【真空鍍膜二極濺射與磁控濺射對比】: 靶材利用率(TU):是指發生濺射的靶材質量占原靶材質量的比率。 公式表示:靶材利用率={原靶材質量(Kg)—濺射后靶材質量}/原靶材質量 注:①:磁控濺射靶材利用率稍低,電壓要求低,電流會高,濺射率提高,增加生產效率,降低成本。 ②:靶材使用壽命結素之前必須及時更換新靶材,防止靶材周圍物質發生濺射(金屬箔片、連接片、陰極) 兩種濺射技術的區別: ①:靶材利用率不同 ②:濺射腔室和陰極設計要求不同 ③:放電電流和放電電壓不同 ④:濺射率不同:磁控濺射有更短的沉積時間,更高的沉積量和更短沉積周期。真空鍍膜設備為什么會越來越慢?安徽真空鍍膜設備廠
【真空鍍膜產品常見不良分析及改善對策之單片膜色不均勻】: 原因:主要是由于基片凹凸嚴重,與傘片曲率差異較大,基片上部、或下部法線與蒸發源構成的蒸發角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大,形成的膜厚差異大。另外鏡片被鏡圈(碟片)邊緣部遮擋、鏡圈(碟片)臟在蒸鍍時污染鏡片等也會造成膜色差異問題。 改善對策:改善鏡片邊緣的蒸發角 1. 條件許可,用行星夾具 2. 選用傘片平坦(R大)的機臺 3. 根據傘片孔位分布,基片形狀,制作專門的鋸齒形修正板。 4. 如果有可能,把蒸發源往真空室中間移動,也可改善單片的膜色均勻性。 5. 改善鏡圈(碟片),防止遮擋。 6. 注意旋轉傘架的相應部位對邊緣鏡片的部分遮擋 7. 清潔鏡圈(碟片) 8. 改善膜料蒸發狀況。安徽真空鍍膜設備廠真空鍍膜設備大概多少錢一臺?
【光學薄膜理論基礎】: 光學薄膜基本上是借由干涉作用而達到效果的。是在光學元件上或獨li的基板上鍍一層或多層的介電質膜或金屬膜或介電質膜或介電質膜與金屬膜組成的膜堆來改變廣播傳到的特性。因此波在薄膜中行進才會發生投射、反射、吸收、散射、相位偏移等變化。 光波經過薄膜后在光譜上會起變化,因此這些變化會使得光學薄膜至少具有下列功能: &反射的提高或穿透的降低 &反射的降低或穿透的提高 &雙色、偏極光的分光作用 &光譜帶通或戒指等濾光作用 &輻射器之光通量調整 &光電資訊的儲存及輸入
【離子鍍膜法之射頻離子鍍】: 射頻離子鍍(RFIP):利用電阻或電子束加熱使膜材氣化;依靠射頻等離子體放電使充入的真空Ar及其它惰性氣體、反應氣體氧氣、氮氣、乙炔等離化。這種方法的特點是:基板溫升小,不純氣體少,成膜好,適合鍍化合物膜,但匹配較困難。可應用于鍍光學器件、半導體器件、裝飾品、汽車零件等。射頻離子鍍膜設備對周遭環境沒有不利影響,符合現代綠色制造的工業發展方向。目前,該類型設備已經guang泛用在硬質合金立銑刀、可轉位銑刀、焊接工具、階梯鉆、鉆頭、鉸刀、油孔鉆、車刀、異型刀具、絲錐等工具的鍍膜處理上。 此外,離子鍍法還包括有低壓等離子體離子鍍,感應離子加熱鍍,集團離子束鍍和多弧離子鍍等多種方法。真空鍍膜設備品牌推薦。
【光譜分光不良的補救(補色)之停電】: 分光不良分為二種情況:一是全部膜系鍍制完成后,經測試分光不良,此類不良主要按六節所述方法處理,一般減反膜難以補救。但對于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補救。二是鍍制中途中斷(包括發現錯誤中斷)造成的分光不良,一般都可以通過后續努力補救。后續方法正確,補救成功率比較高。 中斷的原因形式之停電: 對于停電這種情況,比較好處理,只要確認前面鍍的沒錯,程序沒有用錯,就可以繼續原來的程序,要注意的是:如果某一層鍍了一部分繼續鍍下去時,交接處要減少一些膜厚(根據膜料、蒸發速率決定減少多少,一般時0.2~1nm左右),如果該層剩下的膜厚不足15~20秒蒸鍍時,要考慮降低蒸發速率或干脆不讀,通過后續層調整膜厚解決。 真空鍍膜設備怎么保養?江蘇真空鍍膜設備有多貴
真空鍍膜設備相關資料。安徽真空鍍膜設備廠
【真空鍍膜設備之真空的測量】: 真空計: A、熱偶規、皮拉尼規、對流規: 用來測粗真空的真空計,從大氣到1E&5Torr,精度一般在10%,皮拉尼規精度高的可到5%, 反應較慢,受溫度變化的影響較大。 B、離子規: 用來測高真空或超高真空的真空計,熱燈絲的離子規測量范圍一般從1E&4到1E&9Torr,特殊的有些甚至可以低到&10甚至&11Torr,精度在10%~20%,燈絲在工作時遇到大氣會燒毀;冷陰極的離子規一般可以測到1E&11Torr,精度在20%~50%,特別是超高真空下測量精度很差,需要高壓電源,探頭內有磁鐵,使用時不能用于某些無磁的場合。 C、電容式壓力計: 探頭Zui大壓力從25000Torr到0.1Torr,動態范圍大約104范圍,比如,1Torr量程的Zui低是5E&4Torr,通常精度在讀數的0.25%,可以高到0.15%。 D、寬量程真空計: 皮拉尼規和熱燈絲離子規的組合,兩個規可以自動切換,在低真空時切換到皮拉尼規,高真空時可切換到離子規。安徽真空鍍膜設備廠
成都國泰真空設備有限公司是一家一般項目:泵及真空設備制造‘泵及真空設備銷售;機械設備銷售;機械零件、零部件銷售;光學儀器銷售;光學玻璃銷售;功能玻璃和新型光學材料銷售;電子元器件批發;技術服務、技術開發、技術咨詢、技術交流、技術轉讓、技術推廣。的公司,是一家集研發、設計、生產和銷售為一體的專業化公司。國泰真空作為一般項目:泵及真空設備制造‘泵及真空設備銷售;機械設備銷售;機械零件、零部件銷售;光學儀器銷售;光學玻璃銷售;功能玻璃和新型光學材料銷售;電子元器件批發;技術服務、技術開發、技術咨詢、技術交流、技術轉讓、技術推廣。的企業之一,為客戶提供良好的光學鍍膜設備,真空鍍膜設備,光學真空鍍膜機,紅外鍍膜設備。國泰真空繼續堅定不移地走高質量發展道路,既要實現基本面穩定增長,又要聚焦關鍵領域,實現轉型再突破。國泰真空始終關注機械及行業設備行業。滿足市場需求,提高產品價值,是我們前行的力量。