薄膜是一種物質形態,它所使用的膜材料非常***,可以是單質元素或化合物,也可以是無機材料或有機材料。薄膜與塊狀物質一樣,可以是單晶態的,多晶態的或非晶態的。近年來功能材料薄膜和復合薄膜也有很大發展。鍍膜技術及薄膜產品在工業上的應用非常***,尤其是在電子材料與元器件工業領域中占有及其重要的地位。鍍膜方法可以分為氣相生成法,氧化法,離子注入法,擴散法,電鍍法,涂布法,液相生長法等。氣相生成法又可分為物***相沉積法,化學氣相沉積法和放電聚合法等。真空蒸發,濺射鍍膜和離子鍍等通常稱為物***相沉積法,是基本的薄膜制備技術。它們都要求淀積薄膜的空間要有一定的真空度。所以,真空技術是薄膜制作技...
缺點是電子***要求較高的真空度,并需要使用負高壓,這些造成了設備結構復雜,安全性差,不易維護,造價也較高。空心陰極電子***是利用低電壓,大電流的空心陰極放電產生的等離子電子束作為加熱源。空心陰極電子***用空心的鉭管作為陰極,坩鍋作為陽極,鉭管附近裝有輔**極。利用空心陰極電子***蒸鍍時,產生的蒸發離子能量高,離化率也高,因此,成膜質量好。空心陰極電子***對真空室的真空度要求比e型電子***低,而且是使用低電壓工作,相對來說,設備較簡單和安全,造價也低。目前,在我國e型電子***和空心陰極電子***都已成功地應用于蒸鍍及離子鍍的設備中。***的功率可達10幾萬千瓦,已經為機械,...
在離子源推進器實驗中,人們發現有推進器材料從離子源飛出,這就開始了離子源在材料,特別是材料表面改性的應用。離子源的另一個重要應用是高能物理。具體就是離子加速器。簡單地說就是用一臺離子源產生某種材料的離子,這個離子就在磁性環路上加速,從而轟擊一個靶,產生新的物質或揭示新的物理規律。真空鍍膜中用到的離子源種類較多。主要有:高頻離子源,弧放電離子源,kaufman離子源,射頻離子源,霍爾離子源,冷陰極離子源,電子回旋離子源,陽極層離子源,感應耦合離子源可能還有很多其它類型離子源未被提到。離子源類型雖多,目的卻無非在線清洗,改善被鍍表面能量分布和調制增加反應氣體能量。離子源可以改善膜與基體的結合強度,...
2)由空氣進入鍍膜后再進入玻璃穿透率=[4××(1+)2]×[4××()2]=可見有鍍膜的玻璃會增加透光度。此外由此公式,我們可以計算光線穿透鏡片的兩面,發現即使一片完美的透鏡(折射率),其透光度約為85%左右。若加上一層鍍膜(折射率),則透光度可達91%。可見光學鍍膜的重要性。鍍膜的厚度**后我們要探討的是鍍膜厚度的不同,會有什么影響?我們已經知道透光度與鍍膜的折射率有關,但是卻無關于它的厚度。可是我們若能在鍍膜的厚度上下點功夫,會發現反射光A與反射光B相差nc×2D的光程差。如果nc×2D=(N+1/2)λ其中N=0,1,2,3,4,5.....λ為光在空氣中的波長則會造成該特定波...
缺點是電子***要求較高的真空度,并需要使用負高壓,這些造成了設備結構復雜,安全性差,不易維護,造價也較高。空心陰極電子***是利用低電壓,大電流的空心陰極放電產生的等離子電子束作為加熱源。空心陰極電子***用空心的鉭管作為陰極,坩鍋作為陽極,鉭管附近裝有輔**極。利用空心陰極電子***蒸鍍時,產生的蒸發離子能量高,離化率也高,因此,成膜質量好。空心陰極電子***對真空室的真空度要求比e型電子***低,而且是使用低電壓工作,相對來說,設備較簡單和安全,造價也低。目前,在我國e型電子***和空心陰極電子***都已成功地應用于蒸鍍及離子鍍的設備中。***的功率可達10幾萬千瓦,已經為機械,...
