酸性蝕刻液是用于印制電路板線(xiàn)路制作和多層板內(nèi)層制作的蝕刻液，隨著電路板行業(yè)的迅速發(fā)展，產(chǎn)生的廢液量越來(lái)越大，發(fā)掘的污染物種類(lèi)也越來(lái)越多，對(duì)環(huán)境造成巨大的危害，此類(lèi)問(wèn)題也成為社會(huì)的重要課題。為了減少甚至杜絕此類(lèi)污染的發(fā)生，我們需要對(duì)酸性蝕刻液進(jìn)行回收循環(huán)利用。目前對(duì)于酸性蝕刻廢液的再生利用大多采用化學(xué)或電化學(xué)的方法，但傳統(tǒng)的方法廢液中總銅的含量不斷增大，比重增加，必須排掉一部分廢液或者補(bǔ)加子液和水來(lái)控制參數(shù)，這樣不僅污染大，影響環(huán)境，而且還會(huì)造成銅和酸的浪費(fèi)。專(zhuān)業(yè)BOE蝕刻液由蘇州博洋化學(xué)股份有限公司提供。河南無(wú)機(jī)BOE蝕刻液哪里買(mǎi)

一種蝕刻液，其特征在于，用來(lái)在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦，并且含有：選自由硫酸、鹽酸及三氯乙酸所組成的群組中的至少一種酸；以及選自由硫酮系化合物及硫醚系化合物所組成的群組中的至少一種有機(jī)硫化合物。 2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蝕刻液，其特征在于，所述硫酮系化合物為選自由硫脲、二乙基硫脲及三甲基硫脲所組成的群組中的至少一種。 3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的蝕刻液，其特征在于，所述硫醚系化合物為選自由甲硫氨酸、乙硫氨酸及3-(甲硫基)丙酸所組成的群組中的至少一種。山東電子級(jí)BOE蝕刻液按需定制蘇州博洋化學(xué)股份有限公司擁有專(zhuān)業(yè)的BOE蝕刻液以及各種蝕刻液。

根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的蝕刻液，其特征在于，進(jìn)一步含有α-羥基羧酸和/ 或α-羥基羧酸的鹽。 根據(jù)權(quán)利要求4所述的蝕刻液，其特征在于，所述α-羥基羧酸為選自由酒石酸、蘋(píng)果酸、檸檬酸、乳酸及甘油酸所組成的群組中的至少一種。 根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的蝕刻液，其特征在于，所述酸的濃度為20重量％至70重量％；所述有機(jī)硫化合物的濃度為0.01重量％至10重量％。 根據(jù)權(quán)利要求4至6中任一項(xiàng)所述的蝕刻液，其特征在于，所述α-羥基羧酸和/或α-羥基羧酸的鹽的濃度為0.2重量％至5重量％。

    Cu2+的蝕刻作用由次要地位而躍居主要地位，此時(shí)蝕刻速率慢，即應(yīng)考慮蝕刻液的更新。一般工廠(chǎng)很少分析和測(cè)定蝕刻液中的含銅量，多以蝕刻時(shí)間和蝕刻質(zhì)量來(lái)確定蝕刻液的再生與更新。蝕刻銅箔的同時(shí)，還伴有一些副反應(yīng)，就是CuCl2和FeCl3的水解反應(yīng)：FeCl3＋3H2O→Fe(OH)3↓＋3HClCuCl2＋2H2O→Cu(OH)2↓＋2HCl生成的氫氧化物很不穩(wěn)定，受熱后易分解：2Fe(OH)3→Fe2O3↓＋3H2OCu(OH)2→CuO↓＋H2O結(jié)果生成了紅色的氧化鐵和黑色的氧化銅微粒，懸浮于蝕刻液中，對(duì)抗蝕層有一定的破壞作用。2.影響蝕刻速率的因素Fe3+的濃度和蝕刻液的溫度蝕刻液溫度越高，蝕刻速率越快，溫度的選擇應(yīng)以不損壞抗蝕層為原則。Fe3+的濃度對(duì)蝕刻速率有很大的影響。蝕刻液中Fe3+濃度逐漸增加，對(duì)銅的蝕刻速率相應(yīng)加快。當(dāng)所含F(xiàn)e3+超過(guò)某一濃度時(shí)，由于溶液粘度增加，蝕刻速率反而有所降低。您的選擇是對(duì)我的肯定，蘇州博洋化學(xué)股份有限公司歡迎您。

