【不同類(lèi)型鍍膜機(jī)應(yīng)用范圍介紹】不同類(lèi)型鍍膜機(jī)的適用范圍介紹 1. 磁控濺射鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于信息存儲(chǔ)領(lǐng)域，如磁信息存儲(chǔ)、磁光信息存儲(chǔ)等 2. 磁控濺射鍍膜機(jī)：應(yīng)用于防護(hù)涂層，如飛機(jī)發(fā)動(dòng)機(jī)的葉片、汽車(chē)鋼板、散熱片等 3. 磁控濺射鍍Al膜生產(chǎn)線(xiàn)：應(yīng)用于太陽(yáng)能利用領(lǐng)域，如太陽(yáng)能集熱管、太陽(yáng)能電池等 4. AZO透明導(dǎo)電膜磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線(xiàn)：應(yīng)用于信息顯示領(lǐng)域，如液晶屏、等離子屏等 5. 觸摸屏連續(xù)式鍍膜生產(chǎn)線(xiàn)：應(yīng)用于觸摸屏領(lǐng)域，如手機(jī)、電腦、MP4等數(shù)碼產(chǎn)品屏幕等。 6. 磁控中頻多弧離子鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于硬質(zhì)涂層，如切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。 7. PECVD磁控生產(chǎn)線(xiàn)：應(yīng)用于集成電路制造，如薄膜電阻器、薄膜電容器、薄膜溫度傳感器等。 8. 蒸發(fā)式真空鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于在裝飾飾品上，如手機(jī)殼、表殼、眼鏡架、五金、小飾品等鍍膜。 9. 低輻射玻璃鍍膜生產(chǎn)線(xiàn)：應(yīng)用于建筑玻璃方面，如陽(yáng)光控制膜、低輻射玻璃、防霧防露和自清潔玻璃等。 10. 抗反射導(dǎo)電膜連續(xù)磁控濺射生產(chǎn)線(xiàn)：應(yīng)用于電子產(chǎn)品領(lǐng)域，如液晶顯示器、液晶電視、MP4、車(chē)載顯示、手機(jī)顯示、數(shù)碼相機(jī)和掌上電腦等。 真空鍍膜機(jī)的工作原理。上海二手卷繞式真空鍍膜機(jī)
【真空鍍膜之水轉(zhuǎn)印】水轉(zhuǎn)印是利用水壓將轉(zhuǎn)印紙上的彩色紋樣印刷在三維產(chǎn)品表面的一種方式。隨著人們對(duì)產(chǎn)品包裝與表面裝飾要求的提高，水轉(zhuǎn)印的用途越來(lái)越廣fan。 適用材料： 所有的硬材料都適合水轉(zhuǎn)印，適合噴涂的材料也一定適用于水轉(zhuǎn)印。*常見(jiàn)的為注塑件和金屬件。 工藝成本:無(wú)模具費(fèi)用，但需要利用夾具將多件產(chǎn)品同時(shí)進(jìn)行水轉(zhuǎn)印，時(shí)間成本一般每周期不會(huì)超過(guò)10分鐘。 環(huán)境影響:和產(chǎn)品噴涂比較而言，水轉(zhuǎn)印更充分的應(yīng)用了印刷涂料，減少了廢料泄漏和材料浪費(fèi)的可能。 河北真空鍍膜機(jī)配件生產(chǎn)廠真空鍍膜機(jī)故障解決方法？
【真空鍍膜機(jī)操作工藝流程】首先開(kāi)水、電、氣→總電源→開(kāi)維持泵→開(kāi)擴(kuò)散泵加熱→開(kāi)粗抽泵→開(kāi)預(yù)抽閥→關(guān)預(yù)抽閥→開(kāi)粗抽閥→開(kāi)羅茨泵→如有離子轟擊，開(kāi)轟擊30秒，關(guān)轟擊→開(kāi)真空計(jì)→當(dāng)真空到6.0~7.0pa時(shí)，關(guān)粗抽閥→開(kāi)前置閥→開(kāi)精抽閥，當(dāng)真空達(dá)到7x10-3pa，開(kāi)轉(zhuǎn)架→開(kāi)始鍍膜操作→鍍膜完畢后，關(guān)閉真空計(jì)、離子源→關(guān)精抽閥，前置閥→關(guān)羅茨泵→開(kāi)抽氣閥，取件→上料，反復(fù)開(kāi)始操作。 特別注意： 1.設(shè)備停用時(shí)，鍍膜室要保持真空狀態(tài)，減少內(nèi)表面氣體的吸附，防止氧化。 2.冷卻水通道場(chǎng)下才能對(duì)擴(kuò)散泵進(jìn)行加熱，未經(jīng)充分冷卻的泵不得與da氣接觸，防止氧化。 3.要保證機(jī)器內(nèi)擴(kuò)散泵和機(jī)械泵的油定期檢查和更換。 4.設(shè)備運(yùn)行中遇有停電或其它事故發(fā)生，須先停擴(kuò)散泵，關(guān)精抽閥，前置閥和真空計(jì)。 5.產(chǎn)品做完下班后，關(guān)了擴(kuò)散泵后須待溫度降低至60℃后才能關(guān)維持泵。