特別適合制作熔點薄膜材料和高純薄膜材料。依靠電子束轟擊蒸發的真空蒸鍍技術,根據電子束蒸發源的形式不同,又可分為環形***,直***,e型***和空心陰極電子***等幾種。環形***是由環形的陰極來發射電子束,經聚焦和偏轉后打在坩鍋內使金屬材料蒸發。它的結構較簡單,但是功率和效率都不高,基本上只是一種實驗室用的設備,目前在生產型的裝置中已經不再使用。直***是一種軸對稱的直線加速***,電子從燈絲陰極發射,聚成細束,經陽極加速后打在坩鍋中使鍍膜材料融化和蒸發。直***的功率從幾百瓦至幾百千瓦的都有,有的可用于真空蒸發,有的可用于真空冶煉。直***的缺點是蒸鍍的材料會污染***體結構,給運...
特別適合制作熔點薄膜材料和高純薄膜材料。依靠電子束轟擊蒸發的真空蒸鍍技術,根據電子束蒸發源的形式不同,又可分為環形***,直***,e型***和空心陰極電子***等幾種。環形***是由環形的陰極來發射電子束,經聚焦和偏轉后打在坩鍋內使金屬材料蒸發。它的結構較簡單,但是功率和效率都不高,基本上只是一種實驗室用的設備,目前在生產型的裝置中已經不再使用。直***是一種軸對稱的直線加速***,電子從燈絲陰極發射,聚成細束,經陽極加速后打在坩鍋中使鍍膜材料融化和蒸發。直***的功率從幾百瓦至幾百千瓦的都有,有的可用于真空蒸發,有的可用于真空冶煉。直***的缺點是蒸鍍的材料會污染***體結構,給運...
通常將欲沉積的材料制成板材──靶,固定在陰極上。基片置于正對靶面的陽極上,距靶幾厘米。系統抽至高真空后充入10~1帕的氣體(通常為氬氣),在陰極和陽極間加幾千伏電壓,兩極間即產生輝光放電。放電產生的正離子在電場作用下飛向陰極,與靶表面原子碰撞,受碰撞從靶面逸出的靶原子稱為濺射原子,其能量在1至幾十電子伏范圍。濺射原子在基片表面沉積成膜。與蒸發鍍膜不同,濺射鍍膜不受膜材熔點的限制,可濺射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等難熔物質。濺射化合物膜可用反應濺射法,即將反應氣體(O、N、HS、CH等)加入Ar氣中,反應氣體及其離子與靶原子或濺射原子發生反應生成化合物(如氧化物、氮化物等)而沉積在...
使CCD不能充分利用所有光線,其低照性能難以令人滿意。五、濾光片術語入射角度:入射光線和濾光片表面法線之間的夾角。當光線正入射時,入射角為0°。光譜特性:濾光片光譜參數(透過率T,反射率R,光密度OD,位相,偏振狀態s,p等相對于波長變化的特性)。中心波長:帶通濾光片的中心稱為中心波長(CWL)。通帶寬度用**大透過率一半處的寬度表示(FWHM),通常稱為半寬。有效孔徑:光學系統中有效利用的物理區域。通常于濾光片的外觀尺寸相似,同心,尺寸略小些。截止位置/前-后:cut-on對應光譜特性從衰減到透過的50%點,cut-off對應光譜特性從透過到衰減的50%點。有時也可定義為峰值透過率的...
真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發, 磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成 蒸發和 濺射兩種。 中文名 真空鍍膜機 主要思路 蒸發 適用范圍 衛浴五金 主要分類 溶膠凝膠法 目錄 1 簡介 2 使用步驟 ? 電控柜操作 ? DEF-6B操作 ? 關機順序 3 適用范圍 4 化學成分 ? 薄膜均勻性概念 ? 主要分類 5 操作程序 真空鍍膜機簡介 編輯 需要鍍膜的被稱為基片,鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。 蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。并且沉降在基片表面,通過成膜過...
