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吉林2PP灰度光刻無掩膜激光直寫

來源: 發布時間:2024-08-15

Nanoscribe的QuantumX打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統可以實現一氣呵成的制作,即一步打印多級衍射光學元件,并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續的拓撲。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統,QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版,可適用于批量生產的流水線工業程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點,同時縮短創新微納光學器件(如衍射和折射光學器件)的整體制造時間。該技術還可以與雙光子聚合技術結合,實現高速打印高設計自由度和超高精度的特點,進一步擴展了其應用范圍。吉林2PP灰度光刻無掩膜激光直寫

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作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統,QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版,可適用于批量生產的流水線工業程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點,同時縮短創新微納光學器件(如衍射和折射光學器件)的整體制造時間。Nanoscribe的QuantumX打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統可以實現一氣呵成的制作,即一步打印多級衍射光學元件,并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續的拓撲。湖北高精度灰度光刻設備了解雙光子灰度光刻敬請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。

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Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統制作的高精度器件圖登上了剛發布的商業微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM)。PhotonicProfessionalGT2系統把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程,實現了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創建3D和2.5D微結構制作。另外,還可以實現精度上限的3D打印,突破了微納米制造的限制。該打印系統的易用性和靈活性的特點配以非常普遍的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施。

QuantumX新型超高速無掩模光刻技術的重要部分是Nanoscribe獨有專項的雙光子灰度光刻技術(2GL®)。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合,使其同時具備高速打印,完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業的設計迭代,打印樣品結構既可以用作技術驗證原型,也可以用作工業生產上的加工模具。Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統技術要點在于:這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態聚焦定位達到精細同步,這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小,并在不影響速度的情況下,使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結合,使其同時具備高速打印,完全設計自由度和超高精度的特點灰度光刻技術可以實現高分辨率的微納米結構制造,滿足日益增長的微電子和光電子器件對精確結構的需求。

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這款灰度光刻設備還具備智能化的特點。它配備了先進的自動化控制系統,可以實現自動調節和監控,減少了人工操作的需求,提高了生產線的穩定性和可靠性。同時,設備還具備故障自診斷和遠程監控功能,及時發現和解決問題,減少了生產線的停機時間,提高了生產效率。這款設備還具備良好的適應性和可擴展性。它可以適應不同材料和工藝的加工需求,為我們的生產線提供了更大的靈活性。同時,設備還支持模塊化設計,可以根據需要進行擴展和升級,滿足我們未來的生產需求。這款全新的灰度光刻設備為我們的生產線帶來了巨大的改變。它的精度、穩定性和高效性使我們能夠更好地滿足客戶的需求,提高產品質量和生產效率。我們相信,有了這款設備的加入,我們的公司將迎來更加美好的未來。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您解析雙光子灰度光刻技術。廣東德國灰度光刻激光直寫

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討灰度光刻技術的發展現狀。吉林2PP灰度光刻無掩膜激光直寫

“Nanoscribe成立于卡爾斯魯厄理工學院,現在在上海設有子公司,在美國設有辦事處。該公司在財務和技術上獲得了蔡司的大力支持,蔡司是德國歷史特別悠久,規模比較大的光學系統制造商之一。納米標記系統基于雙光子吸收,這是一種分子被激發到更高能態的過程。為了使用雙光子工藝制造3D物體,使用含有單體和雙光子活性光引發劑的凝膠作為原料。將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體,其中吸收的光的強度特別高。Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統制造商,2019年6月25日,南極熊從外媒獲悉,該公司近日推出了一款新型的機器QuantumX。該系統使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件,其尺寸可小至200微米。根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,“Beers定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制,QuantumX采用雙光子灰度光刻技術,克服了這些限制,提供了前所未有的設計自由度和易用性,我們的客戶正在微加工的前沿工作。吉林2PP灰度光刻無掩膜激光直寫