【真空鍍膜的膜層結構分布】基材:ABS、PC、ABS+PC、PP、PPMA、POM等樹脂類均可成型真空電鍍, 要求底材為純原料,電鍍級別更佳,不可加再生材; 底漆:UV底漆,對基材表面做預處理,為膜層的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情況可酌情加厚; 膜層:靶材蒸發的結果,VM膜層可導電,NCVM鍍層不導電,且抗干擾性效果很好,膜層厚度0.3um以下。 面漆:面漆利用三基色原理可與色漿搭配出各類顏色,同時對真空膜層起保護作用,再加上UV、PU的表面裝飾,效果更漂亮,厚度 一般在8-10um,特殊情況可酌情加厚 。 電子束蒸發真空鍍膜機是什么?浙江二手卷繞式真空鍍膜機
【真空鍍膜機清洗工藝之紫外線輻照清洗】 利用紫外輻照來分解表面上的碳氫化合物。例如,在空氣中照射15h就可產生清潔的玻璃表面。如果把適當預清洗的表面放在一個產生臭氧的紫外線源中.要不了幾分鐘就可以形成清潔表面(工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機理是:在紫外線照射下,污物分子受激并離解,而臭氧的生成和存在產生高活性的原子態氧。受激的污物分子和由污物離解產生的自由基與原子態氧作用.形成較簡單易揮發分子.如H203、CO2和N2.其反應速率隨溫度的增加而增加。 吉林真空鍍膜機多少錢真空鍍膜機參數怎么調?
【真空鍍膜機清洗工藝之真空加熱清洗】 將工件放置于常壓或真空中加熱.促使其表面上的揮發雜質蒸發來達到清洗的目的,這種方法的清洗效果與工件的環境壓力、在真空中保留時間的長短、加熱溫度、污染物的類型及工件材料有關。其原理是加熱工件.促使其表面吸附的水分子和各種碳氫化合物分子的解吸作用增強。解吸增強的程度與溫度有關。在超高真空下,為了得到原子級清潔表面,加熱溫度必高于450度才行.加熱清洗方法特別有效。但有時,這種處理方法也會產生副作用。由于加熱的結果,可能發生某些碳氫化合物聚合成較da的團粒,并同時分解成碳渣。
【常見的真空材料表面上的污染物類型】 1、油脂:加工、裝配、操作時沾染上的潤滑劑、切削液、真空油脂等; 2、酸、堿、鹽類物質:清洗時的殘余物質、手汗、水中的礦物質等; 3、表面氧化物:材料長期放置在空氣中或放置在潮濕空氣中所形成的表面氧化物; 4、水基類:操作時的手汗、吹氣時的水汽、唾液等; 5、拋光殘渣及環境空氣中的塵埃和其它有機物等。 清洗這些污染物的目的是為了改進真空鍍膜機的工作穩定性,使工作能夠更加順利的進行。清洗后的表面根據要求分為原子級清潔表面和工藝技術上的清潔表面兩類。 在真空鍍膜機使用鍍膜材料鍍膜前,對鍍膜材料做簡單的表面清潔可以延長鍍膜機的使用壽命。因為各種污染物不僅使真空系統不能獲得所要求的真空度,還會影響真空部件連接處的強度和密封性能。前期到位的清洗工作可以減少許多麻煩,避免許多小問題的發生,對工作效率、真空鍍膜機鍍膜質量都具有十分積極的作用。可dada提高真空系統中所有器壁和其它組件表面在各工作條件下的工作穩定性。 真空鍍膜機品牌有很多,你如何選擇?
【真空鍍膜之離子束濺射鍍膜】離子束濺射沉積法在離子源內由惰性氣體(通常為氬)產生具有較高能量的離子轟擊靶材料,把靶材料沉積到基片上的方法。離子束濺射沉積法的一da優點是基片相對于離子源和靶是du立的,它的溫度可以單獨控制。基片通常接地位,它和靶與高頻電路無關,不會象陰極濺射鍍膜那樣受到高能電子的轟擊,因而溫度較低。所以只要配置一臺較好的恒溫循環器(如HX1050型,控溫范圍為-10℃~50℃,精度≤0。5℃),實現對樣品臺的單獨控溫,就可以根據不同樣品的要求以及薄膜生長不同階段的溫度需要進行適當調節。根據現有離子束濺射設備的構造,設計、加工了專門的金屬樣品架,放上樣品后蓋上金屬壓片,用螺絲緊密地固定在鍍膜腔體的樣品臺上,可使樣品和控溫的樣品臺有良好的熱接觸。并在樣品架中放置了一個測溫鉑電阻,用螺絲把金屬壓片連同其下的鉑電阻一起固定壓緊,再用導線引出與高精度的萬用表相連,以監測薄膜生長過程中的樣品溫度。真空鍍膜機為什么會越來越慢?北京光學真空鍍膜機廠家
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【真空鍍膜之水轉印】水轉印是利用水壓將轉印紙上的彩色紋樣印刷在三維產品表面的一種方式。隨著人們對產品包裝與表面裝飾要求的提高,水轉印的用途越來越廣fan。 適用材料: 所有的硬材料都適合水轉印,適合噴涂的材料也一定適用于水轉印。*常見的為注塑件和金屬件。 工藝成本:無模具費用,但需要利用夾具將多件產品同時進行水轉印,時間成本一般每周期不會超過10分鐘。 環境影響:和產品噴涂比較而言,水轉印更充分的應用了印刷涂料,減少了廢料泄漏和材料浪費的可能。 浙江二手卷繞式真空鍍膜機
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