使CCD不能充分利用所有光線,其低照性能難以令人滿意。五、濾光片術語入射角度:入射光線和濾光片表面法線之間的夾角。當光線正入射時,入射角為0°。光譜特性:濾光片光譜參數(透過率T,反射率R,光密度OD,位相,偏振狀態s,p等相對于波長變化的特性)。中心波長:帶通濾光片的中心稱為中心波長(CWL)。通帶寬度用**大透過率一半處的寬度表示(FWHM),通常稱為半寬。有效孔徑:光學系統中有效利用的物理區域。通常于濾光片的外觀尺寸相似,同心,尺寸略小些。截止位置/前-后:cut-on對應光譜特性從衰減到透過的50%點,cut-off對應光譜特性從透過到衰減的50%點。有時也可定義為峰值透過率的...
ALtimax中文名:白金鋁鈦_納米晶體;顏色:銀白色;硬度:4300HV;摩擦系數:。抗氧化溫度:1200℃;優點:高熱穩定性;通用於高速鋼與硬質合金刀具高速、干式、連續性切削;可加工高硬度模具鋼50HRC。MedicaWC/C涂層顏色:黑色;硬度硬度>17000HV;摩擦系數:;高工作溫度:450℃;優點:磨擦力低,干式金屬潤滑膜;適合醫療、藥品行業無油環境。CrN-WC/C涂層顏色:黑色;硬度>2000HV;摩擦系數:;高工作溫度:650℃;優點:解決射出成型脫膜、腐蝕問題;適合汽車、機械零件降低磨擦損耗;適合無油軸承,干式金屬潤滑膜。鍍膜技術真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加...
(1)成膜溫度低。鋼鐵行業中的熱鍍鋅鍍膜溫度一般是400℃~500℃,化學鍍膜溫度更高達1000℃以上。這樣高的溫度很容易引起被鍍件的變形、變質,而真空鍍膜的溫度低,可以降到常溫,避免了常規鍍膜工藝的弊端。(2)蒸發源選擇自由度大。可選擇的鍍膜材料多而不受材料熔點限制,可鍍種類眾多的金屬氮化膜,金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復合膜。(3)不使用有害氣體、液體,對環境無不利影響。在當前越來越重視環保的大趨勢下,這點極其可貴。(4)帶鋼鍍膜質量好。能獲得均勻、平滑且極薄的鍍膜,鍍膜純度高,耐蝕性和附著力好。不存在熱鍍鋅中的漏鍍點、鋅浪、鋅花等問題。(5)工藝靈活,改變品種方便。可鍍單面、雙面...
(1)成膜溫度低。鋼鐵行業中的熱鍍鋅鍍膜溫度一般是400℃~500℃,化學鍍膜溫度更高達1000℃以上。這樣高的溫度很容易引起被鍍件的變形、變質,而真空鍍膜的溫度低,可以降到常溫,避免了常規鍍膜工藝的弊端。(2)蒸發源選擇自由度大。可選擇的鍍膜材料多而不受材料熔點限制,可鍍種類眾多的金屬氮化膜,金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復合膜。(3)不使用有害氣體、液體,對環境無不利影響。在當前越來越重視環保的大趨勢下,這點極其可貴。(4)帶鋼鍍膜質量好。能獲得均勻、平滑且極薄的鍍膜,鍍膜純度高,耐蝕性和附著力好。不存在熱鍍鋅中的漏鍍點、鋅浪、鋅花等問題。(5)工藝靈活,改變品種方便。可鍍單面、雙面...
