【真空鍍膜產品常見不良分析及改善對策之膜強度】： 膜強度時鏡片鍍膜的一項重要指標，也是鍍膜工序Zui常見的不良項。 膜強度的不良（膜弱）主要表現為： 1. 擦拭專yong膠帶拉撕，產生成片脫落 2. 擦拭專yong膠帶拉撕，產生點狀脫落 3. 水煮15分鐘后用專yong膠帶拉撕產生點狀或片狀脫落 4. 用專yong橡皮頭、1Kg力摩擦40次，有道子產生 5. 膜層擦拭或未擦拭出現龜裂紋、網狀細道子 改善思路：基片與膜層的結合是首要考慮的，其次是膜表面硬度光滑度以及膜應力。 電子束蒸發真空鍍膜設備是什么？北京真空鍍膜設備維護

【真空鍍膜真空的基本概念】： 真空的劃分： 粗真空 760Torr~10E&3Torr 高真空 10E&4Torr~10E&8Torr 超高真空 10E&9~10E&12 Torr 極高真空 <10E&12Torr 流導（導通量）：表示真空管道通過氣體的能力，單位為升/秒（L/S）。一般情況下，管道越短，直徑越大，表面越光滑，越直的管道流導也越大。 流量：單位時間內流過任意截面的氣體量，單位為Torr·L/s或Pa·L/s。 抽氣速率：在一定的壓強和溫度下，單位時間內由泵進氣口處抽走的氣體稱為抽氣速率，簡稱抽速。單位一般為L/S或m3/hr或CFM。 極限真空：真空容器經充分抽氣后，穩定在某一真空度，此真空度稱為極限真空。河南真空鍍膜設備復合真空計真空鍍膜設備廠家有哪些？

【真空鍍膜產品常見不良分析及改善對策之單片膜色不均勻】： 原因：主要是由于基片凹凸嚴重，與傘片曲率差異較大，基片上部、或下部法線與蒸發源構成的蒸發角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大，形成的膜厚差異大。另外鏡片被鏡圈（碟片）邊緣部遮擋、鏡圈（碟片）臟在蒸鍍時污染鏡片等也會造成膜色差異問題。 改善對策：改善鏡片邊緣的蒸發角 1. 條件許可，用行星夾具 2. 選用傘片平坦（R大）的機臺 3. 根據傘片孔位分布，基片形狀，制作專門的鋸齒形修正板。 4. 如果有可能，把蒸發源往真空室中間移動，也可改善單片的膜色均勻性。 5. 改善鏡圈（碟片），防止遮擋。 6. 注意旋轉傘架的相應部位對邊緣鏡片的部分遮擋 7. 清潔鏡圈（碟片） 8. 改善膜料蒸發狀況。

【真空鍍膜產品常見不良分析及改善對策之膜外自霧】： 現象：鍍膜完成后，表面有一些淡淡的白霧，用丙tong或混合液擦拭，會有越擦越嚴重的現象。用氧化鈰粉擦拭，可以擦掉或減輕。 可能成因有： 1. 膜結構問題，外層膜的柱狀結構松散，外層膜太粗糙 2. 蒸發角過大，膜結構粗糙 3. 溫差：鏡片出罩時內外溫差過大 4. 潮氣：鏡片出罩后擺放環境的潮氣 5. 真空室內POLYCOLD解凍時水汽過重 6. 蒸鍍中充氧不完全，膜結構不均勻。 7. 膜與膜之間的應力 改善思路：膜外白霧成因很多但各有特征，盡量對癥下藥。主要思路，一是把膜做的致密光滑些不容易吸附，二是改善環境減少吸附的對象。 改善對策： 1. 改善膜系，外層加二氧化硅，使膜表面光滑，不易吸附。 2. 降低出罩時的鏡片溫度 3. 改善充氧（加大），改善膜結構 4. 適當降低蒸發速率，改善柱狀結構 5. 離子輔助鍍膜，改善膜結構 6. 加上Polycold解凍時的小充氣閥 7. 從蒸發源和夾具上想辦法改善蒸發角 8. 改善基片表面粗糙度 9. 注意Polycold解凍時的真空度。 離子真空鍍膜設備是什么？

【光譜分光不良的補救（補色）之機器故障和人為中斷】： 分光不良分為二種情況：一是全部膜系鍍制完成后，經測試分光不良，此類不良主要按六節所述方法處理，一般減反膜難以補救。但對于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補救。二是鍍制中途中斷（包括發現錯誤中斷）造成的分光不良，一般都可以通過后續努力補救。后續方法正確，補救成功率比較高。 中斷的原因形式之機器故障和人為中斷： 模擬：根據已經實鍍的鏡片（測試比較片）實測分光數據輸入計算機膜系設計程序的優化目標值，再根據已經掌握的膜系信息輸入，采用倒推法逐層優化，模擬出實際鍍制的膜系數據。 *測試比較片是指隨鏡片一起鍍制（在傘片上、與鏡片同折射率），用于測試鍍后分光曲線的平片。 優化：再鎖定通過模擬得到的膜系數據，通過后續層膜厚優化找到實現目標的Zui佳方案。 試鍍：根據新優化的后續膜層數據，試鍍若干鏡片或測試片，確認補色膜系的可行性。 補色鍍：對試鍍情況確認后實施補色鍍。補色鍍前，確認基片是否潔凈，防止產生其他不良。 光學真空鍍膜設備制造商。廣西真空鍍膜設備應用

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【真空鍍膜真空蒸發鍍膜原理】: 真空蒸發法的原理是：在真空條件下，用蒸發源加熱蒸發材料，使之蒸發或升華進入氣相，氣相粒子流直接射向基片上沉積或結晶形成固態薄膜；由于環境是真空，因此，無論是金屬還是非金屬，在這種情況下蒸發要比常壓下容易得多。真空蒸發鍍膜是發展較早的鍍膜技術，其特點是：設備相對簡單，沉積速率快，膜層純度高，制膜材料及被鍍件材料范圍很廣，鍍膜過程可以實現連續化，應用相當guang泛。按蒸發源的不同，主要分為：電阻加熱蒸發、電子束蒸發、電弧蒸發和激光蒸發等。 北京真空鍍膜設備維護

成都國泰真空設備有限公司屬于機械及行業設備的高新企業，技術力量雄厚。是一家有限責任公司企業，隨著市場的發展和生產的需求，與多家企業合作研究，在原有產品的基礎上經過不斷改進，追求新型，在強化內部管理，完善結構調整的同時，良好的質量、合理的價格、完善的服務，在業界受到寬泛好評。公司擁有專業的技術團隊，具有光學鍍膜設備，真空鍍膜設備，光學真空鍍膜機，紅外鍍膜設備等多項業務。國泰真空自成立以來，一直堅持走正規化、專業化路線，得到了廣大客戶及社會各界的普遍認可與大力支持。