【真空鍍膜機之卷繞機構設計中應考慮的問題】①提高卷繞速度的問題。卷繞速度即是帶狀基材運動的線速度,它是卷繞機構的一個主要技術指櫟。國內早期鍍膜機卷繞速度只有10m/min,現在也只有80m/min~120m/min,在國外日本的EW系列產品中,其卷繞速度已達到300m/min,德國L.H公司生產的鍍膜機已達到600m/min,可見隨著鍍膜技術的發展,卷繞速度有待提高。②帶狀基材的線速恒定問題。這一問題也很重要,因為只有卷繞機構保證帶狀基材的線速恒定,才能使基材上鍍層厚度均勻。這一點對制備帶狀基材的功能性膜(如電容器膜)尤為重要。③帶狀基材的跑偏和起褶問題。隨著卷繞速度的提高,帶狀基材在卷繞鍍膜過程中,起褶和發生偏斜,嚴重時會造成基材的斷裂,使生產中斷,既影響生產效率,又浪費材料。因此,在卷繞機構的設計中應充分考慮這一問題。射頻離子源可用于表面處理、材料改性、離子注入、等離子體刻蝕等應用。遼寧光學薄膜射頻離子源自主研發設計生產
【真空鍍膜之材料表面處理】表面處理:是在基體材料表面上人工形成一層與基體的機械、物理和化學性能不同的表層的工藝方法。表面處理的目的是滿足產品的耐蝕性、耐磨性、裝飾或其他特種功能要求。我們比較常用的表面處理方法是,機械打磨,化學處理,表面熱處理,噴涂表面,表面處理就是對工件表面進行清潔、清掃、去毛刺、去油污、去氧化皮等。常用表面處理的工藝有:真空電鍍、電鍍工藝、陽極氧化、電解拋光、移印工藝、鍍鋅工藝、粉末噴涂、水轉印、絲網印刷、電泳等。河南光學薄膜射頻離子源射頻離子源可用于制備納米材料、薄膜、光學器件等高科技產品。
【真空鍍膜機之鍍鋅工藝】在鋼鐵合金材料的表面鍍一層鋅以起美觀、防銹等作用的表面處理技術,表面的鋅層是一種電化學保護層,可以防止金屬腐壞,主要采用的方法是熱鍍鋅和電鍍鋅。適用材料:由于鍍鋅工藝依賴于冶金結合技術,所以只適合鋼和鐵的表面處理。工藝成本:無模具費用,周期短/人力成本中等,因為工件的表面質量很da程度上取決于鍍鋅前的人工表面處理。環境影響:由于鍍鋅工藝增長了鋼鐵件40-100年的使用壽命,很好的防止了工件的生銹和腐壞,所以對保護壞境有積極的作用。另外,鍍過鋅的工件在使用壽命到期后,可以重新送返鍍鋅槽,對液態鋅的反復利用不會產生化學或物理廢料。
【真空鍍膜之離子束濺射鍍膜】離子束濺射沉積法在離子源內由惰性氣體(通常為氬)產生具有較高能量的離子轟擊靶材料,把靶材料沉積到基片上的方法。離子束濺射沉積法的一da優點是基片相對于離子源和靶是du立的,它的溫度可以單獨控制。基片通常接地位,它和靶與高頻電路無關,不會象陰極濺射鍍膜那樣受到高能電子的轟擊,因而溫度較低。所以只要配置一臺較好的恒溫循環器(如HX1050型,控溫范圍為-10℃~50℃,精度≤0。5℃),實現對樣品臺的單獨控溫,就可以根據不同樣品的要求以及薄膜生長不同階段的溫度需要進行適當調節。根據現有離子束濺射設備的構造,設計、加工了專門的金屬樣品架,放上樣品后蓋上金屬壓片,用螺絲緊密地固定在鍍膜腔體的樣品臺上,可使樣品和控溫的樣品臺有良好的熱接觸。并在樣品架中放置了一個測溫鉑電阻,用螺絲把金屬壓片連同其下的鉑電阻一起固定壓緊,再用導線引出與高精度的萬用表相連,以監測薄膜生長過程中的樣品溫度。真空鍍膜機的產業集群。
【真空鍍膜之金屬拉絲】金屬拉絲:是指通過研磨產品在工件表面形成線紋,并且起到裝飾效果的一種表面處理手段。根據拉絲后紋路的不同可分為:直紋拉絲、亂紋拉絲、波紋、旋紋適用材料:幾乎所有的金屬材料都可以使用金屬拉絲工藝工藝成本:工藝方法簡單,設備需求簡單,材料消耗比較少,成本比較低廉,經濟效益尤其高環境影響:純金屬制品,表面無油漆等任何化學化工物質,600度高溫不燃燒,不會產生有毒氣體,符合消防標準的環保要求真空鍍膜機該如何維修。河南光學薄膜射頻離子源
真空鍍膜機機組是怎樣的?遼寧光學薄膜射頻離子源自主研發設計生產
【真空鍍膜機真空檢漏方法普及之熒光檢漏法】熒光檢漏法首先需要將熒光材料溶于如丙tong等一些浸潤性能好、易于揮發的有機溶劑中,使之成為飽和溶液;然后將被檢的真空部件外表面浸泡到溶液中或涂抹到部件表面,這一過程中,為了提升效果、縮短浸泡時間,可以在抽真空或者加壓條件下對其進行浸泡。如果存在漏孔,熒光劑溶液會因毛細作用滲入到其中;qing除表面多余的溶液,待有機溶劑揮發后,熒光材料便會在漏孔中殘留下來;此時再用紫外線燈光照射,漏孔位置就會觀察到明顯的熒光點。在進行紫外光源照射時,對于一些存在盲孔、表面不平的器件,可能也會存在殘留熒光材料,因此玻璃真空器件好在背面進行照射觀察;為了提高對比度也可以采用濾光放da鏡,過濾掉紫外線以外的其他光線,來獲得更佳的觀察效果;而在熒光材料的選擇時要注意其發光顏色和被檢真空部件的顏色要有明顯的反差。熒光檢漏法不僅用于真空系統檢漏中,而且也被用于鑄件、模壓金屬件以及焊接件的裂紋檢查等。遼寧光學薄膜射頻離子源自主研發設計生產