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【如何減少真空鍍膜的灰塵】1、使用的源材料要符合必要的純度要求。2、樣品取出后放置環境要注意清潔的問題。3、鍍膜一段時間后，真空室內壁必須要清潔處理。4、清洗襯底材料，必須要做到嚴格合乎工藝要求。5、工作人員有專門的服裝，操作要戴手套、腳套等。6、適當的增加環境的濕度，有利于降低周圍環境的懸浮固體顆粒物。7、技術上明確允許的da顆粒尺寸和單位面積顆粒物的數量的上限da致是多少。8、室內空氣流動性低、地面干凈，如果是裸露的水泥地，需要覆蓋處理。墻壁、屋頂不能使用一般的灰質涂料粉刷。真空鍍膜機真空四個階段。廣西光學鍍膜射頻離子源價格【真空鍍膜機之真空泵的安裝和指導】真空泵安裝指導1、泵應安裝在地面...

【真空鍍膜機常見故障之旋片泵故障及處理方法】1、未做保養導致灰塵太多。真空鍍膜設備在鍍膜過程中容易產生da量灰塵，這些灰塵伴隨空氣容易混雜到泵油中，時間久了容易對轉子及泵腔造成磨損及破壞。處理方法：如果灰塵不多，可以油過濾系統除掉灰塵；如果灰塵過多可以用除塵器配合油過濾系統除掉灰塵。2、旋片式真空泵冒煙和噴油：指旋片式真空泵在運轉中排氣口冒煙或者噴油，冒煙。處理方法：冒煙闡明泵的進氣口外，包括管道、閥門、容器有修理的狀況。3、噴油，闡明進氣口外有da量的漏點，以至是進氣口暴露da氣。處理方法：封住泵的進氣口使泵運轉，假如不噴油的話，闡明有漏點；排氣閥片損壞，檢查排氣閥片能否損壞，改換壞的排氣閥...

【射頻離子源工作原理】：氣體通過一個專門設計的氣體絕緣器進入石英放電室，13.56mhz的射頻功率通過電感耦合進入放電室離化氣體。在產生plasma后、用柵網構成的加速系統將離子引出。初，離子被帶正電的Screen Grid集中、接下來加負電壓的加速柵網將離子束引出。被引出的離子形成離子束，向靶標輻射。離子所帶有的能量是由Screen grid的正電壓和Accelerator grid所加的負電壓大小所決定。離子源設備能促進光電產業升級，在國內也是一項“卡脖子”技術。具有能量高、熱輻射低、工作時間長、對膜層污染小、能量分布均勻性好、適應多種工作氣體的特點。真空鍍膜機的主要應用。湖南真空鍍膜射頻...

【射頻離子源簡介】：國泰真空射頻離子源GTRF-17和GTRF-23，主要用于IR-Cut、濾光片等精密光學鍍膜的離子束輔助沉積和離子束清洗等，是公司技術團隊全自主研發近3年時間研發出的國產射頻離子源，屬于國內大直徑射頻離子源。打破了國外制造商長期對國產鍍膜行業的技術封鎖，同時也激勵了國內的同行制造業。離子源設備能促進光電產業升級，在國內也是一項“卡脖子”技術。具有能量高、熱輻射低、工作時間長、對膜層污染小、能量分布均勻性好、適應多種工作氣體的特點。紅外真空鍍膜機制造商。成都射頻離子源【真空鍍膜機之卷繞式鍍膜機】鍍膜產品廣fan用于裝飾、包裝、電容器等領域中，可鍍光學、電學、電磁、導電等多種薄...

【真空鍍膜機之卷繞式鍍膜機】鍍膜產品廣fan用于裝飾、包裝、電容器等領域中，可鍍光學、電學、電磁、導電等多種薄膜。所用基材有PE、PET、PI、PP、OPP、BOPP、紙、泡沫塑料及布等。一般塑料基薄膜材料含水量為1%～2%，紙含水量更da，一般為5%-7%，經涂布烘干后，含水量仍有3%。由于基材含水量高，故鍍膜室由初始的單室發展到目前雙室或多室結構。蒸發源可以是電阻式、感應式、電子柬式以及磁控濺射式。雙室結構應用普遍，其優點是：①可以蒸鍍放氣量較da的紙基材，并能保障鍍膜質量。紙放出的da量氣體從卷繞室中被排走。由于卷繞室與蒸鍍室之間隔板窄縫很小，使放出來的氣體不易進入蒸鍍室中；②單室結構必...

