凝結形成固態薄膜的方法。真空蒸發鍍膜又可以分為下列幾種:電阻蒸發源蒸鍍法采用鉭,鉬,鎢等高熔點金屬,做成適當形狀的蒸發源,其上裝入待蒸發材料,讓氣流通過,對蒸發材料進行直接加熱蒸發,或者把待蒸發材料放入氧化鋁,氧化鈹等坩鍋中進行間接加熱蒸發,這就是電阻加熱蒸發法。利用電阻加熱器加熱蒸發的鍍膜機結構簡單,造價便宜,使用可靠,可用于熔點不太高的材料的蒸發鍍膜,尤其適用于對鍍膜質量要求不太高的大批量的生產中,迄今為止,在鍍鋁制鏡的生產中仍然大量使用著電阻加熱蒸發的工藝。電阻加熱方式的缺點是:加熱所能達到的**高溫度有限,加熱器的壽命也較短。近年來,為了提高加熱器的壽命,國內外已采用壽命較長的...
TiN[鈦金]、ZrN〔鋯金〕、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN),以及氧化物膜(如TiO等)。Q9:請問PVD鍍膜膜層的厚度是多少?A9:PVD鍍膜膜層的厚度為微米級,厚度較薄,一般為μm~5μm,其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為μm~1μm,因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能,并能夠維持工件尺寸基本不變,鍍后不須再加工。Q10:請問PVD鍍膜能夠鍍出的膜層的顏色有哪些?A10:我們目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色,淺金黃色,咖啡色,古銅色,灰色,黑色,灰黑色,七彩色等。通過控制鍍膜過程中的相關參數,可以控制鍍出的顏色;鍍膜結束...
2)由空氣進入鍍膜后再進入玻璃穿透率=[4××(1+)2]×[4××()2]=可見有鍍膜的玻璃會增加透光度。此外由此公式,我們可以計算光線穿透鏡片的兩面,發現即使一片完美的透鏡(折射率),其透光度約為85%左右。若加上一層鍍膜(折射率),則透光度可達91%。可見光學鍍膜的重要性。鍍膜的厚度**后我們要探討的是鍍膜厚度的不同,會有什么影響?我們已經知道透光度與鍍膜的折射率有關,但是卻無關于它的厚度。可是我們若能在鍍膜的厚度上下點功夫,會發現反射光A與反射光B相差nc×2D的光程差。如果nc×2D=(N+1/2)λ其中N=0,1,2,3,4,5.....λ為光在空氣中的波長則會造成該特定波...
真空鍍膜機原理真空鍍膜機是目前制作真空條件應用很多的真空設備,一般用真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成,排氣系統采用“擴散泵+機械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。本公司專業從事真空鍍膜設備的研發與生產擁有經驗豐富的技術團隊及售后服務隊伍為您解決設備在使用過程中遇到的任何問題。下面,詳細介紹真空鍍膜機的各部分組成及其工作原理。一、真空主體——真空腔根據加工產品要求的各異,真空腔的大小也不一樣,目前應用多的有直徑、、、,腔體由不銹鋼"target=_blank>不銹鋼材料制作,要求不生銹、堅實等,真空腔各部分有連接閥,用來連接各抽氣泵浦。二、輔助抽氣系統:排氣系統為鍍膜...
可能會出現表面應力裂紋的缺陷,有了底漆過渡,涂層的厚度約10-20um,是完全可以掩蓋塑膠粗糙的表面。而涂層自身的光滑度一般在,幾乎視為鏡面的效果。涂層填充性影響因素:油漆配方:固體量,生產工藝:膜厚3.獲得更厚的真空電鍍層.用底漆過渡,有利于獲得更厚獲得更厚的電鍍層,使產品得到更高的反射效果和力學性能.4.附著性.對于一些極性較差的塑膠,通過底漆過渡,可以獲得電鍍層附著性.5.耐熱性.塑膠熱變形溫度一般較低,通過底漆過渡,可以起到一定的熱緩沖作用,保護塑膠免遭熱變形.6.流平性7.耐熱性真空電鍍金屬層一般只有數十至數百納米,耐磨抗劃傷性能較差,同時真空電鍍金屬層暴露在空氣中很容易氧化...
