【真空鍍膜機概述】： 真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空電阻加熱蒸發，電子搶加熱蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積，離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。 真空鍍膜機構造的五大系統：排氣系統、控制系統、蒸鍍系統、監控系統、輔助系統。 真空鍍膜三要素：真空度、抽氣時間、溫度；任何鍍膜工藝都需要為這三個要素設定目標值；因此，只有當三個條件同時滿足時，自動化程序才會自動運行。 真空鍍膜機需要做定期定期保養，目的在于：讓鍍膜機能長時間地正常運轉；降低故障時間，避免影響產能，減少損失；提高機器精度，穩定品質；加快抽氣速度，提升機器利用率等。離子真空鍍膜設備是什么？貴州磁控濺射真空鍍膜設備

【真空鍍膜產品常見不良分析及改善對策之膜內色斑】： 色斑（也稱膜色亞克、燒蝕）是指鏡片上的膜色局部變異。有膜內色斑和膜外色斑二種。 膜內色斑改善對策： 1. 加快研磨（拋光）到鍍膜的周期，減少鏡片被污染服飾的幾率，注意：是鏡片的全部拋光面。 2. 拋光加工中，注意對另一已拋好光的面保護 3. 注意拋光加工中的工裝、夾具、加工方法，以免造成對鏡片表面局部腐蝕傷害 4. 拋光加工完成的光面，必須立即清潔干凈，不能有拋光粉或其他雜志附著干結。 5. 控制研磨拋光液的PH值 6. 鍍膜前，用拋光粉或碳酸鈣粉對鏡片拋光面復新。 7. 加強鍍前的離子轟擊 8. 對于可見光區減反膜，在滿足技術要求的前提下設計制作成單峰形，反射色呈淡綠色，掩蓋色斑。 9. 對于化學性能較好的鏡片，在清洗前先用退膜液或稀酸液侵泡去除腐蝕斑 10. 選擇合適的膜層匹配對色斑改善也有幫助 11. 提高基片鍍制時的溫度，加快水汽的徹底揮發。 12. 第yi層鍍上Al2O3膜層一般會有好的改善效果。 云南大型真空鍍膜設備真空鍍膜設備大概多少錢一臺？

【真空鍍膜濺射種類】： 1、反應濺射：氧化物，氮化物作為沉積物質 現象：①：靶材分子分裂，其于工藝氣體離子發生反應，形成化合物 ②：膜層性能改變 ③：靶材有可能中毒 2、二極濺射：二極濺射是一種經典的標準濺射技術，其中等離子體和電子均只沿著電場方向運動。 特征：①：無磁場 ②：濺射率低 ③：放電電壓高（＞500V） ④：鍍膜底物受熱溫度極易升高（＞500°C） 用途：主要用于金屬靶材、絕緣靶材、磁性靶材等的濺射鍍。 3、磁控濺射：暗區無等離子體產生，在磁控濺射下，電子呈螺旋形運動，不會直接沖向陽極。而是在電場力和磁場力的綜合作用在腔室內做螺旋運動。同時獲的能量而和工藝氣體以及濺射出的靶材原子進行能量交換，使氣體及靶材原子離子化，dada提高氣體等離子體密度，從而提高了濺射速率（可提高10—20倍）和濺射均勻性。

【真空鍍膜產品常見不良分析及改善對策之膜料點】： 膜料點不良也是鍍膜產品的一個常見問題，在日企、臺企把膜料點稱為“斑孔”。顧名思義，膜料點就是蒸鍍中，大顆粒膜料點隨著膜料蒸汽分子一起蒸鍍到了基片的表面。在基片表面形成點狀的突起，有時是個別點，嚴重時時成片的細點，大顆粒點甚至打傷基片表面。 改善對策： 1. 選擇雜質少的膜料 2. 對易飛濺的膜料選擇顆粒合適的膜料 3. 膜料在鍍前用網篩篩一下 4. 精心預熔 5. 用一把電子搶鍍制幾種膜料時，防止坩堝轉動中膜料參雜及擋板掉下膜料渣造成膜料污染。 6. 盡Zui大可能使用蒸發舟、坩堝干凈。 7. 選擇合適的蒸發速率及速率曲線的平滑。 8. 膜料去潮，將待用膜料用培養皿盛放在真空室干燥。 真空鍍膜設備抽真空步驟。

【真空鍍膜改善外層膜表面硬度】： 減反膜一般外層選用MgF2,該層剖面是較為松散的柱狀結構，表面硬度不高，容易擦拭出道子。改善外層表面硬度的方法包括： 1. 在膜系設計允許的條件下，膜外層加10nm左右的二氧化硅膜層，二氧化硅的表面光滑度優于氟化鎂（但二氧化硅表面耐磨度、硬度不如氟化鎂）。鍍膜后離子轟擊幾分鐘，牢固度效果會更好。（但表面會變粗） 2. 鏡片取出真空室后，放置在較為干燥潔凈的地方，防止鏡片快速吸潮，表面硬度降低。 真空鍍膜設備產業集群。湖北真空鍍膜設備的保養

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【真空鍍膜產品常見不良分析及改善對策之膜外自霧】： 現象：鍍膜完成后，表面有一些淡淡的白霧，用丙tong或混合液擦拭，會有越擦越嚴重的現象。用氧化鈰粉擦拭，可以擦掉或減輕。 可能成因有： 1. 膜結構問題，外層膜的柱狀結構松散，外層膜太粗糙 2. 蒸發角過大，膜結構粗糙 3. 溫差：鏡片出罩時內外溫差過大 4. 潮氣：鏡片出罩后擺放環境的潮氣 5. 真空室內POLYCOLD解凍時水汽過重 6. 蒸鍍中充氧不完全，膜結構不均勻。 7. 膜與膜之間的應力 改善思路：膜外白霧成因很多但各有特征，盡量對癥下藥。主要思路，一是把膜做的致密光滑些不容易吸附，二是改善環境減少吸附的對象。 改善對策： 1. 改善膜系，外層加二氧化硅，使膜表面光滑，不易吸附。 2. 降低出罩時的鏡片溫度 3. 改善充氧（加大），改善膜結構 4. 適當降低蒸發速率，改善柱狀結構 5. 離子輔助鍍膜，改善膜結構 6. 加上Polycold解凍時的小充氣閥 7. 從蒸發源和夾具上想辦法改善蒸發角 8. 改善基片表面粗糙度 9. 注意Polycold解凍時的真空度。 貴州磁控濺射真空鍍膜設備

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