【真空鍍膜設備撿漏需注意】真空鍍膜設備檢漏是保證真空鍍膜設備真空度的一項檢查措施，簡稱檢漏，真空度的高低是直接影響到鍍膜效果的，所以檢漏是必不可少的。一、要確認漏氣到底的虛漏還是實漏。因為工件材料加熱后都會在不同程度上產生氣體，有可能誤以為是從外部流進的氣體，這就是虛漏，要排除這種情況。二、測試好真空室的氣體密封性能。確保氣密性能符合要求。三、檢查漏孔的da小，形狀、位置，漏氣的速度，制備出可解決方案并實施。四、確定檢測儀器的小可檢漏率和檢漏靈敏性，以da范圍的檢測出漏氣情況，避免一些漏孔被忽略，提高檢漏的準確性。五、把握檢漏儀器的反應時間和消除時間。把時間掌握好，保證檢漏儀器工作到位，時間少...

【真空鍍膜的膜層結構分布】基材：ABS、PC、ABS+PC、PP、PPMA、POM等樹脂類均可成型真空電鍍,要求底材為純原料,電鍍級別更佳,不可加再生材;底漆：UV底漆,對基材表面做預處理,為膜層的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情況可酌情加厚;膜層：靶材蒸發的結果，VM膜層可導電，NCVM鍍層不導電，且抗干擾性效果很好,膜層厚度0.3um以下。面漆：面漆利用三基色原理可與色漿搭配出各類顏色,同時對真空膜層起保護作用,再加上UV、PU的表面裝飾,效果更漂亮,厚度一般在8-10um,特殊情況可酌情加厚。真空鍍膜機的工作原理和構成。北京離子束濺射射頻離子源制造生產廠家【真空鍍膜機...

【真空鍍膜設備之真空的獲得】：真空泵：真空泵是指利用機械、物理、化學或物理化學的方法對被抽容器進行抽氣而獲得真空的器件或設備。通俗來講，真空泵是用各種方法在某一封閉空間中改善、產生和維持真空的裝置。按真空泵的工作原理，真空泵基本上可以分為兩種類型，即氣體捕集泵和氣體傳輸泵。其廣fan用于冶金、化工、食品、電子鍍膜等行業。A、粗真空泵（RoughVacuumPump）：一般用于抽粗真空，有油泵和干泵。從結構上可分幾種：旋轉葉片泵：油泵，極限真空可達10&3Torr，抽速1~650CFM隔膜泵：干泵，極限真空1Torr左右，抽速

國泰真空射頻離子源采用通用的LC高頻諧振原理，使用可調電容快速調諧，使整個負載阻抗匹配到50?，從而使功率輸出比較大，電離化效率比較高，調諧馬達采用步進電機轉位+編碼器快速定位，并帶鎖止和記憶功能，以滿足負載在不同的真空環境、不同國泰射頻離子源采用通用的LC高頻諧振原理，使用可調電容快速調諧，使整個負載阻抗匹配到50?，從而使功率輸出比較大，電離化效率比較高，調諧馬達采用步進電機轉位+編碼器快速定位，并帶鎖止和記憶功能，以滿足負載在不同的真空環境、不同阻抗快速點火。射頻部分匹配采用了硬件反饋和軟件提前記憶并預判的技術；直流引入快速滅弧技術，同時提高了射頻和直流部分的穩定性，軟件設置了自檢和自診...

【真空鍍膜機的鍍層與鍍膜原理】A、原材料與基本原理：原材料都是樹脂、聚合物、鐵氟隆、硅酮、丙烯酸、硅酸鹽等，輔料、配方與量度有所不同。例添加的乳化劑，不同的量相調和，乳化出來的狀態就不一樣，水狀、乳狀、膏狀都可以實現。這些物質經乳化破乳后，部份滲透或形成薄膜。B、它們的特點和區別：鍍層：滲透功能好(要視原材料顆粒da小)，表面光滑度更優，對漆面較多“毛細孔”、粗糙、重噴過漆、漆面本身較硬需要增加光亮度的歐美車系漆面比較適用。鍍膜：而鍍膜產品添加了成膜助劑與固化劑，真空鍍膜廠家使其瞬間成膜，性質相應的發生了改變。例如硬度比封釉更高，對需要提升漆面硬度的漆面(如日韓車系)比較適用。防護層的主要性能...