在離子源推進器實驗中,人們發現有推進器材料從離子源飛出,這就開始了離子源在材料,特別是材料表面改性的應用。離子源的另一個重要應用是高能物理。具體就是離子加速器。簡單地說就是用一臺離子源產生某種材料的離子,這個離子就在磁性環路上加速,從而轟擊一個靶,產生新的物質或揭示新的物理規律。真空鍍膜中用到的離子源種類較多。主要有:高頻離子源,弧放電離子源,kaufman離子源,射頻離子源,霍爾離子源,冷陰極離子源,電子回旋離子源,陽極層離子源,感應耦合離子源可能還有很多其它類型離子源未被提到。離子源類型雖多,目的卻無非在線清洗,改善被鍍表面能量分布和調制增加反應氣體能量。離子源可以改善膜與基體的結合強度,...
鍍膜靶材是用物理或化學的方法在靶材表面鍍上一層透明的電解質膜,或鍍一層金屬膜,目的是改變靶材表面的反射和透射特性.而鍍膜的方法有真空鍍膜和光學鍍膜,有不少用戶不知道這二者的區別。一、概念的區別1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發并凝結于鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法.例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻等.2、光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程.在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求.常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜.二、原理的區別1、真空鍍膜是真空...
(1)成膜溫度低。鋼鐵行業中的熱鍍鋅鍍膜溫度一般是400℃~500℃,化學鍍膜溫度更高達1000℃以上。這樣高的溫度很容易引起被鍍件的變形、變質,而真空鍍膜的溫度低,可以降到常溫,避免了常規鍍膜工藝的弊端。(2)蒸發源選擇自由度大。可選擇的鍍膜材料多而不受材料熔點限制,可鍍種類眾多的金屬氮化膜,金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復合膜。(3)不使用有害氣體、液體,對環境無不利影響。在當前越來越重視環保的大趨勢下,這點極其可貴。(4)帶鋼鍍膜質量好。能獲得均勻、平滑且極薄的鍍膜,鍍膜純度高,耐蝕性和附著力好。不存在熱鍍鋅中的漏鍍點、鋅浪、鋅花等問題。(5)工藝靈活,改變品種方便。可鍍單面、雙面...
通過控制擋板。可精確地做出所需成分和結構的單晶薄膜。分子束外延法用于制造各種光集成器件和各種超晶格結構薄膜。濺射鍍膜用高能粒子轟擊固體表面時能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面,沉積在基片上。濺射現象于1870年開始用于鍍膜技術,1930年以后由于提高了沉積速率而逐漸用于工業生產。常用的二極濺射設備如圖3[二極濺射示意圖]。通常將欲沉積的材料制成板材──靶,固定在陰極上。基片置于正對靶面的陽極上,距靶幾厘米。系統抽至高真空后充入10~1帕的氣體(通常為氬氣),在陰極和陽極間加幾千伏電壓,兩極間即產生輝光放電。放電產生的正離子在電場作用下飛向陰極,與靶表面原子碰撞,受碰撞從靶面逸出的靶原...
附著性好,膜結構及形貌差,若用電子束加熱必須用差壓板;可用于鍍耐腐蝕潤滑機械制品。2)多陰極型。利用電阻或電子束加熱使膜材氣化;依靠熱電子,陰極發射的電子及輝光放電使充入的真空惰性氣體或反應氣體離化。這種方法的特點是:基板溫升小,有時需要對基板加熱可用于鍍精密機械制品,電子器件裝飾品。3)活性反應蒸鍍法(ARE)。利用電子束加熱使膜材氣化;依靠正偏置探極和電子束間的低壓等離子體輝光放電或二次電子使充入的氧氣,氮氣等反應氣體離化。這種方法的特點是:基板溫升小,要對基板加熱,蒸鍍效率高,能獲得氧化鋁,氮化鈦,碳化鈦等薄膜;可用于鍍機械制品,電子器件,裝飾品。4)空心陰極離子鍍(HCD)。利...
