介紹了采用物理相沉積(PVD)技術制備類金剛石涂層的方法,進而論述了涂層的摩擦磨損和結合力等性能的研究現狀和發展前景.分析并綜述了類金剛石涂層的技術發展,以及制備類金剛石薄膜的方法和影響其性能的多種要素.表面涂有類金剛石薄膜的工件具有較高的硬度、良好的熱傳導率、極低的摩擦系數、優異的電絕緣性能等.類金剛石薄膜(DLCFilms)是近年來興起的一種以sp3和sp2鍵的形式結合生成的亞穩態材料,因其優異的減摩和抗磨性能,在摩擦學領域獲得了應用,是一種與金剛石涂層性能相似的新型薄膜材料.DLC涂層的性能研究大多集中在它的摩擦學特性和結合力性能,并且作為的涂層材料已被應用于汽車、模具、刀具等領域.上海英屹涂層技術有限公司引進美國PE-CVD設備技術制備的類金剛石DLC膜層沉積速率快膜厚可達60um膜層硬度高膜層摩擦系數低小于結合力好耐腐蝕性能好優異的耐磨性膜層具有自潤滑性的優點。可以解決PVD涂層鍍不到的工件內孔的問題。公司涂層已經應用于航空機械模具電子醫療汽車發動機部件等領域。DLC類金剛石鍍膜技術。閔行金屬DLC涂層廠

類金剛石碳膜(diamond-likecarbonfilms，簡稱DLC膜)，是含有類似金剛石結構的非晶碳膜，也是我們在這里真正需要介紹的一種。DLC膜的基本成分是碳，由于其碳的來源和制備方法的差異，DLC膜可分為含氫和不含氫兩大類。DLC膜是一種亞穩態長程無序的非晶材料，碳原子間的鍵合方式是共價鍵，主要包含sp2和sp3兩種雜化鍵，在含氫DLC膜中還存在一定數量的C-H鍵。我們從1996年起開始磁過濾真空弧及沉積DLC膜研究，正在完善工業化技術。如等離子體源沉積法、離子束源沉積法、孿生中頻磁控濺射法、真空陰極電弧沉積法和脈沖高壓放點等。不同的制備方法，DLC膜的成分、結構和性能不同。類金剛石碳膜(Diamond-likecarbonfilms，簡稱DLC膜)作為新型的硬質薄膜材料具有一系列優異的性能，如高硬度、高耐磨性、高熱導率、高電阻率、良好的光學透明性、化學惰性等，可用于機械、電子、光學、熱學、聲學、醫學等領域，具有良好的應用前景。我們開發了等離子體-離子束源增強沉積系統，并同過該系統中的磁過濾真空陰極弧和非平衡磁控濺射來進行DLC膜的開發。該項技術用于電子、裝飾、宇航、機械和信息等領域，用于摩擦、光學功能等用途。目前在我國技術正處于發展和完善階段，有巨大市場潛力。杭州模具DLC工藝DLC耳機膜片優勢特點。

類金剛石薄膜通常又被人們稱為DLC薄膜，是英文詞匯DiamondLikeCarbon的簡稱，它是一類性質近似于金剛石，具有高硬度.高電阻率.良好光學性能等，同時又具有自身獨特摩擦學特性的非晶碳薄膜。碳元素因碳原子和碳原子之間的不同結合方式，從而使其終產生不同的物質：金剛石（diamond）—碳碳以sp3鍵的形式結合；石墨（graphite）—碳碳以sp2鍵的形式結合；而如同緒論里所述類金剛石（DLC）—碳碳則是以sp3和sp2鍵的形式結合，生成的無定形碳的一種亞穩定形態，它沒有嚴格的定義，可以包括很寬性質范圍的非晶碳，因此兼具了金剛石和石墨的優良特性；所以由類金剛石而來的DLC膜同樣是一種亞穩態長程無序的非晶材料，碳原子間的鍵合方式是共價鍵，主要包含sp2和sp3兩種雜化鍵，而在含氫的DLC膜中還存在一定數量的C-H鍵。

