晶粒尺寸及晶粒尺寸分布

  通常靶材為多晶結構，晶粒大小可由微米到毫米量級。對于同一種靶材，晶粒細小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快；而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。

4..密度

為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率，還影響著薄膜的電學和光學性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和強度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應力。密度也是靶材的關鍵性能指標之一。 通常是放熱反應，反應生成熱必須有傳導出去的途徑，否則，該化學反應無法繼續進行。無錫硫化鋅靶費用

但下列情況綁定有弊端：

1.熔點低的靶材，像銦、硒等，金屬化的時候可能會變軟變形；

2.貴金屬靶材，一是實際重量易出現分歧，二是金屬化以及解綁的時候都會有浪費料，建議墊一片銅片。

三.背靶的選擇

對材質的要求：一般選用無氧銅和鉬靶，厚度在3mm左右；

導電性好：常用無氧銅，無氧銅的導熱性比紫銅好；

強度足夠：太薄，易變形，不易真空密封；

結構要求：空心或者實心結構；

厚度適中：3mm左右，太厚，消耗部分磁強；太薄，容易變形。 無錫硫化鋅靶費用靶材密度越高，薄膜的性能越好。

常見的PVD裝飾膜主要有幾大色系：1.IP玫瑰金（rosegold）是一種黃金和銅的合金，由于其具有非常時尚、靚麗的玫瑰紅色彩，因而普遍用于首飾設計和加工。又稱粉色金（pinkgold）、紅色金（redgold）。2.IP金，用離子鍍膜的方式，讓靶材上的黃金沉積到要鍍的工件之上，一般由仿金層和表面金層兩層，表面金層的顏色與24K黃金一樣，厚度可以根據客戶的要求鍍不同的厚度。3.仿金系列（包括仿金色和仿玫瑰金），不含黃金，一般成份是由TiNTiCNZrNZrCN等陶瓷化合物組成，但很難達到真金的亮度。4.銀色系列，一般是鉻的化合物，顏色深淺可調整，可分冷色系列和暖色系列，冷色系列帶藍調，金屬光感好，暖色系列帶黃調，接近不銹鋼本色。5.黑色系列，一般是成份是金屬的碳化物，顏色深淺可以調整，色調根據客戶的要求也可以調整，不同的金屬碳化物具有不同的特性和色調，可以根據客戶的需要選擇不同的膜系。6.藍色系列，有天空藍，冰藍色，海洋藍，深藍等等，不同色系成份也有所不一樣。

磁控濺射制備非晶硅薄膜   本實驗采用石英玻璃為襯底，實驗前先將玻璃襯底浸泡在溶液中，放到JHN- 4F(200 W)超聲波清洗機清洗30 min;然后用分析乙醇同樣在超聲波清洗機中清洗30 min; 放入裝有去離子水的燒杯中在超聲波清洗器中清洗約30 min 后晾干。然后以高純硅為靶材在JGP500型超高真空磁控濺射設備上，分別采用直流和射頻方式制備了兩塊樣品。在濺射前，預濺射5 min以除去靶材表面氧化物。1# 樣品采用直流磁控濺射方式， 濺射功率為100 W， 本底真空度6×10- 4 Pa ， 濺射時間20 min，濺射氣壓0.5 Pa，襯底溫度為室溫。2#樣品采用射頻磁控濺射方式，濺射功率150 W，本底真空度6×10- 4 Pa，濺射時間120 min，濺射氣壓2.0 Pa，襯底溫度為室溫。樣品1# 和2# 均切為3 小塊，其中各保留一小塊不做退火處理，其他的小塊樣品處理情況為1#750℃、1#850℃，2#750℃、2#850℃在馬弗爐中退火1h。將1# 和2#未處理樣品用拉曼激光誘導方法，研究非晶硅薄膜的晶化過程。濺射靶材安裝過程中**重要的注意事項是一定要確保在靶材和濺射冷卻壁之間建立很好的導熱連接。

有些陰極設計是與陽極的空隙較小，所以在安裝靶材時需要確保陰極與陽極之間沒有接觸也不能存在導體，否則會產生短路。

請參考設備商操作手冊中關于如何正確安裝靶材的相關信息。在收緊靶材夾具時，請先用手轉緊一顆鏍栓，再用手轉緊對角線上的另外一顆鏍栓，如此重復直到安裝上所有鏍栓后，再用工具收緊。七．濺射靶材的制備方法有哪些？濺射靶材是指通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜設備在適當工藝條件下濺射沉積在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。濺射靶材廣泛應用于裝飾、工模具、玻璃、電子器件、半導體、磁記錄、平面顯示、太陽能電池等眾多領域，不同領域需要的靶材各不相同。 此外，提高靶材的密度和強度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應力。密度也是靶材的關鍵性能指標之一。無錫硫化鋅靶費用

所以在安裝靶材時需要對陰極冷卻水槽進行檢查和清理，確保冷卻水循環的順暢和進出水口不會被堵塞。無錫硫化鋅靶費用

PVD技術簡介PVD技術是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發或離子鍍等技術，在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。與傳統化學鍍膜方法相比，PVD有很多優點：如對環境無污染，是綠色環保工藝；對操作者無傷害；膜層牢固、致密性好、抗腐蝕性強，膜厚均勻。PVD技術中經常使用的方法主要有：蒸發鍍膜（包括電弧蒸發、電子蒸發、電阻絲蒸發等技術）、濺射鍍膜（包括直流磁控濺射、中頻磁控濺射、射頻濺射等技術），這些方法統稱物相沉積（PhysicalVaporDeposition），簡稱為PVD。行業內通常所說的“IP”（ionplating）離子鍍膜，是因為在PVD技術中各種氣體離子和金屬離子參與成膜過程并起到重要作用，為了強調離子的作用，而統稱為離子鍍膜。無錫硫化鋅靶費用

江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業生產濺射靶材和蒸發材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進技術，并通過與國內外**研發機構合作，整合各行業資源優勢，生產出多系列***濺射靶材產品。 公司目前主要生產金屬，合金，陶瓷三大類靶材產品。經過幾年的發展和技術積累，已經擁有：真空熱壓，冷壓燒結，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術。另外也可根據客戶要求研發新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業領域。同時也為國內外各大院校和研究所提供了很多常規和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結爐一臺，真空熔煉設備兩臺，等靜壓設備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機加工設備七臺，檢驗設備若干，確保出廠的每件產品都能達到甚至超過客戶的預期。 江陰典譽秉承：“一切以客戶的需求為導向，客戶的所有需求一次做好。”的發展理念。