圖1[蒸發鍍膜設備示意圖])電阻加熱源主要用于蒸發Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高頻感應加熱源:用高頻感應電流加熱坩堝和蒸發物質。③電子束加熱源:適用于蒸發溫度較高(不低于2000[618-1])的材料,即用電子束轟擊材料使其蒸發。蒸發鍍膜與其他真空鍍膜方法相比,具有較高的沉積速率,可鍍制單質和不易熱分解的化合物膜。為沉積高純單晶膜層,可采用分子束外延方法。生長摻雜的GaAlAs單晶層的分子束外延裝置如圖2[分子束外延裝置示意圖]。噴射爐中裝有分子束源,在超高真空下當它被加熱到一定溫度時,爐中元素以束狀分子流射向基片。基片被加熱到一定溫度,沉積在基片上的分子可...
什么是光學鍍膜:光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。光學鍍膜原理:1-1真空鍍膜真空鍍膜:真空鍍膜主要是指需要在更高真空下進行的涂料,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等多種涂料,所以。蒸發和濺射有兩種主要類型。將被鍍材料制成基材,將電鍍材料用作靶材或藥材。襯底處于與靶相同的真空中。蒸發涂層通常是加熱目標,以使表面組分以自由基或離子的形式蒸發,并通過成膜方法(散射島結構-梯形結構-層...
一、概念的區別1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發并凝結于鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法。例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻等。2、光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。二、原理的區別1、真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面,它是以真空技術為基礎,利用物理或化學方法,并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術,為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。...
~800mm)工藝?可靈活變化可搭載各種陰極(DC,UBM,DMS,旋轉磁石)前處理機能(改善密著性)2.面向量產的磁控濺射卷繞鍍膜機(W50/60S系列)面向量產的磁控濺射卷繞鍍膜機維護性基膜寬:1,300mm、1,600mm(~2,000mm)磁控濺射區數:1鍍膜滾筒4個區,分割區域排氣充實的脫氣機能應用例1.透明導電膜(ITO,ZnO等)1)高抵抗ITO膜:面向觸摸屏100~300Ωsq.高方阻ITO的高穩定性95℃,1000Hr試驗同時具備柔性和低方阻的高穩定性(經時變化小)的非晶質ITO膜的鍍膜2)低方阻ITO膜:液晶,有機EL10Ωsq.以下低溫鍍膜所形成的優越的方阻率(U...
目前,市場上的真空內鍍膜機只有一個工作室,其需要經過物件安裝、關閉鐘罩、抽氣、蒸發、真空處置、排氣、打開鐘罩、取下物件的系列過程,才能完成鍍膜工作;而在這種真空內鍍膜機處于工作狀態時,工作人員必須堅守崗位,注意觀察,把握好鍍膜時間,并等待下一次操作,這樣浪費了人力,工作效率不高。目的是提供工作效率高的一種真空鍍膜機。一種真空鍍膜機,本系統由真空鍍膜系統和手套箱系統集成而成,可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍,并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸發鍍膜與手套箱組合,實現蒸鍍、封裝、測試等工藝全封閉制作,使整個薄膜生長和器件制備過程高度集成在一個完整的可控...
操作規程1.在真空鍍膜機運轉正常情況下,開動真空鍍膜機時。必須先開水管,工作中應隨時注意水壓。2.在離子轟擊和蒸發時,應特別注意高壓電線接頭,不得觸動,以防觸電。3.在用電子鍍膜時,應在鐘罩上鋁板。觀察窗的玻璃好用鉛玻璃,觀察時應戴上鉛玻璃眼鏡,以防X射線侵害人體。4.鍍制多層介質膜的鍍膜間,應安裝通風吸塵裝置,及時排除有害粉塵。5.易燃有毒物品要妥善保管,以防失火中毒。6.酸洗夾具應在通風裝置內進行,并要戴橡皮手套。7.把零件放入酸洗或堿洗槽中時,應輕拿輕放,不得碰撞及濺出。平時酸洗槽盆應加蓋。8.工作完畢應斷電、斷水。優點TiN中文名:氮化鈦;顏色:金色;硬度:2300HV;摩擦系...