【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之放電清洗】利用熱絲或電極作為電子源，在其相對(duì)于待清洗的表面加負(fù)偏壓可以實(shí)現(xiàn)離子轟擊的氣體解吸及某些碳?xì)浠衔锏娜コＧ逑葱ЧQ于電極材料、幾何形狀及其與表面的關(guān)系。即取決于單位表面積上的離子數(shù)和離子能量，從而取決于有效電功率。在真空室中充入適當(dāng)分壓力的惰性氣體(典型的如Ar氣)，可以利用兩個(gè)適當(dāng)?shù)碾姌O間的低壓下的輝光放電產(chǎn)生的離子轟擊來(lái)達(dá)到清洗的目的。該方法中，惰性氣體被離化并轟擊真空室內(nèi)壁、真空室內(nèi)的其它結(jié)構(gòu)件及被鍍基片，它可以使某些真空系統(tǒng)免除被高溫烘烤。如果在充入的氣體中加入氧氣，對(duì)某些碳?xì)浠衔锟梢垣@得更好的清洗效果。因?yàn)檠鯕饪梢允鼓承┨細(xì)浠衔镅趸梢讚]發(fā)性氣體而容易被真空系統(tǒng)排除。不銹鋼高真空和超高真空容器表面上雜質(zhì)的主要成分是碳和碳?xì)浠衔铩Ｒ话闱闆r下，其中的碳不能單獨(dú)揮發(fā)．經(jīng)化學(xué)清洗后，需要引入Ar或Ar+O2混合氣體進(jìn)行輝光放電清洗，使表面上的雜質(zhì)和由于化學(xué)作用被束縛在表面上的氣體得到qing除。真空鍍膜機(jī)國(guó)內(nèi)有哪些產(chǎn)商？
【真空鍍膜機(jī)之卷繞機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)中應(yīng)考慮的問(wèn)題】 ①提高卷繞速度的問(wèn)題。卷繞速度即是帶狀基材運(yùn)動(dòng)的線(xiàn)速度，它是卷繞機(jī)構(gòu)的一個(gè)主要技術(shù)指櫟。國(guó)內(nèi)早期鍍膜機(jī)卷繞速度只有10m/min，現(xiàn)在也只有80m/min～120m/min，在國(guó)外日本的EW系列產(chǎn)品中，其卷繞速度已達(dá)到300m/min，德國(guó)L．H公司生產(chǎn)的鍍膜機(jī)已達(dá)到600m/min，可見(jiàn)隨著鍍膜技術(shù)的發(fā)展，卷繞速度有待提高。 ②帶狀基材的線(xiàn)速恒定問(wèn)題。這一問(wèn)題也很重要，因?yàn)橹挥芯砝@機(jī)構(gòu)保證帶狀基材的線(xiàn)速恒定，才能使基材上鍍層厚度均勻。這一點(diǎn)對(duì)制備帶狀基材的功能性膜（如電容器膜）尤為重要。 ③帶狀基材的跑偏和起褶問(wèn)題。隨著卷繞速度的提高，帶狀基材在卷繞鍍膜過(guò)程中，起褶和發(fā)生偏斜，嚴(yán)重時(shí)會(huì)造成基材的斷裂，使生產(chǎn)中斷，既影響生產(chǎn)效率，又浪費(fèi)材料。因此，在卷繞機(jī)構(gòu)的設(shè)計(jì)中應(yīng)充分考慮這一問(wèn)題。 真空鍍膜機(jī)真空度多少？浙江真空鍍膜機(jī)
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【真空鍍膜機(jī)之輔助抽氣系統(tǒng)】真空腔各部分有連接閥，用來(lái)連接各抽氣泵浦。輔助抽氣系統(tǒng)：排氣系統(tǒng)為鍍膜機(jī)真空系統(tǒng)的重要部分，主要有由機(jī)械泵、增壓泵(主要介紹羅茨泵)、油擴(kuò)散泵三da部分組成。此排氣系統(tǒng)采用“擴(kuò)散泵+機(jī)械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。排氣流程為：機(jī)械泵先將真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空狀態(tài)，為擴(kuò)散泵后繼抽真空提供前提，之后當(dāng)擴(kuò)散泵抽真空腔的時(shí)候，機(jī)械泵又配合油擴(kuò)散泵組成串聯(lián)，以這樣的方式完成抽氣動(dòng)作。上海二手卷繞式真空鍍膜機(jī)
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