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ITO蝕刻液剝離液

來源: 發布時間:2023-05-17

    例如即使為50/50μm以下的線/間距、推薦10/10~40/40μm的線/間距也能除去抗蝕劑。實施例以下,舉出實施例對本發明進行詳細說明,但本發明不受這些實施例任何限定。實施例1抗蝕劑的剝離液的制備:將以下的表1中記載的成分在水中混合、溶解而制備抗蝕劑的剝離液。【表1】(mol/l)氫氧化鉀氫氧化鈉異丙基溶纖劑硅酸鉀本發明組成:(1)基板制作方法為了提**膜抗蝕劑一基材間的密合,將覆銅層疊板(古河電工(株式會社)制:ccl:電解銅箔gts35μm箔)通過粗化處理(jcu制:ebakemuneobrownnbsii、蝕刻量μm)使表面粗度成為ra約μm。其后,使用干膜抗蝕劑(日立化成制:rd-1225(sap用):25μm厚)實施從層壓到圖案曝光、顯影。向本基板以15μm厚實施鍍銅(jcu制:cu-britevl)后,切出50×50mm2作為試驗片。需要說明的是,該試驗片是在一片上具有以下的表2的l/s的圖案部分和黏性部分的試驗片。(2)圖案基板上殘留的抗蝕劑的評價方法上述評價方法中將噴涂運行時間固定在4分鐘,按照以下的評價基準評價l/s=20/20~40/40μm的圖案部分有無剝離殘渣。將其結果示于表2。<剝離殘渣的評價基準>(分數)(內容)1:無殘渣2:有極少量殘渣。哪家剝離液質量比較好一點?ITO蝕刻液剝離液

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    本發明**技術公開了一種印刷品膠面印刷剝離復合裝置,包括主支撐架、橫向支架、伺服變頻電機、電機減速箱、印刷品放置箱、表面印刷結構、膠面剝離結構,所述主支撐架上方設置有所述橫向支架,所述橫向支架上方設置有所述伺服變頻電機,所述卷邊輥一側安裝有膠面收卷輥,所述膠面剝離結構一側安裝有電加熱箱,所述電加熱箱下方安裝有熱風噴頭,所述熱風噴頭下方安裝有干燥度感應器,所述干燥度感應器下方安裝有電氣控制箱,所述電氣控制箱上方安裝有液晶操作面板。有益效果在于:采用黏合方式對印刷品膠面印刷進行剝離,同時能夠對印刷品膠面進行回收,節約了大量材料,降低了生產成本。AprintedpeelingcompounddeviceforprintingsurfaceprintingTheinventiondisclosesaprintedpeelingstrippingcompounddevice,whichincludesamainsupportframe,alateralbracket,aservomotor,amotordecelerationbox,aprintingbox,【技術實現步驟摘要】一種印刷品膠面印刷剝離復合裝置本**技術涉及印刷品加工設備領域,本**技術涉及一種印刷品膠面印刷剝離復合裝置。技術介紹膠面印又稱膠上印。郵票圖案誤印在涂有背膠的一面。在郵票印刷過程中,不慎將郵票**涂膠紙放反而造成。郵票膠面印后。ITO蝕刻液剝離液什么制程中需要使用剝離液。

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剝離液是一種通用濕電子化學品,主要用于去除金屬電鍍或者蝕刻加工完成后的光刻膠和殘留物質,同時防止對襯底層造成破壞。剝離液是集成電路、分立器件、顯示面板、太陽能電池等生產濕法工藝制造的關鍵性電子化工材料,下游應用領域***,但整體應用需求較低,因此市場規模偏小。

剝離液應用在太陽能電池中,對于剝離液的潔凈度要求較低,*需達到G1等級,下游客戶主要要天合、韓華、通威等;應用到面板中,通常要達到G2、G3等級,且高世代線對于剝離液的要求要高于低世代線,下游客戶有京東方、中星光電;在半導體中的應用可分等級,在8英寸及以下的晶圓制造中,對于剝離液的要求達到G3、G4水平,大硅片、12英寸晶元等**產品要達到G5水平。

    使用當前級腔室相應的過濾器過濾來自當前級腔室的剝離液并將過濾后的剝離液傳輸至下一級腔室;若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞,則關閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關;取出被阻塞的所述過濾器。在一些實施例中,所述若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞,則關閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關包括:若所述過濾器包括多個并列排布的子過濾器,則關閉連接被阻塞的所述子過濾器的管道上的閥門開關。本申請實施例還提供一種剝離液機臺,包括:依次順序排列的多級腔室、每一級所述腔室對應連接一存儲箱;過濾器,所述過濾器的一端設置通過***管道與當前級腔室對應的存儲箱連接,所述過濾器的另一端通過第二管道與下一級腔室連接;其中,至少在所述***管道或所述第二管道上設置有閥門開關開關。通過閥門開關控制連接每一級腔室的過濾器相互獨立,從而在過濾器被阻塞時通過閥門開關將被堵塞的過濾器取下并不影響整體的剝離進程,提高生產效率。附圖說明為了更清楚地說明本申請實施例中的技術方案,下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖**是本申請的一些實施例,對于本領域技術人員來講。銅剝離液的配方是什么?

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鋁剝離液的配方是什么?ITO蝕刻液剝離液

光刻膠又稱光致抗蝕劑,主要由感光樹脂、增感劑和溶劑三種成分組成。感光樹脂經光照后,在曝光區能很快地發生光固化反應,使得這種材料的物理性能,特別是溶解性、親合性等發生明顯變化。經曝光、顯影、刻蝕、擴散、離子注入、金屬沉積等工藝將所需的微細圖形從掩模版轉移至加工的基板上、***通過去膠剝離液將未曝光部分余下的光刻膠清洗掉,從而完成整個圖形轉移過程。在液晶面板和amoled生產中***使用。現有的剝離液主要有兩種,分別是水性剝離液和有機剝離液,由于有機剝離液只能用于具有mo/al/mo結構的制程中,無法用于ito/ag/ito;且乙醇胺的含量高達60%以上,有很強的腐蝕性,因此,常用的剝離液是水性剝離液,現有的水性剝離液主要成分為有機胺化合物、極性有機溶劑以及水,但現有的水性剝離液大都存在腐蝕金屬配線、光刻膠殘留、環境污染大、影響操作人員的安全性、剝離效果差等問題。ITO蝕刻液剝離液

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