【真空鍍膜設備之低溫泵】： 低溫泵：低溫泵分為注入式液氦低溫泵和閉路循環氣氦制冷機低溫泵兩種。主要用于高真空或超高真空，屬于干泵，工作方式為氣體捕集。極限真空&6~&9Torr。 用低溫介質將抽氣面冷卻到20K 以下，抽氣面就能大量冷凝沸點溫度比該抽氣面溫度高的氣體，產生很大的抽氣作用。這種用低溫表面將氣體冷凝而達到抽氣目的的泵叫做低溫泵，或稱冷凝泵。低溫泵可以獲得抽氣速率Zui大、極限壓力Zui低的清潔真空，guang泛應用于半導體和集成電路的研究和生產，以及分子束研究、真空鍍膜設備、真空表面分析儀器、離子注入機和空間模擬裝置等方面。 真空鍍膜設備參數怎么調？遼寧真空鍍膜設備張以忱pdf

【真空鍍膜磁控濺射法】： 濺射鍍膜Zui初出現的是簡單的直流二極濺射，它的優點是裝置簡單，但是直流二極濺射沉積速率低；為了保持自持放電，不能在低氣壓(<0．1 Pa)下進行；不能濺射絕緣材料等缺點限制了其應用。 磁控濺射是由二極濺射基礎上發展而來，在靶材表面建立與電場正交磁場，解決了二極濺射沉積速率低，等離子體離化率低等問題，成為目前鍍膜工業主要方法之一。磁控濺射與其它鍍膜技術相比具有如下特點：可制備成靶的材料廣，幾乎所有金屬，合金和陶瓷材料都可以制成靶材；在適當條件下多元靶材共濺射方式，可沉積配比精確恒定的合金；在濺射的放電氣氛中加入氧、氮或其它活性氣體，可沉積形成靶材物質與氣體分子的化合物薄膜；通過精確地控制濺射鍍膜過程，容易獲得均勻的高精度的膜厚；通過離子濺射靶材料物質由固態直接轉變為等離子態，濺射靶的安裝不受限制，適合于大容積鍍膜室多靶布置設計；濺射鍍膜速度快，膜層致密，附著性好等特點，很適合于大批量，高效率工業生產。近年來磁控濺射技術發展很快，具有代表性的方法有射頻濺射、反應磁控濺射、非平衡磁控濺射、脈沖磁控濺射、高速濺射等。湖南耐爾亮真空鍍膜設備電子束蒸發真空鍍膜設備是什么？

【真空鍍膜產品常見不良分析及改善對策之膜外自霧】：現象：鍍膜完成后，表面有一些淡淡的白霧，用丙tong或混合液擦拭，會有越擦越嚴重的現象。用氧化鈰粉擦拭，可以擦掉或減輕。可能成因有：1.膜結構問題，外層膜的柱狀結構松散，外層膜太粗糙2.蒸發角過大，膜結構粗糙3.溫差：鏡片出罩時內外溫差過大4.潮氣：鏡片出罩后擺放環境的潮氣5.真空室內POLYCOLD解凍時水汽過重6.蒸鍍中充氧不完全，膜結構不均勻。7.膜與膜之間的應力改善思路：膜外白霧成因很多但各有特征，盡量對癥下藥。主要思路，一是把膜做的致密光滑些不容易吸附，二是改善環境減少吸附的對象。改善對策：1.改善膜系，外層加二氧化硅，使膜表面光滑，不易吸附。2.降低出罩時的鏡片溫度3.改善充氧（加大），改善膜結構4.適當降低蒸發速率，改善柱狀結構5.離子輔助鍍膜，改善膜結構6.加上Polycold解凍時的小充氣閥7.從蒸發源和夾具上想辦法改善蒸發角8.改善基片表面粗糙度9.注意Polycold解凍時的真空度。

【真空鍍膜濺射種類】： 1、反應濺射：氧化物，氮化物作為沉積物質 現象：①：靶材分子分裂，其于工藝氣體離子發生反應，形成化合物 ②：膜層性能改變 ③：靶材有可能中毒 2、二極濺射：二極濺射是一種經典的標準濺射技術，其中等離子體和電子均只沿著電場方向運動。 特征：①：無磁場 ②：濺射率低 ③：放電電壓高（＞500V） ④：鍍膜底物受熱溫度極易升高（＞500°C） 用途：主要用于金屬靶材、絕緣靶材、磁性靶材等的濺射鍍。 3、磁控濺射：暗區無等離子體產生，在磁控濺射下，電子呈螺旋形運動，不會直接沖向陽極。而是在電場力和磁場力的綜合作用在腔室內做螺旋運動。同時獲的能量而和工藝氣體以及濺射出的靶材原子進行能量交換，使氣體及靶材原子離子化，dada提高氣體等離子體密度，從而提高了濺射速率（可提高10—20倍）和濺射均勻性。真空鍍膜設備使用時，需要注意哪些問題?

【磁控濺射鍍膜的歷史】： 磁控濺射技術作為一種十分有效的薄膜沉積方法,被普遍地應用于許多方面，特別是在微電子、光學薄膜和材料表面處理等領域。1852年Grove首ci描述濺射這種物理現象,20世紀40年代濺射技術作為一種沉積鍍膜方法開始得到應用和發展。60年代后隨著半導體工業的迅速崛起,這種技術在集成電路生產工藝中,用于沉積集成電路中晶體管的金屬電極層,才真正得以普及和guang泛的應用。磁控濺射技術出現和發展,以及80年代用于制作CD的反射層之后,磁控濺射技術應用領域得到極大地擴展,逐步成為制造許多產品的一種常用手段。 【磁控濺射原理】: 電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞，電離出大量的氬離子和電子。氬離子在電場作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶原子，靶原子沉積在基片表面形成膜。二次電子受到磁場影響，被束縛在靶面的等離子體區域，二次電子在磁場作用下繞靶面做圓周運動，在運動過程中不斷和氬原子發生撞擊，電離出大量氬離子轟擊靶材。 【磁控濺射優缺點】： 優點：工藝重復性好，薄膜純度高，膜厚均勻，附著力好。 缺點：設備結構復雜，靶材利用率低。光學真空鍍膜設備制造商。湖南耐爾亮真空鍍膜設備

PVD真空鍍膜設備公司。遼寧真空鍍膜設備張以忱pdf

【光譜分光不良的補救（補色）之停電】： 分光不良分為二種情況：一是全部膜系鍍制完成后，經測試分光不良，此類不良主要按六節所述方法處理，一般減反膜難以補救。但對于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補救。二是鍍制中途中斷（包括發現錯誤中斷）造成的分光不良，一般都可以通過后續努力補救。后續方法正確，補救成功率比較高。 中斷的原因形式之停電： 對于停電這種情況，比較好處理，只要確認前面鍍的沒錯，程序沒有用錯，就可以繼續原來的程序，要注意的是：如果某一層鍍了一部分繼續鍍下去時，交接處要減少一些膜厚（根據膜料、蒸發速率決定減少多少，一般時0.2~1nm左右），如果該層剩下的膜厚不足15~20秒蒸鍍時，要考慮降低蒸發速率或干脆不讀，通過后續層調整膜厚解決。遼寧真空鍍膜設備張以忱pdf