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四川快恢復二極管電路圖

來源: 發布時間:2023-02-07

激光二極管的發光原理:激光二極管中的P-N結由兩個摻雜的砷化鎵層形成。它有兩個平端結構,平行于一端鏡像(高度反射面)和一個部分反射。要發射的光的波長與連接處的長度正好相關。當P-N結由外部電壓源正向偏置時,電子通過結而移動,并像普通二極管那樣重新組合。當電子與空穴復合時,光子被釋放。這些光子撞擊原子,導致更多的光子被釋放。隨著正向偏置電流的增加,更多的電子進入耗盡區并導致更多的光子被發射。**終,在耗盡區內隨機漂移的一些光子垂直照射反射表面,從而沿著它們的原始路徑反射回去。反射的光子再次從結的另一端反射回來。光子從一端到另一端的這種運動連續多次。在光子運動過程中,由于雪崩效應,更多的原子會釋放更多的光子。這種反射和產生越來越多的光子的過程產生非常強烈的激光束。在上面解釋的發射過程中產生的每個光子與在能級,相位關系和頻率上的其他光子相同。因此,發射過程給出單一波長的激光束。為了產生一束激光,必須使激光二極管的電流超過一定的閾值電平。低于閾值水平的電流迫使二極管表現為LED,發出非相干光。在二極管加有正向電壓,當電壓值較小時,電流極小。四川快恢復二極管電路圖

—穩定電壓指穩壓管通過額定電流時兩端產生的穩定電壓值。該值隨工作電流和溫度的不同而略有改變。由于制造工藝的差別,同一型號穩壓管的穩壓值也不完全一致。例如,2CW51型穩壓管的Vzmin為,Vzmax則為。—反向漏電電流指穩壓管產生穩定電壓時通過該管的電流值。低于此值時,穩壓管雖然也能穩壓,但穩壓效果會變差;高于此值時,只要不超過額定功率損耗,也是允許的,而且穩壓性能會好一些,但要多消耗電能。—動態電阻指穩壓管兩端電壓變化與電流變化的比值。該比值隨工作電流的不同而改變,一般是工作電流愈大,動態電阻則愈小。例如,2CW7C穩壓管的工作電流為5mA時,Rz為18Ω;工作電流為10mA時,Rz為8Ω;工作電流為20mA時,Rz為2Ω;工作電流>20mA則基本維持此數值。—額定功耗由芯片允許溫升決定,其數值為穩定電壓Vz和允許最大電流Izm的乘積。例如2CW51穩壓管的Vz為3V,Izm為20mA,則該管的Pz為60mW。四川快恢復二極管電路圖SBD具有開關頻率高和正向壓降低等優點。

新型高壓SBD的結構和材料與傳統SBD是有區別的。傳統SBD是通過金屬與半導體接觸而構成。由于電子比空穴遷移率大,為獲得良好的頻率特性,故選用N型半導體材料作為基片。為了減小SBD的結電容,提高反向擊穿電壓,同時又不使串聯電阻過大,通常是在N+襯底上外延一高阻N-薄層。大家知道,金屬導體內部有大量的導電電子。當金屬與半導體接觸(二者距離只有原子大小的數量級)時,金屬的費米能級低于半導體的費米能級。在金屬內部和半導體導帶相對應的分能級上,電子密度小于半導體導帶的電子密度。因此,在二者接觸后,電子會從半導體向金屬擴散,從而使金屬帶上負電荷,半導體帶正電荷。由于金屬是理想的導體,負電荷只分布在表面為原子大小的一個薄層之內。而對于N型半導體來說,失去電子的施主雜質原子成為正離子,則分布在較大的厚度之中。電子從半導體向金屬擴散運動的結果,形成空間電荷區、自建電場和勢壘,并且耗盡層只在N型半導體一邊(勢壘區全部落在半導體一側)。勢壘區中自建電場方向由N型區指向金屬,隨熱電子發射自建場增加,與擴散電流方向相反的漂移電流增大,**終達到動態平衡,在金屬與半導體之間形成一個接觸勢壘,這就是肖特基勢壘。

整流橋一般帶有足夠大的電感性負載,因此整流橋不出現電流斷續。一般整流橋應用時,常在其負載端接有平波電抗器,故可將其負載視為恒流源。多組三相整流橋相互連接,使得整流橋電路產生的諧波相互抵消。按整流變壓器的類型可以分為傳統的多脈沖變壓整流器和自耦式多脈沖變壓整流器。傳統的多脈沖變壓整流器采用隔離變壓器實現輸入電壓和輸出電壓的隔離,但整流變壓器的等效容量大,體積龐大。由于一般整流橋應用時,常在其負載端接有平波電抗器,故可將其負載視為恒流源。另外根據EMI測量標準,為減小電網阻抗對測量結果的影響,需要在整流橋的電網輸入端接入線性阻抗穩定網絡(LISN)。測試所用的LISN的結構如圖1所示,其主要作用是:①減小電網阻抗對測量結果的影響;②隔離來自電網端的干擾。由于LISN的隔離作用,可以把電網端視作一*有基波電勢和內阻抗的電源。 按照檢測普通二極管正、反向電阻的方法,即可將激光二極管的管腳排列順序確定。

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二極管具有PN結結構。四川快恢復二極管電路圖

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