真空鍍膜機主要分類 主要分類有兩個大種類: 蒸發沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜,具體則包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,溶膠凝膠法等等 。 一、對于蒸發鍍膜: 一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。 厚度均勻性主要取決于: 1。基片材料與靶材的晶格匹配程度 2、基片表面溫度 3. 蒸發功率,速率 4. 真空度 5. 鍍膜時間,厚度大小。 組分均勻性: 蒸發鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調控的因素同上,但是由于原理所限,對于非單一組分鍍膜,蒸發鍍膜的組分均勻性不好。 晶向均勻性: 1。晶格匹配度 2。 基片溫度 3。蒸發速率 濺射鍍膜又分為很多種,總體...
對膜層的反射率和透過率有不同的要求,促進了多層高反射膜和寬帶增透膜的發展。為各種應用需要,利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉濾光片等。光學零件表面鍍膜后,光在膜層層上多次反射和透射,形成多光束干涉,控制膜層的折射率和厚度,可以得到不同的強度分布,這是干涉鍍膜的基本原理。三、方法和材料的區別1、真空鍍膜的方法材料:(1)真空蒸鍍:將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室,抽空后將膜料加熱到高溫,使蒸氣達到約,凝結而成薄膜。(2)陰極濺射鍍:將需鍍膜的基體放在陰極對面,把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內,保持壓強約~,然后將陰極接上2000V的直流電源,便激發輝光放電,帶正電的氬離...
電鍍油污處理劑在UV真空鍍膜工藝中適用于電鍍前處理除油,同時對油漆具有增強附著力的用途。在工業生產領域,手機殼、化妝品瓶蓋、塑膠玩具、手機中框等在成型時,主要工藝為注塑成型,難以避免脫模劑以及其他油污粘附在基材上,導致噴UV漆之后起油窩,所以除油需要好用且適合電鍍噴涂線體的除油方法。ABS、PC、ABS+PC、TPU等塑膠基材,傳統的白電油等除油方法,工藝繁雜、安全性低、線體生產效率不高,二次清洗、浸泡等還是會帶來油污在工件上的粘附,難以高效穩定的除油。電鍍油污處理劑通過底涂的方式,適用于電鍍噴涂線體,遮蓋油污,具有良好的蓋油污能力以及流平,我們通過以下實例來看看電鍍油污處理劑的應用效...
真空鍍膜技術是氣相物理沉積的方法之一,也叫真空電鍍.是在真空條件下,用蒸發器加熱鍍膜材料使之升華,蒸發粒子流直接射向基體,在基體表面沉積形成固體薄膜.真空鍍膜的應用***,如真空鍍鋁,在塑料等基體上進行真空鍍,再經過不同顏色的染色處理,可以應用于家具、工藝品、燈飾、鐘表、玩具、汽車燈具、反光鏡及柔軟包裝材料等產品制造中,裝飾效果十分出色.真空鍍膜技術基本原理真空鍍膜過程簡單來說就是電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞,電離出大量的氬離子和電子,電子飛向基片.氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜.但在實際輝光放...
真空鍍膜機鍍膜是指在真空中制備膜層,包括鍍制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。無錫光潤為您介紹真空鍍膜機的原理。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段,但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜機鍍膜方法有三種形式,即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。蒸發鍍膜:通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面,稱為蒸發鍍膜。現代已成為常用鍍膜技術之一。蒸發源有三種類型:①電阻加熱源:用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發物質。電阻加熱源主要用于蒸發Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料;②高頻感應加熱源源:用高頻感應電流加熱坩堝...
