類金剛石薄膜通常又被人們稱為DLC薄膜，是英文詞匯DiamondLikeCarbon的簡稱，它是一類性質近似于金剛石，具有高硬度.高電阻率.良好光學性能等，同時又具有自身獨特摩擦學特性的非晶碳薄膜。碳元素因碳原子和碳原子之間的不同結合方式，從而使其終產生不同的物質：金剛石（diamond）—碳碳以sp3鍵的形式結合；石墨（graphite）—碳碳以sp2鍵的形式結合；而如同緒論里所述類金剛石（DLC）—碳碳則是以sp3和sp2鍵的形式結合，生成的無定形碳的一種亞穩定形態，它沒有嚴格的定義，可以包括很寬性質范圍的非晶碳，因此兼具了金剛石和石墨的優良特性；所以由類金剛石而來的DLC膜同樣是一種亞穩態長程無序的非晶材料，碳原子間的鍵合方式是共價鍵，主要包含sp2和sp3兩種雜化鍵，而在含氫的DLC膜中還存在一定數量的C-H鍵。類金剛石(DLC)膜涂層刀具的硬度高、摩擦系數低、耐摩擦和耐腐蝕性能強、抗粘結性能好。昆山模具DLC技術

使用類金剛石薄膜(DiamondLikeCarbon,DLC)作為涂層,采用等離子體離子浸沒注入技術PlasmaImmersionIonImplantationandDeposition,PIIID)對空間飛輪長壽命軸承溝道表面進行改性.結果表明,陪試件表面DLC改性后表面粗糙度、軸承內外溝道輪廓形狀誤差等特性未發生明顯改變,改性層表面納米硬度提高2倍左右;陪試件摩擦試驗結果表明,改性后表面的摩擦學性能得到了明顯改善;DLC涂層的穩定摩擦因數為基體的1/3～1/4,有利于延長空間飛輪軸承的工作壽命.上海英屹涂層技術有限公司引進美國PE-CVD設備技術制備的類金剛石DLC膜層沉積速率快膜厚可達60um膜層硬度高膜層摩擦系數低小于結合力好耐腐蝕性能好優異的耐磨性膜層具有自潤滑性的優點。可以解決PVD涂層鍍不到的工件內孔的問題。公司涂層已經應用于航空機械模具電子醫療汽車發動機部件等領域。青浦金屬表面DLC公司Ta-C涂層銑刀的切削壽命是含氫DLC涂層銑刀的1.5倍。

納米壓印是一種理想的光刻技術,它具有生產率和分辨率高的特點.脫模過程中,粘連限制了圖形的精確轉移,因此,抗粘連成為納米壓印技術需要解決的關鍵問題.氟化自組裝單分子層是一種被多種應用的抗粘連涂層,介紹和分析了其在耐熱性和降解方面的新的研究進展.介紹了類金剛石碳膜、在光刻膠上噴涂脫模劑和含氟表面活化劑在納米壓印抗粘連研究上的進展,分析了這些方法所存在的問題及納米壓印抗粘連的發展趨勢.上海英屹涂層技術有限公司引進美國PE-CVD設備技術制備的類金剛石DLC膜層沉積速率快膜厚可達60um膜層硬度高膜層摩擦系數低小于結合力好耐腐蝕性能好優異的耐磨性膜層具有自潤滑性的優點。可以解決PVD涂層鍍不到的工件內孔的問題。公司涂層已經應用于航空機械模具電子醫療汽車發動機部件等領域。

類金剛石碳膜(diamond-likecarbonfilms，簡稱DLC膜)，是含有類似金剛石結構的非晶碳膜，也是我們在這里真正需要介紹的一種。DLC膜的基本成分是碳，由于其碳的來源和制備方法的差異，DLC膜可分為含氫和不含氫兩大類。DLC膜是一種亞穩態長程無序的非晶材料，碳原子間的鍵合方式是共價鍵，主要包含sp2和sp3兩種雜化鍵，在含氫DLC膜中還存在一定數量的C-H鍵。我們從1996年起開始磁過濾真空弧及沉積DLC膜研究，正在完善工業化技術。如等離子體源沉積法、離子束源沉積法、孿生中頻磁控濺射法、真空陰極電弧沉積法和脈沖高壓放點等。不同的制備方法，DLC膜的成分、結構和性能不同。類金剛石碳膜(Diamond-likecarbonfilms，簡稱DLC膜)作為新型的硬質薄膜材料具有一系列優異的性能，如高硬度、高耐磨性、高熱導率、高電阻率、良好的光學透明性、化學惰性等，可用于機械、電子、光學、熱學、聲學、醫學等領域，具有良好的應用前景。我們開發了等離子體-離子束源增強沉積系統，并同過該系統中的磁過濾真空陰極弧和非平衡磁控濺射來進行DLC膜的開發。該項技術用于電子、裝飾、宇航、機械和信息等領域，用于摩擦、光學功能等用途。目前在我國技術正處于發展和完善階段，有巨大市場潛力。類金剛石涂層(DLC)鉆頭較小。

類金剛石膜DLC因其具有抗磨性、化學惰性、沉積溫度低、膜面光滑，可以將其作為一些電子產品的保護膜。如噴墨打印機墨盒加熱層上、磁存儲器的表面、錄音機磁頭極尖加一層類金剛石膜DLC保護層、不僅能有效的減少機械損傷，又不影響數據存儲。類金剛石膜具有電阻率高、絕緣性強、化學惰性高和低電子親和力等性能，且易在較大的基體上成膜。人們將類金剛石膜用作光刻電路板的掩膜，不僅可以避免操作過程中的機械損傷，還可以在去除薄膜表面的污染物允許用較激烈的機械或化學腐蝕方法，且同時不會破壞薄膜的表面，所以類金剛石膜有望代替SO2成為下一代集成電路的介質材料。近年來，類金剛石膜在微電子領域的應用，逐漸成為熱點。采用類金剛石膜和碳膜交替出現的多層膜結構構造成的多量子阱結構，具有共振隧道效應的和獨特的電特性，在微電子領域有著潛在的應用前景。類金剛石膜具有良好的表面平面光滑度，電子發射均勻性好，并且其具有負的電子親和勢，有效功函數相對較低的和較寬的禁帶寬度，即使在較低的外電場作用下，也可產生較大的發生電流，這個性能在平板顯示器中有著特殊的使用價值。上海冶金所研制的DLC平面柱狀陣列場發射平板顯示器樣品就是利用了這一原理。DLC薄膜的研究以及講解。切刀DLC工藝

透明DLC薄膜的制備與性能研究。昆山模具DLC技術

類金剛石在電學性能及應用。DLC薄膜具有優異的電學性能，一般來說，含氫DLC薄膜電阻率比不含氫的DLC薄膜的高，可能是由于氫穩定了薄膜中sp3相的緣故。由于DLC中的sp2相和薄膜的電阻率有直接的關系，因此沉積工藝和離子束的能量都對DLC薄膜層電阻率有著很大的影響。由于DLC薄膜的良好導熱性能，它可以作為芯片中銅片散熱器的絕緣電阻，能防止通常功率下因熱膨脹系數不匹配而引起的銅片抓痕。此外，DLC在腐蝕介質中表現出極高的化學惰性，可以保護基底免遭外界腐蝕介質的溶蝕。純的DLC薄膜表現出極好的耐蝕性，可以抵御各類酸堿甚至王水的侵蝕。另外，DLC薄膜具有較低的電子親和勢，是一種優異的冷陰極場發射材料，其中一個重要的應用領域就是場發射平面顯示器件。昆山模具DLC技術