產品放置24小時后拿出,在常溫條件放置24小時后觀察外觀并做附著力測試.測試工具:高低溫試驗箱測試結果:涂層表面無異常,附著力OK測試項目九:高溫保存測試程式;在溫度66度,90%RH的條件下,放置88小時,在常溫條件恢復24小時,觀察外觀并做附著力測試.測試結果:涂層外觀無異常,附著力OK測試項目十:冷熱沖擊測試程式:將產品放在溫度沖擊箱中,先在-20度的低溫環境下保存24小時,在1分鐘內將溫度切換到70度的高溫環境并保存24小時,接著將溫度下調到-20度低溫,保存24小時.***在1分鐘內將溫度切換到70度的高溫環境保存48小時,時間共120小時.將產品常溫環境放置24小時觀察涂層...
以滿足不同的需要.為了消除光學零件表面的反射損失,提高成像質量,涂鍍一層或多層透明介質膜,稱為增透膜或減反射膜.隨著激光技術的發展,對膜層的反射率和透過率有不同的要求,促進了多層高反射膜和寬帶增透膜的發展.為各種應用需要,利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉濾光片等.光學零件表面鍍膜后,光在膜層層上多次反射和透射,形成多光束干涉,控制膜層的折射率和厚度,可以得到不同的強度分布,這是干涉鍍膜的基本原理.三、方法和材料的區別1、真空鍍膜的方法材料:(1)真空蒸鍍:將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室,抽空后將膜料加熱到高溫,使蒸氣達到約.(2)陰極濺射鍍:將需鍍膜的基體放在陰極對...
可能會出現表面應力裂紋的缺陷,有了底漆過渡,涂層的厚度約10-20um,是完全可以掩蓋塑膠粗糙的表面。而涂層自身的光滑度一般在,幾乎視為鏡面的效果。涂層填充性影響因素:油漆配方:固體量,生產工藝:膜厚3.獲得更厚的真空電鍍層.用底漆過渡,有利于獲得更厚獲得更厚的電鍍層,使產品得到更高的反射效果和力學性能.4.附著性.對于一些極性較差的塑膠,通過底漆過渡,可以獲得電鍍層附著性.5.耐熱性.塑膠熱變形溫度一般較低,通過底漆過渡,可以起到一定的熱緩沖作用,保護塑膠免遭熱變形.6.流平性7.耐熱性真空電鍍金屬層一般只有數十至數百納米,耐磨抗劃傷性能較差,同時真空電鍍金屬層暴露在空氣中很容易氧化...
在離子源推進器實驗中,人們發現有推進器材料從離子源飛出,這就開始了離子源在材料,特別是材料表面改性的應用。離子源的另一個重要應用是高能物理。具體就是離子加速器。簡單地說就是用一臺離子源產生某種材料的離子,這個離子就在磁性環路上加速,從而轟擊一個靶,產生新的物質或揭示新的物理規律。真空鍍膜中用到的離子源種類較多。主要有:高頻離子源,弧放電離子源,kaufman離子源,射頻離子源,霍爾離子源,冷陰極離子源,電子回旋離子源,陽極層離子源,感應耦合離子源可能還有很多其它類型離子源未被提到。離子源類型雖多,目的卻無非在線清洗,改善被鍍表面能量分布和調制增加反應氣體能量。離子源可以改善膜與基體的結合強度,...
測試結果:涂層表面無明顯破壞的痕跡.測試項目五:耐化妝品測試測試程式:先用棉布將產品的表面檫拭干凈,將凡士林護手霜涂在產品的表面上,將產品防在恒溫箱中(溫度55-65,90-98%RH),保持24小時,將產品取出,用棉布將化妝品檫拭干凈,觀察外表,24小時后做附著力測試.測試工具:棉布,凡士林,高低試驗箱測試結果:涂層表面無異常現象,附著力OK.測試項目六:耐手汗測試測試程式:將手汗(主要的成分:氨水1.07%,NaCl0.48%,其余為水)浸泡后的無紡布貼在產品的表面,用塑料袋密封后,在常溫的環境放置12小時,將產品表面的汗液檫拭干凈,檢查涂層的外觀,24小時后做附著力測試.測試工具...
