本發明提供如下技術方案：一種拋光減薄裝置，包括：托盤，用于固定待加工部件，所述待加工部件包括inp基晶圓；噴頭，用于向所述待加工部件的待加工表面噴涂拋光液，以對所述待加工表面進行拋光；磁轉子，放置在所述待加工部件的待加工表面上，用于通過旋轉對所述待加工表面進行機械研磨，對所述待加工表面進行減薄。可選地，還包括控制部件；所述控制部件與所述磁轉子和所述噴頭相連，用于控制所述噴頭和所述磁轉子交替工作，以對所述待加工表面交替進行拋光和減薄。可選地，所述磁轉子包括截面為半圓形的柱狀磁性結構和位于所述磁性結構底部的研磨層，以通過所述研磨層對所述待加工表面進行機械研磨。可選地，所述研磨層為金屬氧化物層，所述金屬氧化物層包括三氧化二鋁層。可選地，還包括：熱板，設置于所述托盤底部，用于對所述托盤進行加熱，以使所述待加工部件與所述托盤鍵合固定。可選地，所述待加工部件與所述托盤通過光刻膠鍵合固定。一種拋光減薄方法，包括：將待加工部件固定在托盤上，所述待加工部件包括inp基晶圓；通過噴頭向所述待加工部件的待加工表面噴涂拋光液，來對所述待加工表面進行拋光；通過磁轉子旋轉對所述待加工表面進行機械研磨。好的減薄用清洗劑公司的標準是什么。安徽半導體減薄用清洗劑銷售廠

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