知，靶材材料的技術發展趨勢與下游應用產業的薄膜技術發展趨勢息息相關，隨著應用產業在薄膜產品或元件上的技術改進，靶材技術也應隨之變化。如Ic制造商．近段時間致力于低電阻率銅布線的開發，預計未來幾年將大幅度取代原來的鋁膜，這樣銅靶及其所需阻擋層靶材的開發將刻不容緩。另外，近年來平面顯示器（FPD）大幅度取代原以陰極射線管（CRT）為主的電腦顯示器及電視機市場．亦將大幅增加ITO靶材的技術與市場需求。此外在存儲技術方面。高密度、大容量硬盤，高密度的可擦寫光盤的需求持續增加．這些均導致應用產業對靶材的需求發生變化。下面我們將分別介紹靶材的主要應用領域，以及這些領域靶材發展的趨勢。碳納米管復合材料...

靶材的選擇和使用注意事項選擇靶材時的考慮因素：物理和化學屬性：包括靶材的熔點、導電性、化學穩定性等。例如，高溫應用通常需要選擇高熔點、化學穩定性強的陶瓷靶材。成本效益：在保證性能的前提下，考慮靶材的經濟性是重要的。一些高性能材料可能成本較高，需要平衡性能和成本。與應用領域的兼容性：確保所選材料適合特定的應用，如電子器件制造、光伏行業或材料科學研究等。使用靶材時的挑戰：蒸發率控制：特別是在使用金屬靶材時，高溫下的蒸發率控制是關鍵，以保證薄膜的均勻性和質量。薄膜的均勻性和純度：這直接影響到最終產品的性能。薄膜的均勻性和純度取決于靶材的質量和沉積過程的精確控制。設備調整和工藝控制：精確的設備調整和工...

FPD和導電玻璃的尺寸都相當火，導電玻璃的寬度甚至可以達到3133mm，為了提高靶材的利用率，開發了不同形狀的ITO靶材，如圓柱形等。2000年，國家發展計劃委員會、科學技術部在《當前優先發展的信息產業重點領域指南》中，ITO大型靶材也列入其中。在儲存技術方面，高密度、大容量硬盤的發展，需要大量的巨磁阻薄膜材料，磁光盤需要的TbFeCo合金靶材還在進一步發展，用它制造的磁光盤具有存儲容量大，壽命長，可反復無接觸擦寫的特點。如今開發出來的磁光盤，具有TbFeCo/Ta和TbFeCo/Al的層復合膜結構，TbFeCo/AI結構的Kerr旋轉角達到58，而TbFeCofFa則可以接近0.8。經過研究...