【真空鍍膜之材料表面處理】表面處理：是在基體材料表面上人工形成一層與基體的機械、物理和化學性能不同的表層的工藝方法。表面處理的目的是滿足產品的耐蝕性、耐磨性、裝飾或其他特種功能要求。我們比較常用的表面處理方法是，機械打磨，化學處理，表面熱處理，噴涂表面，表面處理就是對工件表面進行清潔、清掃、去毛刺、去油污、去氧化皮等。常用表面處理的工藝有：真空電鍍、電鍍工藝、陽極氧化、電解拋光、移印工藝、鍍鋅工藝、粉末噴涂、水轉印、絲網印刷、電泳等。離子真空鍍膜機是什么？光學鍍膜射頻離子源專業生產【射頻離子源工作原理】：氣體通過一個專門設計的氣體絕緣器進入石英放電室，13.56mhz的射頻功率通過電感耦合進入...

【真空鍍膜機真空系統檢漏法之真空計檢漏法】常用的真空計檢漏法主要是熱傳導真空計法與電離真空計法。以熱傳導真空計法為例，它是利用低壓下不同氣體種類的熱傳導能力差異與壓力的關系來分析真空系統泄漏情況。使用時，要保證被檢系統處于一個壓力不變的動態平衡狀態，將示漏氣體噴吹于可疑處（也可能用有機溶劑涂抹，但易吸附、堵塞漏孔，并造成污染）。一旦有漏孔存在，示漏氣體會通過漏孔進入被檢系統，因為示漏氣體的熱傳導能力與原系統的氣體成分差異da，會引起明顯的熱傳導性質變化，熱傳導真空計的儀表讀數在原有的平衡基礎上就會發生波動變化，根據這些確定漏孔位置并根據讀數變化換算漏率da小。相應地，電離真空計法利用的即是示漏...

【真空鍍膜機檢漏之氣壓檢漏】氣壓檢漏被檢零部件內腔充以氣體(一般為空氣)，充氣壓力的高低視零部件的強度而定，一般為(2~4)×105帕。充壓后的零部件如發出明顯的嘶嘶聲，音響源處就是漏孔位置。用這種方法可檢較小漏率為5帕·升/秒的漏孔。如不能用聲音直接察覺漏孔，則用皂液涂于零部件可疑表面處，有氣泡出現處便是漏孔位置。用這種方法較小可檢漏率為5×10-3帕·升/秒的漏孔。此外，還可將充氣的零部件浸在清凈的水槽中，氣泡形成處便是漏孔位置。用水槽顯示漏孔，方便可靠，并能同時全部顯示出漏孔位置。如氣泡小、成泡速度均勻、氣泡持續時間長，則為×10-2~13帕·升/秒漏率的漏孔。如氣泡da、成泡持續時間短...

【真空鍍膜設備撿漏需注意】真空鍍膜設備檢漏是保證真空鍍膜設備真空度的一項檢查措施，簡稱檢漏，真空度的高低是直接影響到鍍膜效果的，所以檢漏是必不可少的。一、要確認漏氣到底的虛漏還是實漏。因為工件材料加熱后都會在不同程度上產生氣體，有可能誤以為是從外部流進的氣體，這就是虛漏，要排除這種情況。二、測試好真空室的氣體密封性能。確保氣密性能符合要求。三、檢查漏孔的da小，形狀、位置，漏氣的速度，制備出可解決方案并實施。四、確定檢測儀器的小可檢漏率和檢漏靈敏性，以da范圍的檢測出漏氣情況，避免一些漏孔被忽略，提高檢漏的準確性。五、把握檢漏儀器的反應時間和消除時間。把時間掌握好，保證檢漏儀器工作到位，時間少...

【真空鍍膜機操作工藝流程】首先開水、電、氣→總電源→開維持泵→開擴散泵加熱→開粗抽泵→開預抽閥→關預抽閥→開粗抽閥→開羅茨泵→如有離子轟擊，開轟擊30秒，關轟擊→開真空計→當真空到，關粗抽閥→開前置閥→開精抽閥，當真空達到7x10-3pa，開轉架→開始鍍膜操作→鍍膜完畢后，關閉真空計、離子源→關精抽閥，前置閥→關羅茨泵→開抽氣閥，取件→上料，反復開始操作。特別注意：1.設備停用時，鍍膜室要保持真空狀態，減少內表面氣體的吸附，防止氧化。2.冷卻水通道場下才能對擴散泵進行加熱，未經充分冷卻的泵不得與da氣接觸，防止氧化。3.要保證機器內擴散泵和機械泵的油定期檢查和更換。4.設備運行中遇有停電或其它...