通常把一系列含有sp3和sp2雜化的不穩定的非晶碳膜統稱為類金剛石薄膜（DLC），這類薄膜具有高的硬度，低的摩擦因數，優異的耐磨性，良好的光學透過性和生物相容性，是近年來引起重視的一種新型功能薄膜材料。膜基結合力強弱是決定涂層壽命的關鍵因素，也是決定所有涂層應用價值的較基礎因素。DLC涂層結合強度不高，通過納米調制等手段來提高其結合力。其中硼摻雜類金剛石涂層的研究主要集中在電化學和生物相容性方面,首先采用射頻磁控濺射法在不同基底材料上制備了類金剛石涂層，分析了基底材料對涂層結構及膜基結合力的影響，通過原子力顯微鏡、掃描電鏡、拉曼光譜結果表明：射頻磁控濺射和閉合場非平衡磁控濺射制備的類金剛石涂層，上海英屹涂層技術有限公司引進美國PE-CVD設備技術制備的類金剛石DLC膜層沉積速率快膜厚可達60um膜層硬度高膜層摩擦系數低小于結合力好耐腐蝕性能好優異的耐磨性膜層具有自潤滑性的優點。可以解決PVD涂層鍍不到的工件內孔的問題。公司涂層已經應用于航空機械模具電子醫療汽車發動機部件等領域。DLC薄膜的工程化應用工藝設計。

智能手機發展至今，硬件技術革新突飛猛進，不少千元手機都已經擁有了旗艦配置，足以滿足日常使用的基本需求。都說眼睛是心靈的窗戶，那么屏幕就是手機的窗戶，而千元機的手機屏幕玻璃，往往質量堪憂，用不了幾個星期，就會出現明顯的劃痕。類金剛石鍍膜在原有屏幕玻璃的結構基礎之上，額外覆蓋了一層類金剛石薄膜，除了防污疏油、順滑手感之外、增強玻璃硬度是重要的作用。經過oDLC類金剛石鍍膜技術處理過的手機，其屏幕玻璃耐刮性能達到9H++級別，可以與藍寶石玻璃相媲美。經過實際測試，用金屬刀尖這樣尖銳的物體反復刮擦，也不會留下任何痕跡，應付各種日常使用場景更是不在話下，oDLC類金剛石鍍膜就像是給手機屏幕裝上了一層金剛外衣，對手機屏幕起到至關重要的保護作用。對于常年暴露在危險環境中的手機屏幕來說，oDLC類金剛石鍍膜技術簡直是救星一般的存在。負偏壓對DLC薄膜結構和摩擦學性能的影響。浦東銑刀DLC價格

真空鍍DLC膜的膜系結構。閔行金屬DLC涂層廠

DLC薄膜制備技術的研究開始于七十年代。1971年Aisenberg和Chabot成功地利用碳離子束沉積出DLC薄膜以來，離子束沉積法(Ionbeamdeposition)是開始用于制備DLC膜。其后研究者發現了一系列生成DLC薄膜的辦法。Maissel等在《薄膜工藝手冊》一書中指出，大多數能夠在氣相中沉積的薄膜材料也能在液相中通過電化學方法合成，反之亦然。給DLC薄膜的制備帶來了新的思路，現在除了常見的化學氣相沉積(CVD)和物相沉積(PVD)，也可以通過液相的電化學沉積來制備DLC膜。因此通常在兩個電極之間施加很高的電壓，即利用強電場使溶液中的C-H、C-O和O-H等鍵發生斷裂生成碳碎片，從而使含碳的成分以極性基團或離子的形式到達基片，并且在基片所處的高電位下得以活化，進而生成含一定sp3成分的類金剛石薄膜。閔行金屬DLC涂層廠