【真空鍍膜二極濺射與磁控濺射對比】： 靶材利用率（TU）：是指發生濺射的靶材質量占原靶材質量的比率。 公式表示：靶材利用率={原靶材質量（Kg）—濺射后靶材質量}/原靶材質量 注：①：磁控濺射靶材利用率稍低，電壓要求低，電流會高，濺射率提高，增加生產效率，降低成本。 ②：靶材使用壽命結素之前必須及時更換新靶材，防止靶材周圍物質發生濺射（金屬箔片、連接片、陰極） 兩種濺射技術的區別： ①：靶材利用率不同 ②：濺射腔室和陰極設計要求不同 ③：放電電流和放電電壓不同 ④：濺射率不同：磁控濺射有更短的沉積時間，更高的沉積量和更短沉積周期。真空鍍膜設備日常怎么維護？海南珠寶首飾真空鍍膜設備

【真空鍍膜反應磁控濺射法】： 制備化合物薄膜可以用各種化學氣相沉積或物理qi相沉積方法。但目前從工業大規模生產的要求來看，物理qi相沉積中的反應磁控濺射沉積技術具有明顯的優勢，因而被guang泛應用，這是因為： 1、反應磁控濺射所用的靶材料(單元素靶或多元素靶)和反應氣體(氧、氮、碳氫化合物等)通常很容易獲得很高的純度，因而有利于制備高純度的化合物薄膜。 2、反應磁控濺射中調節沉積工藝參數，可以制備化學配比或非化學配比的化合物薄膜，從而達到通過調節薄膜的組成來調控薄膜特性的目的。 3、反應磁控濺射沉積過程中基板溫度一般不會有很大的升高，而且成膜過程通常也并不要求對基板進行很高溫度的加熱，因此對基板材料的限制較少。 4、反應磁控濺射適于制備大面積均勻薄膜，并能實現單機年產上百萬平方米鍍膜的工業化生產。但是反應磁控濺射在20世紀90年代之前，通常使用直流濺射電源，因此帶來 了一些問題，主要是靶中毒引起的打火和濺射過程不穩定，沉積速率較低，膜的缺陷密度較高，這些都限制了它的應用發展。中國臺灣真空鍍膜設備哪種好廣東真空鍍膜設備廠家。

【光譜分光不良的補救（補色）之機器故障和人為中斷】： 分光不良分為二種情況：一是全部膜系鍍制完成后，經測試分光不良，此類不良主要按六節所述方法處理，一般減反膜難以補救。但對于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補救。二是鍍制中途中斷（包括發現錯誤中斷）造成的分光不良，一般都可以通過后續努力補救。后續方法正確，補救成功率比較高。 中斷的原因形式之機器故障和人為中斷： 模擬：根據已經實鍍的鏡片（測試比較片）實測分光數據輸入計算機膜系設計程序的優化目標值，再根據已經掌握的膜系信息輸入，采用倒推法逐層優化，模擬出實際鍍制的膜系數據。 *測試比較片是指隨鏡片一起鍍制（在傘片上、與鏡片同折射率），用于測試鍍后分光曲線的平片。 優化：再鎖定通過模擬得到的膜系數據，通過后續層膜厚優化找到實現目標的Zui佳方案。 試鍍：根據新優化的后續膜層數據，試鍍若干鏡片或測試片，確認補色膜系的可行性。 補色鍍：對試鍍情況確認后實施補色鍍。補色鍍前，確認基片是否潔凈，防止產生其他不良。

【真空鍍膜產品常見不良分析及改善對策之單片膜色不均勻】： 原因：主要是由于基片凹凸嚴重，與傘片曲率差異較大，基片上部、或下部法線與蒸發源構成的蒸發角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大，形成的膜厚差異大。另外鏡片被鏡圈（碟片）邊緣部遮擋、鏡圈（碟片）臟在蒸鍍時污染鏡片等也會造成膜色差異問題。 改善對策：改善鏡片邊緣的蒸發角 1. 條件許可，用行星夾具 2. 選用傘片平坦（R大）的機臺 3. 根據傘片孔位分布，基片形狀，制作專門的鋸齒形修正板。 4. 如果有可能，把蒸發源往真空室中間移動，也可改善單片的膜色均勻性。 5. 改善鏡圈（碟片），防止遮擋。 6. 注意旋轉傘架的相應部位對邊緣鏡片的部分遮擋 7. 清潔鏡圈（碟片） 8. 改善膜料蒸發狀況。 成都真空鍍膜設備廠家有哪些？

【真空鍍膜產品常見不良分析及改善對策之膜外色斑】： 色斑（也稱膜色亞克、燒蝕）是指鏡片上的膜色局部變異。有膜內色斑和膜外色斑二種。 膜外色斑改善對策： 1. 對減反膜，設計條件許可時，外層加以SiO2層，10nm左右即可（一般的外層膜是MgF2）。使外層趨于光滑、致密、減少有害物質的侵蝕。 2. 適當降低蒸鍍速率（在一定范圍內），提高膜層光滑度，減少吸附。 3. 鏡片在出罩后，待冷卻后再下傘和擦拭。 4. 鏡片在出罩后，放置在潔凈干燥的場合待冷卻。減少污染可能。 5. 用碳酸鈣粉，輕擦去除外層附著物。 6. 改善工作環境的濕度、溫差 7. 改善充氣口附近的環境，使充入的大氣干燥、潔凈。 8. 工作人員的個人衛生改善 9. 檢討真空室返油狀況，防止返油。 10. 適當降低基片溫度。 11. 改善膜系，取消太薄的膜層，根據硝材特性，選擇合適的膜層材料。錦成國泰真空鍍膜設備怎么樣？云南真空鍍膜設備收購

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【真空鍍膜產品常見不良分析及改善對策之膜外自霧】：現象：鍍膜完成后，表面有一些淡淡的白霧，用丙tong或混合液擦拭，會有越擦越嚴重的現象。用氧化鈰粉擦拭，可以擦掉或減輕?？赡艹梢蛴校?.膜結構問題，外層膜的柱狀結構松散，外層膜太粗糙2.蒸發角過大，膜結構粗糙3.溫差：鏡片出罩時內外溫差過大4.潮氣：鏡片出罩后擺放環境的潮氣5.真空室內POLYCOLD解凍時水汽過重6.蒸鍍中充氧不完全，膜結構不均勻。7.膜與膜之間的應力改善思路：膜外白霧成因很多但各有特征，盡量對癥下藥。主要思路，一是把膜做的致密光滑些不容易吸附，二是改善環境減少吸附的對象。改善對策：1.改善膜系，外層加二氧化硅，使膜表面光滑，不易吸附。2.降低出罩時的鏡片溫度3.改善充氧（加大），改善膜結構4.適當降低蒸發速率，改善柱狀結構5.離子輔助鍍膜，改善膜結構6.加上Polycold解凍時的小充氣閥7.從蒸發源和夾具上想辦法改善蒸發角8.改善基片表面粗糙度9.注意Polycold解凍時的真空度。海南珠寶首飾真空鍍膜設備