    微蝕液包括過(guò)硫酸鈉/硫酸體系和雙氧水/硫酸體系，在近幾年的運(yùn)用在PCB之表面處理制程，例如：沉銅（PTH)制程，電鍍制程、內(nèi)層前處理、綠油前處理、OSP處理等生產(chǎn)線(xiàn)。我們公司目前對(duì)過(guò)硫酸鈉/硫酸和雙氧水/硫酸兩種體系的微蝕工序研發(fā)設(shè)計(jì)了不同的循環(huán)再生設(shè)備。無(wú)論是過(guò)硫酸鈉/硫酸體系還是雙氧水/硫酸體系,我司設(shè)備均可把飽和微蝕液處理再生后，返回客戶(hù)生產(chǎn)線(xiàn)繼續(xù)使用，回用時(shí)，不改變客戶(hù)原生產(chǎn)工藝參數(shù)；在運(yùn)行我們公司設(shè)備時(shí)可不停機(jī)亦可更換藥水，從而達(dá)到穩(wěn)定生產(chǎn)的目的。這兩種體系再生設(shè)備設(shè)備不僅可以節(jié)省約30%的物料成本，還降低廢水處理成本，且可以電解出金屬銅。二、蝕刻液再生循環(huán)系統(tǒng)在電子線(xiàn)路版（PCB）蝕刻過(guò)程中，蝕刻液中的銅含量漸漸增加。蝕刻液要達(dá)到的蝕刻效果，每公升蝕刻液需含120至180克銅及相應(yīng)分量的蝕刻鹽（NH4CI）及氨水（NH3）。要持續(xù)蝕刻液中上述各種成份的濃度水平，蝕刻用過(guò)后的（以下稱(chēng)[用后蝕刻液]）溶液需不斷由添加的藥劑所取締。本系統(tǒng)將大量原本需要排放的用后蝕刻液再生還原成為可再次使用的再生蝕刻液。只需極少量的補(bǔ)充劑及氨水，補(bǔ)償因運(yùn)作時(shí)被帶走而失去的部份。從而取代蝕刻子液，既可達(dá)到蝕刻工藝的要求。蘇州BOE蝕刻液的生產(chǎn)廠(chǎng)商。浙江專(zhuān)業(yè)BOE蝕刻液批量定制

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一種蝕刻方法，其特征在于，使用根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的蝕刻液，在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦。蝕刻液及蝕刻方法技術(shù)領(lǐng)域[0001]本發(fā)明涉及一種用來(lái)在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦的蝕刻液及使用該蝕刻液的蝕刻方法。背景技術(shù)[0002]以往，在蝕刻鈦時(shí)一直使用含有氫氟酸或過(guò)氧化氫的蝕刻液。例如文獻(xiàn)1中提出了一種鈦的蝕刻液，該鈦的蝕刻液是用來(lái)在銅或鋁的存在下蝕刻鈦，并且該蝕刻液的特征在于：利用由10重量％至40重量％的過(guò)氧化氫、0.05重量％至5重量％的磷酸、0.001重量％至0.1重量％的膦酸系化合物及氨所構(gòu)成的水溶液將pH值調(diào)整為7至9。[0003]但是，含有氫氟酸的蝕刻液存在毒性高河南無(wú)機(jī)BOE蝕刻液哪里買(mǎi)

蘇州博洋化學(xué)股份有限公司成立于1999年，公司座落于蘇州市高新區(qū)化工工業(yè)園，是一家集研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售為一體的大型精細(xì)化工企業(yè)，主要為先進(jìn)半導(dǎo)體封裝測(cè)試、TFT、FPD平板顯示、LED、晶體硅太陽(yáng)能、PCB等行業(yè)提供專(zhuān)業(yè)的化學(xué)品解決方案。努力構(gòu)建面向未來(lái)的創(chuàng)新型和學(xué)習(xí)型企業(yè)。博洋股份于2015年11月在全國(guó)中小企業(yè)股份轉(zhuǎn)讓系統(tǒng)成功掛牌。（證券代碼：834329）擁有先進(jìn)的理化分析、應(yīng)用測(cè)試儀器以及一支以本科、碩士、博士為主的多層次研發(fā)團(tuán)隊(duì)，致力于超凈高純、功能性微電子化學(xué)品的研究開(kāi)發(fā);并根據(jù)客戶(hù)的個(gè)性化需求量身定制整套化學(xué)品解決方案，力求持續(xù)的為客戶(hù)創(chuàng)造價(jià)值。博洋除擁有完善的自主研發(fā)能力外，與華東理工大學(xué)共同建立省級(jí)研究生工作站;長(zhǎng)期保持與蘇州大學(xué)、中科院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所的合作關(guān)系，以輔助新產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)測(cè)試。對(duì)新技術(shù)、新工藝的研究精益求精，立志成為微電子材料領(lǐng)域個(gè)性化解決方案的***