【真空鍍膜機有哪些污染源】真空鍍膜機是由許多精密的零部件所組成的，這些零部件均經過許多機械加工流程而制作出來，如焊接、磨、車、刨、鏜、銑等工序。正因為有了這些工作，導致設備零部件表面不可避免地會沾染一些加工帶來的油脂、油垢、金屬屑、焊劑、拋光膏、汗痕等污染物。這些污染物在真空條件下易揮發，從而對設備的極限真空造成影響。此外，這些機械加工帶來的真空污染物在da氣壓環境中吸附da量的氣體，而到了真空狀態下，這些原先吸附的氣體也會被再次釋放出來，成為限制真空系統的極限真空的一da主要因素。1、真空規管的燈絲在高溫條件下蒸發，將導致陶瓷絕緣子上形成一層薄膜，對其絕緣強度有一定的損壞，對其測量的準確性也...

【真空鍍膜機清洗工藝之紫外線輻照清洗】利用紫外輻照來分解表面上的碳氫化合物。例如，在空氣中照射15h就可產生清潔的玻璃表面。如果把適當預清洗的表面放在一個產生臭氧的紫外線源中．要不了幾分鐘就可以形成清潔表面（工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機理是：在紫外線照射下，污物分子受激并離解，而臭氧的生成和存在產生高活性的原子態氧。受激的污物分子和由污物離解產生的自由基與原子態氧作用．形成較簡單易揮發分子．如H203、CO2和N2．其反應速率隨溫度的增加而增加。真空鍍膜機的產業集群。山東光學鍍膜射頻離子源制造生產廠家【真空鍍膜機檢漏之氣壓檢漏】氣壓檢漏被檢零部件內腔充以氣體(一般為空氣...

【真空鍍膜機之真空泵的維護和保養】1、經常檢查油位位置，不符合規定時須調整使之符合要求。以泵運轉時，油位到油標中心為準。2、經常檢查油質情況，發現油變質應及時更換新油，確保泵工作正常。3、換油期限按實際使用條件和能否滿足性能要求等情況考慮，由用戶酌情決定。一般新泵，抽除清潔干燥的氣體時，建議在工作100小時左右換油一次。待油中看不到黑色金屬粉末后，以后可適當延長換油期限。4、一般情況下，泵工作2000小時后應進行檢修，檢查桷膠密封件老化程度，檢查排氣閥片是否開裂，清理沉淀在閥片及排氣閥座上的污物。清洗整個泵腔內的零件，如轉子、旋片、彈簧等。一般用汽油清洗，并烘干。對橡膠件類清洗后用干布擦干即可...

【真空鍍膜機清洗工藝之紫外線輻照清洗】利用紫外輻照來分解表面上的碳氫化合物。例如，在空氣中照射15h就可產生清潔的玻璃表面。如果把適當預清洗的表面放在一個產生臭氧的紫外線源中．要不了幾分鐘就可以形成清潔表面（工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機理是：在紫外線照射下，污物分子受激并離解，而臭氧的生成和存在產生高活性的原子態氧。受激的污物分子和由污物離解產生的自由基與原子態氧作用．形成較簡單易揮發分子．如H203、CO2和N2．其反應速率隨溫度的增加而增加。真空鍍膜機的工作原理。成都光學薄膜射頻離子源自主研發設計生產【真空鍍膜機常見故障之旋片泵故障及處理方法】1、未做保養導致灰塵太...

【真空鍍膜設備維修保養技術】一、當鍍膜設備工作完成到兩百個鍍膜的時候，拆出密封圈，及時清潔設備環境（室內環境）。如何清潔保養？首先我們要使鍍上去的膜層掉落，同時釋放氫氣，清洗過程中要注意所使用到的溶液會灼傷人體的皮膚，所以通常我們要小心謹慎用堿飽和溶液不斷來回清洗真空適合內部（內壁），再用清水洗刷真空室，并通過抹布沾上汽油擦拭抽閥里面的污漬。二、當閥泵連續工作一個月之后，為保持設備的正常運轉我們需要更換油。將泵啟動，擰開放油螺栓，使泵內的舊油完全排放出來。擰回放油螺栓，觀察油視鏡倒入新油加到一定額度，平常換油時應將油蓋打開，有需要時用布擦干凈箱內污垢。三、擴散泵連續使用6個月以上，抽的速度會顯...

