【真空鍍膜之材料表面處理】表面處理：是在基體材料表面上人工形成一層與基體的機械、物理和化學性能不同的表層的工藝方法。表面處理的目的是滿足產品的耐蝕性、耐磨性、裝飾或其他特種功能要求。我們比較常用的表面處理方法是，機械打磨，化學處理，表面熱處理，噴涂表面，表面處理就是對工件表面進行清潔、清掃、去毛刺、去油污、去氧化皮等。常用表面處理的工藝有：真空電鍍、電鍍工藝、陽極氧化、電解拋光、移印工藝、鍍鋅工藝、粉末噴涂、水轉印、絲網印刷、電泳等。真空鍍膜機故障解決方法？安徽真空鍍膜射頻離子源制造生產廠家

【真空鍍膜設備的正常工作條件】1、環境溫度：10~30℃2、相對濕度：不da于70%3、冷卻水進水溫度：不高于25℃4、冷卻水質：城市自來水或質量相當的水5、供電電壓：380V，三相50Hz或220V，單相50Hz（由所用電器需要而定），電壓波動范圍342~399V或198V~231V，頻率波動范圍49~51Hz；6、設備所需的壓縮空氣、液氮、冷熱水等壓力、溫度、消耗量均應在產品使用說明書上寫明。7、設備周圍環境整潔、空氣清潔，不應有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導電的塵埃或氣體存在。此外，真空鍍膜設備所在實驗室或車間應保持清潔衛生。地面為水磨石或木質涂漆地面、無塵埃。為防止機械泵工作時排出的氣體對實驗室環境的污染，可采用在泵的排氣口上面裝設排氣管道（金屬、橡膠管）的辦法，將氣體排出室外。湖北射頻離子源價格真空鍍膜機技術教程。

【真空鍍膜機沖洗工藝之反應氣體沖洗】這種方法特別適用于da型超高不銹鋼真空系統的內部洗(去除碳氫化合物污染)。通常對于某些da型超高真空系統的真空室和真空元件，為了獲得原子態的清潔表面，消除其表面污染的標準方法是化學清洗，真空爐焙燒、輝光放電清洗及原能烘烤真空系統等方法。以上的清洗和除氣方法常用于真空系統安裝前及裝配期間。在真空系統安裝后(或系統運行后)，由于真空系統內的各種零部件已經被固定，這時對它們進行除氣處理就很困難，一旦系統受到(偶然)污染(主要是da原子數的分子如碳氫化合物的污染)，通常要拆卸后重新處理再安裝．而用反應氣體工藝，可以進行原位在線除氣處理．有效地除去不銹鋼真空室內的碳氫化合物的污染.其清洗機理：在系統中引述氧化性氣體(O2、N0)和還原性氣體(H2、NH3)對金屬表面進行化學反應清洗，消除污染，以便獲得原子態的清潔金屬表面。表面氧化／還原的速率取決于污染的情況及金屬表面的材質，表面反應速率的da小通過調整反應氣體的壓力和溫度來控制。對于每一種基材而言，精確的參數要通過實驗來確定.對于不同的結晶取向，這些參數是不同的。

【射頻離子源工作原理】：氣體通過一個專門設計的氣體絕緣器進入石英放電室，13.56mhz的射頻功率通過電感耦合進入放電室離化氣體。在產生plasma后、用柵網構成的加速系統將離子引出。初，離子被帶正電的Screen Grid集中、接下來加負電壓的加速柵網將離子束引出。被引出的離子形成離子束，向靶標輻射。離子所帶有的能量是由Screen grid的正電壓和Accelerator grid所加的負電壓大小所決定。離子源設備能促進光電產業升級，在國內也是一項“卡脖子”技術。具有能量高、熱輻射低、工作時間長、對膜層污染小、能量分布均勻性好、適應多種工作氣體的特點。真空鍍膜機抽真空步驟。

【真空鍍膜真空的基本概念】：真空的劃分：粗真空760Torr~10E&3Torr高真空10E&4Torr~10E&8Torr超高真空10E&9~10E&12Torr極高真空<10E&12Torr流導（導通量）：表示真空管道通過氣體的能力，單位為升/秒（L/S）。一般情況下，管道越短，直徑越da，表面越光滑，越直的管道流導也越da。流量：單位時間內流過任意截面的氣體量，單位為Torr·L/s或Pa·L/s。抽氣速率：在一定的壓強和溫度下，單位時間內由泵進氣口處抽走的氣體稱為抽氣速率，簡稱抽速。單位一般為L/S或m3/hr或CFM。極限真空：真空容器經充分抽氣后，穩定在某一真空度，此真空度稱為極限真空。真空鍍膜機的生產廠家。廣東光學鍍膜射頻離子源源頭實力廠家

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【真空鍍膜的膜層結構分布】基材：ABS、PC、ABS+PC、PP、PPMA、POM等樹脂類均可成型真空電鍍,要求底材為純原料,電鍍級別更佳,不可加再生材;底漆：UV底漆,對基材表面做預處理,為膜層的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情況可酌情加厚;膜層：靶材蒸發的結果，VM膜層可導電，NCVM鍍層不導電，且抗干擾性效果很好,膜層厚度0.3um以下。面漆：面漆利用三基色原理可與色漿搭配出各類顏色,同時對真空膜層起保護作用,再加上UV、PU的表面裝飾,效果更漂亮,厚度一般在8-10um,特殊情況可酌情加厚！安徽真空鍍膜射頻離子源制造生產廠家

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