本發明涉及玻璃減薄技術領域,具體涉及一種玻璃減薄設備。背景技術:隨著便攜式電子器件的發展,手機、平板等便攜式電子器件越來越纖細化及薄型化,因此需要制造較薄的玻璃基板。為了制造較薄的玻璃基板,目前的采用的方法是浸泡式減薄法。用浸泡式減薄法減薄玻璃是將玻璃減薄液放入玻璃減薄設備的反應槽中,然后將玻璃放入玻璃減薄液中放置一定時間,使玻璃減薄液與玻璃反應,實現玻璃減薄。目前的浸泡式減薄法中,反應產物會懸浮于玻璃減薄液中,然后再粘附在玻璃上,造成不良品;并且,這種方法容易造成蝕刻不均,導致進行減薄后還需要進行拋光處理,提高了制備成本。鑒于上述缺陷,本發明創作者經過長時間的研究和實踐終于獲得了本發明。技術實現要素:為解決上述技術缺陷,本發明采用的技術方案在于,提供一種玻璃減薄設備,包括蝕刻區,用于對豎直容納在玻璃加工治具中的多個玻璃進行減薄處理;沖洗區,用于所述玻璃加工治具上的玻璃進行減薄前清潔和減薄后清潔;轉換區,用于待減薄處理的所述玻璃加工治具加載到所述沖洗區中,并將減薄處理后的所述玻璃加工治具從所述沖洗區卸載到外部;制動組件。減薄清洗劑,采用獨特工藝,輕松去除頑固涂層。深圳半導體減薄用清洗劑生產
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將待加工部件固定在托盤上包括:采用光刻膠將待加工部件固定在托盤上。具體地,將待加工部件背面噴涂厚度約為2μm的光刻膠,如az4620光刻膠,然后在托盤表面噴涂厚度約為3μm的光刻膠,如az4620光刻膠,之后,將托盤光刻膠面向上放于溫度為90℃的熱板上,將待加工部件光刻膠面和托盤光刻膠面貼合,在2×10-2mabr真空下,施加1bar壓強于待加工部件上進行鍵合,鍵合時間20min。s102:通過噴頭向待加工部件的待加工表面噴涂拋光液,來對待加工表面進行拋光;s103:通過磁轉子旋轉對待加工表面進行機械研磨,來對待加工表面進行減薄。可選地,本發明實施例中,s102和s103可以交替進行,也就是說,控制磁轉子旋轉一段時間后,控制磁轉子停止旋轉,并控制噴頭噴涂拋光液,停止噴涂拋光液后,再次控制磁轉子旋轉,以此類推。本發明實施例中,通過磁轉子和噴頭交替工作,實現了減薄和拋光兩種工藝交替作用,使得減薄和拋光一體化完成,整個過程穩定,速度快,控制性好,重復度高,無粉塵污染,襯底減薄終厚度達到20μm,拋光面ra<2nm。由于減薄過程中待加工部件20如inp基晶圓本身不旋轉,因此,可以降低拋光減薄過程中對待加工部件20如inp基晶圓的擠壓應力。
在本發明的一個實施例中,拋光液110的主要成分包括:碳化硅顆粒,顆粒直徑為50nm~200nm,體積比為3%~5%;次氯酸鹽,體積比為30%~40%;氫溴酸,體積比為5%~7%,di水,體積比50~60%。本發明的一個實施例中,如圖3所示,磁轉子12包括截面為半圓形的柱狀磁性結構120和位于柱狀磁性結構120的底部平面的研磨層121,以通過研磨層121對待加工部件20的待加工表面進行機械研磨。當然,本發明并不僅限于此,在其他實施例中,可以根據實際需求選擇合適的磁轉子形狀。可選地,研磨層121為金屬氧化物層,進一步可選地,金屬氧化物層包括三氧化二鋁層。可選地,研磨層121的厚度為10μm。本發明實施例中,如圖4所示,磁轉子12沿箭頭所示方向旋轉,如沿逆時針或順時針方向旋轉,并且,磁轉子12的長度近似等于待加工部件20如inp基晶圓的直徑,以對整個待加工表面進行研磨。本發明實施例中,拋光減薄裝置還包括控制部件。控制部件與磁轉子12和噴頭11相連,用于控制噴頭11和磁轉子12交替工作,以對待加工表面交替進行拋光和減薄。其中,控制部件通過脈沖方式控制噴頭11和磁轉子12交替工作。可選地,控制部件控制磁轉子12的轉速為80rpm~200rpm。哪里可以買到玻璃清洗劑;
所述控制器進行第二次減薄厚度確認操作;具體的,通過設置于所述第三沖洗區2的第二輔助厚度測量儀進行厚度檢測,從而實現所述減薄厚度確認操作,當所述減薄厚度未達到目標厚度時,所述玻璃加工治具4可再次進入所述蝕刻區3內進行減薄處理。所述主厚度測量儀32設置在其中對玻璃施加減薄處理的所述蝕刻區3中并且實時測量玻璃厚度,使得玻璃可更準確地具有目標厚度;所述輔助厚度測量儀設置在所述沖洗區2中,并且再次測量經歷過減薄處理的玻璃的厚度,因此可以檢查設置在所述蝕刻區3中的所述主厚度測量儀32是否無法正確工作,并且使減薄玻璃的缺陷率降至;且所述輔助厚度測量儀可提前測量待經歷減薄處理的玻璃的厚度,因此可以檢查設置在蝕刻區3中的主厚度測量儀32是否無法正確工作;所述第二輔助厚度測量儀設置在所述第三沖洗區2,從而在減薄后清洗終完成后,再次進行厚度檢測,從而檢測預從所述玻璃減薄生產線運出的玻璃是否符合標準,并進一步降低減薄玻璃的缺陷率。以上所述為本發明的較佳實施例,對本發明而言是說明性的,而非限制性的。本專業技術人員理解,在本發明權利要求所限定的精神和范圍內可對其進行許多改變,修改,甚至等效,但都將落入本發明的保護范圍內。去除多余涂層,減薄用清洗劑是您不可或缺的好幫手。臺州市面上哪家減薄用清洗劑配方技術
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