【真空鍍膜機之電鍍工藝】利用電解作用使零件表面附著一層金屬膜的工藝，從而起到防止金屬氧化，提高耐磨性、導電性、反光性、抗腐蝕性及增進美觀等作用，不少硬幣的外層亦為電鍍。適用材料：1.da多數金屬可以進行電鍍但是不同的金屬具有不同等級的純度和電鍍效率。其中常見的有：錫，鉻，鎳，銀，金和銠；2.常用于電鍍的塑料為ABS。3.鎳金屬不可用于電鍍接觸皮膚的產品，因為鎳對皮膚有刺激性且有毒性。工藝成本：無模具費用，但需要夾具對零件進行固定/時間成本取決于溫度和金屬種類/人力成本（中-高），取決于具體電鍍件的種類，例如銀器和珠寶的電鍍就需要極高的熟練工人進行操作，因為其對外觀和耐久性的要求很高環境影響:d...

【真空鍍膜機操作工藝流程】首先開水、電、氣→總電源→開維持泵→開擴散泵加熱→開粗抽泵→開預抽閥→關預抽閥→開粗抽閥→開羅茨泵→如有離子轟擊，開轟擊30秒，關轟擊→開真空計→當真空到，關粗抽閥→開前置閥→開精抽閥，當真空達到7x10-3pa，開轉架→開始鍍膜操作→鍍膜完畢后，關閉真空計、離子源→關精抽閥，前置閥→關羅茨泵→開抽氣閥，取件→上料，反復開始操作。特別注意：1.設備停用時，鍍膜室要保持真空狀態，減少內表面氣體的吸附，防止氧化。2.冷卻水通道場下才能對擴散泵進行加熱，未經充分冷卻的泵不得與da氣接觸，防止氧化。3.要保證機器內擴散泵和機械泵的油定期檢查和更換。4.設備運行中遇有停電或其它...

國泰真空射頻離子源采用通用的LC高頻諧振原理，使用可調電容快速調諧，使整個負載阻抗匹配到50?，從而使功率輸出比較大，電離化效率比較高，調諧馬達采用步進電機轉位+編碼器快速定位，并帶鎖止和記憶功能，以滿足負載在不同的真空環境、不同國泰射頻離子源采用通用的LC高頻諧振原理，使用可調電容快速調諧，使整個負載阻抗匹配到50?，從而使功率輸出比較大，電離化效率比較高，調諧馬達采用步進電機轉位+編碼器快速定位，并帶鎖止和記憶功能，以滿足負載在不同的真空環境、不同阻抗快速點火。射頻部分匹配采用了硬件反饋和軟件提前記憶并預判的技術；直流引入快速滅弧技術，同時提高了射頻和直流部分的穩定性，軟件設置了自檢和自診...

【真空鍍膜機檢漏之氣壓檢漏】氣壓檢漏被檢零部件內腔充以氣體(一般為空氣)，充氣壓力的高低視零部件的強度而定，一般為(2~4)×105帕。充壓后的零部件如發出明顯的嘶嘶聲，音響源處就是漏孔位置。用這種方法可檢較小漏率為5帕·升/秒的漏孔。如不能用聲音直接察覺漏孔，則用皂液涂于零部件可疑表面處，有氣泡出現處便是漏孔位置。用這種方法較小可檢漏率為5×10-3帕·升/秒的漏孔。此外，還可將充氣的零部件浸在清凈的水槽中，氣泡形成處便是漏孔位置。用水槽顯示漏孔，方便可靠，并能同時全部顯示出漏孔位置。如氣泡小、成泡速度均勻、氣泡持續時間長，則為×10-2~13帕·升/秒漏率的漏孔。如氣泡da、成泡持續時間短...

【真空鍍膜技術專業詞匯】真空鍍膜vacuumcoating：在處于真空下的基片上制取膜層的一種方法。基片substrate：膜層承受體。試驗基片testingsubstrate：在鍍膜開始、鍍膜過程中或鍍膜結束后用作測量和（或）試驗的基片。鍍膜材料coatingmaterial：用來制取膜層的原材料。蒸發材料evaporationmaterial：在真空蒸發中用來蒸發的鍍膜材料。濺射材料sputteringmaterial：有真空濺射中用來濺射的鍍膜材料。膜層材料(膜層材質)filmmaterial：組成膜層的材料。蒸發速率evaporationrate：在給定時間間隔內,蒸發出來的材料量,除...

