【真空鍍膜真空的基本概念】： 真空的劃分： 粗真空 760Torr~10E&3Torr 高真空 10E&4Torr~10E&8Torr 超高真空 10E&9~10E&12 Torr 極高真空 <10E&12Torr 流導（導通量）：表示真空管道通過氣體的能力，單位為升/秒（L/S）。一般情況下，管道越短，直徑越大，表面越光滑，越直的管道流導也越大。 流量：單位時間內流過任意截面的氣體量，單位為Torr·L/s或Pa·L/s。 抽氣速率：在一定的壓強和溫度下，單位時間內由泵進氣口處抽走的氣體稱為抽氣速率，簡稱抽速。單位一般為L/S或m3/hr或CFM。 極限真空：真空容器經充分抽氣后，穩定在某一真空度，此真空度稱為極限真空。 真空鍍膜設備故障解決方法？河南真空鍍膜設備維修技術

【真空鍍膜機概述】：真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空電阻加熱蒸發，電子搶加熱蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積，離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。真空鍍膜機構造的五大系統：排氣系統、控制系統、蒸鍍系統、監控系統、輔助系統。真空鍍膜三要素：真空度、抽氣時間、溫度；任何鍍膜工藝都需要為這三個要素設定目標值；因此，只有當三個條件同時滿足時，自動化程序才會自動運行。真空鍍膜機需要做定期定期保養，目的在于：讓鍍膜機能長時間地正常運轉；降低故障時間，避免影響產能，減少損失；提高機器精度，穩定品質；加快抽氣速度，提升機器利用率等。河南真空鍍膜設備維修技術真空鍍膜設備的主要應用。

【真空鍍膜設備的分類】：這個問題如果在十年之前，其實是很容易回答的，就是兩個大類，物理沉積設備和化學沉積設備。現在這樣回答也是沒錯的，但現在再這樣回答就沒辦法把事情說清楚了，所以從應用領域上可以分成以下幾類：傳統光學器件（鏡片，濾光片）所用的鍍膜設備：單腔體或多腔體蒸發式鍍膜設備，濺射式鍍膜設備。新材料領域的柔性設備：卷對卷柔性鍍膜設備。光通訊行業：離子束濺射鍍膜設備。半導體及相似工藝：化學氣相沉積設備。功能膜：多弧離子鍍設備，濺射設備，蒸發設備玻璃工藝：濺射式連續線其余的就得歸到“工藝定制設備”這個范圍里面了，例如車燈鍍膜設備，太陽能的共蒸發設備，光纖鍍膜設備，太陽能管設備等等

    【真空鍍膜設備撿漏方法】:檢漏方法很多，根據被檢件所處的狀態可分為充壓檢漏法、真空檢漏法及其它檢漏法。充壓檢漏法：在被檢件內部充入一定壓力的示漏物質，如果被檢件上有漏孔，示漏物質便從漏孔漏出，用一定的方法或儀器在被檢件外部檢測出從漏孔漏出的示漏物質，從而判定漏孔的存在、位置及漏率的大小，此即充壓檢漏法。真空檢漏法：被檢件和檢漏器的敏感元件處于真空狀態，在被檢件的外部施加示漏物質，如果有漏孔，示漏物質就會通過漏孔進入被檢件和敏感元件的空間，由敏感元件檢測出示漏物質，從而可以判定漏孔的存在、位置利漏率的大小，這就是真空檢漏法。其它檢漏法：被檢件既不充壓也不抽真空，或其外部受壓等方法歸入其它檢漏法。背壓法就是其中主要方法之一。所謂“背壓檢漏法”是利用背壓室先將示漏氣體由漏孔充入被檢件，然后在真空狀態下使示漏氣體再從被檢件中漏出．以某種方法(或檢漏儀)檢測漏出的示漏氣體，判定被檢件的總漏率的方法。 真空鍍膜設備抽真空步驟。

【離子鍍膜法介紹】： 離子鍍膜技術是在真空條件下，應用氣體放電實現鍍膜的，即在真空室中使氣體或蒸發物質電離，在氣體離子或被蒸發物質離子的轟擊下、同時將蒸發物或其反應產物蒸鍍在基片上。根據不同膜材的氣化方式和離化方式可分為不同類型的離子鍍膜方式。膜材的氣化方式有電阻加熱、電子束加熱、等離子電子束加熱、高頻感應加熱、陰極弧光放電加熱等。氣體分子或原子的離化和激huo方式有：輝光放電型、電子束型、熱電子型、等離子電子束型、多弧型及高真空電弧放電型，以及各種形式的離子源等。不同的蒸發源與不同的電離或激發方式可以有多種不同的組合。常用的組合方式有：直流二極型(DCIP)、多陰極型、活性反應蒸鍍法(ABE)、空心陰極離子鍍(HCD)、射頻離子鍍(RFIP)等。廣東真空鍍膜設備廠家。河南真空鍍膜設備維修技術

真空鍍膜設備為什么會越來越慢？河南真空鍍膜設備維修技術

【濺射鍍膜定義】： 定義：所謂濺射，就是這充滿腔室的工藝氣體在高電壓的作用下，形成氣體等離子體（輝光放電），其中的陽離子在電場力作用下高速向靶材沖擊，陽離子和靶材進行能量交換，使靶材原子獲得足夠的能量從靶材表面逸出（其中逸出的還可能包含靶材離子）。這一整個的動力學過程，就叫做濺射。入射離子轟擊靶面時，將其部分能量傳輸給表層晶格原子，引起靶材中原子的運動。有的原子獲得能量后從晶格處移位，并克服了表面勢壘直接發生濺射；有的不能脫離晶格的束縛，只能在原位做振動并波及周圍原子，結果使靶的溫度升高；而有的原子獲得足夠大的能量后產生一次反沖，將其臨近的原子碰撞移位，反沖繼續下去產生高次反沖，這一過程稱為級聯碰撞。級聯碰撞的結果是部分原子達到表面，克服勢壘逸出，這就形成了級聯濺射，這就是濺射機理。當級聯碰撞范圍內反沖原子密度不高時，動態反沖原子彼此間的碰撞可以忽略，這就是線性級聯碰撞。河南真空鍍膜設備維修技術