【真空鍍膜產品常見不良分析及改善對策之破邊、炸裂】：一般的鍍膜會對基片加熱，由于基片是裝架在金屬圈、碟內，由于鏡圈或碟片與鏡片（基片）的熱膨脹系數不一致，冷卻過程中會造成鏡片的破便或炸裂。有些大鏡片，由于出罩時的溫度較高，與室溫的溫差較大，鏡片的熱應力作用造成鏡片炸裂或破邊。有些零件邊緣倒邊的形狀容易造成卡圈而破邊。改善對策：1.夾具（鏡圈、碟片）的設計，在尺寸配合上要合理，充分考慮制造誤差帶來的影響。2.注意鏡圈、碟片的變形，已經變形的夾具不能使用。3.選用合適的夾具才來哦（非導磁材料、不生銹、耐高溫不變性），不銹鋼較為理想（熱變形系數小），就是加工難度大，價格貴。4.對于大鏡片應降低出罩時的溫度，減少溫差，防止炸裂。5.如果時鏡圈，可以考慮在鏡圈上開槽，作為緩沖！真空鍍膜機使用時，需要注意哪些問題?安徽真空鍍膜設備 原材料

【光譜分光不良的補救（補色）之機器故障和人為中斷】：分光不良分為二種情況：一是全部膜系鍍制完成后，經測試分光不良，此類不良主要按六節所述方法處理，一般減反膜難以補救。但對于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補救。二是鍍制中途中斷（包括發現錯誤中斷）造成的分光不良，一般都可以通過后續努力補救。后續方法正確，補救成功率比較高。中斷的原因形式之機器故障和人為中斷：模擬：根據已經實鍍的鏡片（測試比較片）實測分光數據輸入計算機膜系設計程序的優化目標值，再根據已經掌握的膜系信息輸入，采用倒推法逐層優化，模擬出實際鍍制的膜系數據。*測試比較片是指隨鏡片一起鍍制（在傘片上、與鏡片同折射率），用于測試鍍后分光曲線的平片。優化：再鎖定通過模擬得到的膜系數據，通過后續層膜厚優化找到實現目標的Zui佳方案。試鍍：根據新優化的后續膜層數據，試鍍若干鏡片或測試片，確認補色膜系的可行性。補色鍍：對試鍍情況確認后實施補色鍍。補色鍍前，確認基片是否潔凈，防止產生其他不良。中國臺灣真空鍍膜設備咨詢真空鍍膜設備品牌推薦。

【真空鍍膜磁控濺射法】： 濺射鍍膜Zui初出現的是簡單的直流二極濺射，它的優點是裝置簡單，但是直流二極濺射沉積速率低；為了保持自持放電，不能在低氣壓(<0．1 Pa)下進行；不能濺射絕緣材料等缺點限制了其應用。 磁控濺射是由二極濺射基礎上發展而來，在靶材表面建立與電場正交磁場，解決了二極濺射沉積速率低，等離子體離化率低等問題，成為目前鍍膜工業主要方法之一。磁控濺射與其它鍍膜技術相比具有如下特點：可制備成靶的材料廣，幾乎所有金屬，合金和陶瓷材料都可以制成靶材；在適當條件下多元靶材共濺射方式，可沉積配比精確恒定的合金；在濺射的放電氣氛中加入氧、氮或其它活性氣體，可沉積形成靶材物質與氣體分子的化合物薄膜；通過精確地控制濺射鍍膜過程，容易獲得均勻的高精度的膜厚；通過離子濺射靶材料物質由固態直接轉變為等離子態，濺射靶的安裝不受限制，適合于大容積鍍膜室多靶布置設計；濺射鍍膜速度快，膜層致密，附著性好等特點，很適合于大批量，高效率工業生產。近年來磁控濺射技術發展很快，具有代表性的方法有射頻濺射、反應磁控濺射、非平衡磁控濺射、脈沖磁控濺射、高速濺射等。

【真空鍍膜設備的分類】： 這個問題如果在十年之前，其實是很容易回答的，就是兩個大類，物理沉積設備和化學沉積設備。現在這樣回答也是沒錯的，但現在再這樣回答就沒辦法把事情說清楚了，所以從應用領域上可以分成以下幾類： 傳統光學器件（鏡片，濾光片）所用的鍍膜設備：單腔體或多腔體蒸發式鍍膜設備，濺射式鍍膜設備。 新材料領域的柔性設備：卷對卷柔性鍍膜設備。 光通訊行業：離子束濺射鍍膜設備。 半導體及相似工藝：化學氣相沉積設備。 功能膜：多弧離子鍍設備，濺射設備，蒸發設備 玻璃工藝：濺射式連續線 其余的就得歸到“工藝定制設備”這個范圍里面了，例如車燈鍍膜設備，太陽能的共蒸發設備，光纖鍍膜設備，太陽能管設備等等 真空鍍膜設備故障解決方法？

【真空鍍膜產品常見不良分析及改善對策之膜強度】：膜強度時鏡片鍍膜的一項重要指標，也是鍍膜工序Zui常見的不良項。膜強度的不良（膜弱）主要表現為：1.擦拭專yong膠帶拉撕，產生成片脫落2.擦拭專yong膠帶拉撕，產生點狀脫落3.水煮15分鐘后用專yong膠帶拉撕產生點狀或片狀脫落4.用專yong橡皮頭、1Kg力摩擦40次，有道子產生5.膜層擦拭或未擦拭出現龜裂紋、網狀細道子改善思路：基片與膜層的結合是首要考慮的，其次是膜表面硬度光滑度以及膜應力。真空鍍膜機故障維修技巧有哪些？天津瑞康真空鍍膜設備

真空鍍膜設備主要用途？安徽真空鍍膜設備 原材料

【真空鍍膜簡介】： 真空（vacuum）是一種沒有任何物質的空間狀態，因為真空之中沒有介質，所以像聲音這種需要介質傳遞的能量在真空中是無法傳播的。1654年當時的馬德堡市zhang奧&托&格里克在今tian德國雷根斯堡進行了一項實驗，從而證明了真空是存在的。現在我們所說的真空并不是指空間內沒有任何物質，而是指在一個既定的空間內低于一個大氣壓的氣體狀態，我們把這種稀薄的狀態稱為真空。現在的真空鍍膜技術是在真空中把金屬、合金進行蒸發、濺射使其沉積在目標物體上。 在當今電子行業，很多的電子元器件都要使用真空鍍膜工藝，雖然我國的真空鍍膜技術起步較晚，但發展的十分迅速。真空鍍膜已經成為電子元器件制造的一項不可或缺的技術。目前的真空鍍膜技術主要分為：真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍。安徽真空鍍膜設備 原材料