【真空鍍膜機清洗工藝之放電清洗】利用熱絲或電極作為電子源，在其相對于待清洗的表面加負偏壓可以實現離子轟擊的氣體解吸及某些碳氫化合物的去除。清洗效果取決于電極材料、幾何形狀及其與表面的關系。即取決于單位表面積上的離子數和離子能量，從而取決于有效電功率。在真空室中充入適當分壓力的惰性氣體(典型的如Ar氣)，可以利用兩個適當的電極間的低壓下的輝光放電產生的離子轟擊來達到清洗的目的。該方法中，惰性氣體被離化并轟擊真空室內壁、真空室內的其它結構件及被鍍基片，它可以使某些真空系統免除被高溫烘烤。如果在充入的氣體中加入氧氣，對某些碳氫化合物可以獲得更好的清洗效果。因為氧氣可以使某些碳氫化合物氧化生成易揮發性...

【真空鍍膜之材料表面處理】表面處理：是在基體材料表面上人工形成一層與基體的機械、物理和化學性能不同的表層的工藝方法。表面處理的目的是滿足產品的耐蝕性、耐磨性、裝飾或其他特種功能要求。我們比較常用的表面處理方法是，機械打磨，化學處理，表面熱處理，噴涂表面，表面處理就是對工件表面進行清潔、清掃、去毛刺、去油污、去氧化皮等。常用表面處理的工藝有：真空電鍍、電鍍工藝、陽極氧化、電解拋光、移印工藝、鍍鋅工藝、粉末噴涂、水轉印、絲網印刷、電泳等。真空鍍膜機故障解決方法？安徽真空鍍膜射頻離子源制造生產廠家【真空鍍膜設備的正常工作條件】1、環境溫度：10~30℃2、相對濕度：不da于70%3、冷卻水進水溫度：...

【射頻離子源簡介】：國泰真空射頻離子源GTRF-17和GTRF-23，主要用于IR-Cut、濾光片等精密光學鍍膜的離子束輔助沉積和離子束清洗等，是公司技術團隊全自主研發近3年時間研發出的國產射頻離子源，屬于國內大直徑射頻離子源。打破了國外制造商長期對國產鍍膜行業的技術封鎖，同時也激勵了國內的同行制造業。離子源設備能促進光電產業升級，在國內也是一項“卡脖子”技術。具有能量高、熱輻射低、工作時間長、對膜層污染小、能量分布均勻性好、適應多種工作氣體的特點。真空鍍膜機技術教程。甘肅光學鍍膜射頻離子源生產廠家【真空鍍膜機之輔助抽氣系統】真空腔各部分有連接閥，用來連接各抽氣泵浦。輔助抽氣系統：排氣系統為鍍...

【真空鍍膜之材料表面處理】表面處理：是在基體材料表面上人工形成一層與基體的機械、物理和化學性能不同的表層的工藝方法。表面處理的目的是滿足產品的耐蝕性、耐磨性、裝飾或其他特種功能要求。我們比較常用的表面處理方法是，機械打磨，化學處理，表面熱處理，噴涂表面，表面處理就是對工件表面進行清潔、清掃、去毛刺、去油污、去氧化皮等。常用表面處理的工藝有：真空電鍍、電鍍工藝、陽極氧化、電解拋光、移印工藝、鍍鋅工藝、粉末噴涂、水轉印、絲網印刷、電泳等。真空鍍膜機品牌有很多，你如何選擇？四川離子束輔助沉積射頻離子源生產廠家【真空鍍膜機之輔助抽氣系統】真空腔各部分有連接閥，用來連接各抽氣泵浦。輔助抽氣系統：排氣系統...

【真空鍍膜機之真空泵的維護和保養】1、經常檢查油位位置，不符合規定時須調整使之符合要求。以泵運轉時，油位到油標中心為準。2、經常檢查油質情況，發現油變質應及時更換新油，確保泵工作正常。3、換油期限按實際使用條件和能否滿足性能要求等情況考慮，由用戶酌情決定。一般新泵，抽除清潔干燥的氣體時，建議在工作100小時左右換油一次。待油中看不到黑色金屬粉末后，以后可適當延長換油期限。4、一般情況下，泵工作2000小時后應進行檢修，檢查桷膠密封件老化程度，檢查排氣閥片是否開裂，清理沉淀在閥片及排氣閥座上的污物。清洗整個泵腔內的零件，如轉子、旋片、彈簧等。一般用汽油清洗，并烘干。對橡膠件類清洗后用干布擦干即可...