【真空鍍膜改善基片與膜的結合】： 1. 加強去油去污處理，如是超聲波清洗，重點考慮去油，若是手擦，考慮先用碳酸鈣粉擦再清擦； 2. 加強鍍前烘烤； 3. 有條件時，機組安裝冷凝及（POLYCOLD）； 4. 提高真空度； 5. 有條件時，機組安裝離子源； 6. 膜料的去潮； 7. 保持工作環境的干燥； 8. 對于多層膜，在膜系設計時，就要考慮第yi層膜與基片的匹配； 9. 采取研磨液復新去除鏡片表面的腐蝕層； 10. 有時候適當降低蒸發速率對膜強度的提高有幫助，對提高膜表面光滑度有積極意義。 廣東真空鍍膜設備廠家。海南塑料真空鍍膜設備

【光譜分光不良的補救（補色）之停電】： 分光不良分為二種情況：一是全部膜系鍍制完成后，經測試分光不良，此類不良主要按六節所述方法處理，一般減反膜難以補救。但對于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補救。二是鍍制中途中斷（包括發現錯誤中斷）造成的分光不良，一般都可以通過后續努力補救。后續方法正確，補救成功率比較高。 中斷的原因形式之停電： 對于停電這種情況，比較好處理，只要確認前面鍍的沒錯，程序沒有用錯，就可以繼續原來的程序，要注意的是：如果某一層鍍了一部分繼續鍍下去時，交接處要減少一些膜厚（根據膜料、蒸發速率決定減少多少，一般時0.2~1nm左右），如果該層剩下的膜厚不足15~20秒蒸鍍時，要考慮降低蒸發速率或干脆不讀，通過后續層調整膜厚解決。海南真空鍍膜設備功能價格PVD真空鍍膜機的公司。

不同類型鍍膜機的適用范圍介紹1、磁控濺射鍍膜設備：應用于信息存儲領域，如磁信息存儲、磁光信息存儲等2、磁控濺射鍍膜機：應用于防護涂層，如飛機發動機的葉片、汽車鋼板、散熱片等3、磁控濺射鍍Al膜生產線：應用于太陽能利用領域，如太陽能集熱管、太陽能電池等4、光學鍍膜設備：應用于光學薄膜領域，如增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等5、AZO透明導電膜磁控濺射鍍膜生產線：應用于信息顯示領域，如液晶屏、等離子屏等6、觸摸屏連續式鍍膜生產線：應用于觸摸屏領域，如手機、電腦、MP4等數碼產品屏幕等。7、磁控中頻多弧離子鍍膜設備：應用于硬質涂層，如切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。8、PECVD磁控生產線：應用于集成電路制造，如薄膜電阻器、薄膜電容器、薄膜溫度傳感器等。9、蒸發式真空鍍膜設備：應用于在裝飾飾品上，如手機殼、表殼、眼鏡架、五金、小飾品等鍍膜。10、低輻射玻璃鍍膜生產線：應用于建筑玻璃方面，如陽光控制膜、低輻射玻璃、防霧防露和自清潔玻璃等。11、抗反射導電膜連續磁控濺射生產線：應用于電子產品領域，如液晶顯示器、液晶電視、MP4、車載顯示、手機顯示、數碼相機和掌聲電腦等。

【真空鍍膜磁控濺射法】： 濺射鍍膜Zui初出現的是簡單的直流二極濺射，它的優點是裝置簡單，但是直流二極濺射沉積速率低；為了保持自持放電，不能在低氣壓(<0．1 Pa)下進行；不能濺射絕緣材料等缺點限制了其應用。 磁控濺射是由二極濺射基礎上發展而來，在靶材表面建立與電場正交磁場，解決了二極濺射沉積速率低，等離子體離化率低等問題，成為目前鍍膜工業主要方法之一。磁控濺射與其它鍍膜技術相比具有如下特點：可制備成靶的材料廣，幾乎所有金屬，合金和陶瓷材料都可以制成靶材；在適當條件下多元靶材共濺射方式，可沉積配比精確恒定的合金；在濺射的放電氣氛中加入氧、氮或其它活性氣體，可沉積形成靶材物質與氣體分子的化合物薄膜；通過精確地控制濺射鍍膜過程，容易獲得均勻的高精度的膜厚；通過離子濺射靶材料物質由固態直接轉變為等離子態，濺射靶的安裝不受限制，適合于大容積鍍膜室多靶布置設計；濺射鍍膜速度快，膜層致密，附著性好等特點，很適合于大批量，高效率工業生產。近年來磁控濺射技術發展很快，具有代表性的方法有射頻濺射、反應磁控濺射、非平衡磁控濺射、脈沖磁控濺射、高速濺射等。真空鍍膜設備產業集群。

【濺射鍍膜定義】：定義：所謂濺射，就是這充滿腔室的工藝氣體在高電壓的作用下，形成氣體等離子體（輝光放電），其中的陽離子在電場力作用下高速向靶材沖擊，陽離子和靶材進行能量交換，使靶材原子獲得足夠的能量從靶材表面逸出（其中逸出的還可能包含靶材離子）。這一整個的動力學過程，就叫做濺射。入射離子轟擊靶面時，將其部分能量傳輸給表層晶格原子，引起靶材中原子的運動。有的原子獲得能量后從晶格處移位，并克服了表面勢壘直接發生濺射；有的不能脫離晶格的束縛，只能在原位做振動并波及周圍原子，結果使靶的溫度升高；而有的原子獲得足夠大的能量后產生一次反沖，將其臨近的原子碰撞移位，反沖繼續下去產生高次反沖，這一過程稱為級聯碰撞。級聯碰撞的結果是部分原子達到表面，克服勢壘逸出，這就形成了級聯濺射，這就是濺射機理。當級聯碰撞范圍內反沖原子密度不高時，動態反沖原子彼此間的碰撞可以忽略，這就是線性級聯碰撞。真空鍍膜設備廠家前幾。海南塑料真空鍍膜設備

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【離子鍍膜法之活性反應蒸鍍法】： 活性反應蒸鍍法(ABE):利用電子束加熱使膜材氣化；依靠正偏置探極和電子束間的低壓等離子體輝光放電或二次電子使充入的氧氣、氮氣、乙炔等反應氣體離化。這種方法的特點是：基板溫升小，要對基板加熱，蒸鍍效率高，能獲得三氧化鋁( AL2O3)、氮化鈦(TiN)、碳化鈦(TiC)等薄膜；可用于鍍機械制品、電子器件、裝飾品。 【離子鍍膜法之空心陰極離子鍍(HCD)】： 空心陰極離子鍍(HCD):利用等離子電子束加熱使膜材氣化；依靠低壓大電流的電子束碰撞使充入的氣體Ar或其它惰性氣體、反應氣體離化。這種方法的特點是：基板溫升小，要對基板加熱，離化率高，電子束斑較大，能鍍金屬膜、介質膜、化合物膜；可用于鍍裝飾鍍層、機械制品。海南塑料真空鍍膜設備