磁控濺射卷繞鍍膜機磁控濺射的構成例(W35系列)對樹脂基膜等基材以卷到卷方式采用磁控濺射方法形成透明導電膜(ITO,ZnO等)?光學膜(SiO2,SiOx,NbOx等)鍍膜的磁控濺射卷繞鍍膜機。磁控濺射法,采用各種陰極(DC,UBM,DMS,旋轉磁石),進行觸摸屏?FPD?太陽能電池?窗膜等所必須的透明導電膜(TCO)?光學膜?氧化膜?金屬膜的鍍膜。聚集了從面向R&D?實驗性生產的小型裝置到面向寬幅?大型卷繞鍍膜機,對應柔性電子?能源領域的研究開發直到量產的需求。特征1.可搭載各種陰極1)UBMS(非平衡磁控濺射)根據非平衡磁場增大基材附近的等離子密度。膜表面的能量輔助效果使得薄膜特性...
耐磨性和耐腐蝕性更好,膜層的性能也更穩定;PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類更為***,可以鍍出的各種膜層的顏色也更多更漂亮;PVD鍍膜不會產生有毒或有污染的物質。Q5:請問PVD鍍膜能否代替化學電鍍?A5:在現階段,PVD鍍膜是不能取代化學電鍍的,并且除了在不銹鋼材料表面可直接進行PVD鍍膜外,在很多其他材料(如鋅合金、銅、鐵等)的工件上進行PVD鍍膜前,都需要先對它們進行化學電鍍Cr(鉻)。PVD鍍膜主要應用在一些比較***的五金制品上,對那些價格較低的五金制品通常也只是進行化學電鍍而不做PVD鍍膜。Q6:請問采用PVD鍍膜技術鍍出的膜層有什么特點?A6:采用PVD鍍膜技術鍍出的膜層,具...
使CCD不能充分利用所有光線,其低照性能難以令人滿意。五、濾光片術語入射角度:入射光線和濾光片表面法線之間的夾角。當光線正入射時,入射角為0°。光譜特性:濾光片光譜參數(透過率T,反射率R,光密度OD,位相,偏振狀態s,p等相對于波長變化的特性)。中心波長:帶通濾光片的中心稱為中心波長(CWL)。通帶寬度用**大透過率一半處的寬度表示(FWHM),通常稱為半寬。有效孔徑:光學系統中有效利用的物理區域。通常于濾光片的外觀尺寸相似,同心,尺寸略小些。截止位置/前-后:cut-on對應光譜特性從衰減到透過的50%點,cut-off對應光譜特性從透過到衰減的50%點。有時也可定義為峰值透過率的...
測試結果:涂層表面無明顯破壞的痕跡.測試項目五:耐化妝品測試測試程式:先用棉布將產品的表面檫拭干凈,將凡士林護手霜涂在產品的表面上,將產品防在恒溫箱中(溫度55-65,90-98%RH),保持24小時,將產品取出,用棉布將化妝品檫拭干凈,觀察外表,24小時后做附著力測試.測試工具:棉布,凡士林,高低試驗箱測試結果:涂層表面無異常現象,附著力OK.測試項目六:耐手汗測試測試程式:將手汗(主要的成分:氨水1.07%,NaCl0.48%,其余為水)浸泡后的無紡布貼在產品的表面,用塑料袋密封后,在常溫的環境放置12小時,將產品表面的汗液檫拭干凈,檢查涂層的外觀,24小時后做附著力測試.測試工具...
鍍膜玻璃,顧名思義,就是一種表面涂鍍薄膜的玻璃。它的應用十分***,大到建筑物玻璃幕墻,小到液晶顯示屏等都可采用。那么,什么是鍍膜玻璃呢?鍍膜玻璃原理是什么呢?鍍膜玻璃一平方多少錢?接下來就讓小編來為大家介紹鍍膜玻璃的相關知識吧。什么是鍍膜玻璃鍍膜玻璃也稱反射玻璃,是一種表面涂鍍薄膜的玻璃,可鍍一層或多層薄膜,鍍膜可為金屬、合金或金屬化合物。鍍膜可以改變玻璃的光學性能,滿足某種特定要求。鍍膜玻璃根據產品的不同特性,一般可以分為導電膜玻璃、低輻射玻璃、熱反射玻璃等幾類。1、導電膜玻璃是在玻璃表面涂敷氧化銦錫等導電的一種薄膜,它在現***活中被***地用于液晶顯示器即LCD、太陽能電池、微...