6)漆面拋光后,用純棉毛巾將整車清潔干凈。4、鍍膜***遍鍍膜:將產品充分搖動均勻,直接將產品倒在車身上,常溫工作,不要在陽光直射下,發動機罩降溫后比較好。用干凈的鍍膜條,輕快而有力地“十字形式打擦”,直到均勻涂擦。干成結晶體,漆面就越光澤,附著力越強,選擇鍍膜效果比較好。第二遍鍍膜:重復***遍,10至20分鐘干燥后,鏡靚鍍膜效果立即呈現。顯著一層玻璃體的光亮保護漆面。5、如何判斷鍍膜施工的質量?(1)車漆的漆面色澤要一致,和拋光前相比,亮度有明顯改善,比新車還要有亮度;出現玻璃境面,用報紙在漆面上看倒影清晰。(2)換拋光劑的同時更換海綿輪,不可混用海綿輪。(3)要在陰涼、光線好的專...
限制夏季室外的二次熱輻射進入室內,南方、北方都適用。因其具有豐富的裝飾效果和室外視線遮陽作用,適用于各類建筑物。雙銀LowE玻璃雙銀LowE玻璃突出了玻璃對太陽熱輻射的遮陽效果,將玻璃的高透光性與太陽熱輻射的低透過性巧妙地結合在一起,有較高的可見光透過率,可有效地限制夏季室外的背景熱輻射進入室內。相關概念鏡頭鏡頭在影視中有兩指,一指電影攝影機、放映機用以生成影像的光學部件,由多片透鏡組成。各種不同的鏡頭,各有不同的造型特點,它們在攝影造型上的應用,構成光學表現手段;二指從開機到關機所拍攝下來的一段連續的畫面,或兩個剪接點之間的片段,也叫一個鐿頭。一指和二指,是兩個完全不同的概念,為了區...
測試結果:涂層表面無明顯破壞的痕跡.測試項目五:耐化妝品測試測試程式:先用棉布將產品的表面檫拭干凈,將凡士林護手霜涂在產品的表面上,將產品防在恒溫箱中(溫度55-65,90-98%RH),保持24小時,將產品取出,用棉布將化妝品檫拭干凈,觀察外表,24小時后做附著力測試.測試工具:棉布,凡士林,高低試驗箱測試結果:涂層表面無異常現象,附著力OK.測試項目六:耐手汗測試測試程式:將手汗(主要的成分:氨水1.07%,NaCl0.48%,其余為水)浸泡后的無紡布貼在產品的表面,用塑料袋密封后,在常溫的環境放置12小時,將產品表面的汗液檫拭干凈,檢查涂層的外觀,24小時后做附著力測試.測試工具...
真空鍍膜機鍍膜是指在真空中制備膜層,包括鍍制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。無錫光潤為您介紹真空鍍膜機的原理。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段,但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜機鍍膜方法有三種形式,即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。蒸發鍍膜:通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面,稱為蒸發鍍膜。現代已成為常用鍍膜技術之一。蒸發源有三種類型:①電阻加熱源:用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發物質。電阻加熱源主要用于蒸發Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料;②高頻感應加熱源源:用高頻感應電流加熱坩堝...
耐磨性和耐腐蝕性更好,膜層的性能也更穩定;PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類更為***,可以鍍出的各種膜層的顏色也更多更漂亮;PVD鍍膜不會產生有毒或有污染的物質。Q5:請問PVD鍍膜能否代替化學電鍍?A5:在現階段,PVD鍍膜是不能取代化學電鍍的,并且除了在不銹鋼材料表面可直接進行PVD鍍膜外,在很多其他材料(如鋅合金、銅、鐵等)的工件上進行PVD鍍膜前,都需要先對它們進行化學電鍍Cr(鉻)。PVD鍍膜主要應用在一些比較***的五金制品上,對那些價格較低的五金制品通常也只是進行化學電鍍而不做PVD鍍膜。Q6:請問采用PVD鍍膜技術鍍出的膜層有什么特點?A6:采用PVD鍍膜技術鍍出的膜層,具...