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這種方法的特點是：基板溫升小，即能鍍金屬膜又能直接鍍化合物膜，如氧化鋅等；可用于鍍電子器件，音響器件。11）多弧離子鍍。利用陰極弧光進行加熱；依靠蒸發原子束的定向運動使反應氣體(或真空)離化。這種方法的特點是：基板溫升較大，離化率高，沉積速率大；可用于鍍機械制品，刀鋸，模具。4.真空鍍膜技術的發展趨勢科技發展愈來愈快，信息高速公路，數字地球等新概念的提出，影響和帶動了全球高科技的發展，目前，生命科學，環保科技，材料科學和納米科技是高科技重點研究的領域；納米科技中又以納米電子學為優先研究領域。目前計算機和信息技術的基礎是超大規模集成電路；但下個世紀的基本元件將是納米電子集成電路。它是微電子器件的...

對于真空鍍膜機所用的塑料材料，需要與膜層結合性高，放氣量小，受熱穩定，同時滿足這三個條件的塑料材料是非常少的，但塑料材料在工業生產中的應用卻非常***，所以塑料真空鍍膜機的應用也隨之發展起來，為了使更多的塑料投入到真空鍍膜中，常常通過各種方法改進。現在介紹幾種真空鍍膜中常用的塑料，ABS是**早使用的，是同時滿足三個條件的塑料，A**丙烯腈，B**丁二烯，S**苯乙烯，塑料中含有以上三種物質的就是ABS塑料了，ABS鍍上膜層后，可以很好的發揮其機械性能、抗沖擊性，依靠其硬度大，耐磨損，成本不高，常常被用于代替某些金屬機械零部件，也用于生產家用電器的外殼，但由于含有丁二烯，ABS不能在室外使用，...

常采用旋轉基片或多蒸發源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發源到基片的距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。蒸氣分子平均動能約為～。蒸發源有三種類型。①電阻加熱源：用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發物質（圖1[蒸發鍍膜設備示意圖]）電阻加熱源主要用于蒸發Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料；②高頻感應加熱源：用高頻感應電流加熱坩堝和蒸發物質；③電子束加熱源：適用于蒸發溫度較高（不低于2000[618-1]）的材料，即用電子束轟擊材料使其蒸發。蒸發鍍膜與其他真空鍍膜方法相比，具有較高的沉積速率...

真空鍍膜機主要分類主要分類有兩個大種類：蒸發沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等。一、對于蒸發鍍膜：一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。厚度均勻性主要取決于：1。基片材料與靶材的晶格匹配程度2、基片表面溫度3.蒸發功率，速率4.真空度5.鍍膜時間，厚度大小。組分均勻性：蒸發鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發鍍膜的組分均勻性不好。晶向均勻性：1。晶格匹配度2。基片溫度3。蒸發速率濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參...

真空鍍膜機主要分類主要分類有兩個大種類：蒸發沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等。一、對于蒸發鍍膜：一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。厚度均勻性主要取決于：1。基片材料與靶材的晶格匹配程度2、基片表面溫度3.蒸發功率，速率4.真空度5.鍍膜時間，厚度大小。組分均勻性：蒸發鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發鍍膜的組分均勻性不好。晶向均勻性：1。晶格匹配度2。基片溫度3。蒸發速率濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參...

以１８０度力方向迅速拉下膠紙，同一個位置進行３次．實驗工具：刀片，３Ｍ膠紙，毛刷．測試結果：１００／１００不掉漆，刀口處平整．測試項目二：耐磨耗測試測試程式：采用ＮＯＲＭＡＮＲＣＡ耐磨耗儀以及**的紙帶（規格：１１／１６inchside*6/8inchdiameter)，施加１７５g負重，帶動紙帶在樣品的表面磨檫１５０次．測試工具：ＲＣＡ紙帶機，毛刷或者棉條．測試結果：１５０次（ＭＩＸ）未發現涂層破穿．測試項目三：硬度測試測試程式：用１Ｈ三菱鉛筆，將筆芯削成５mm的圓柱體，用４００目的砂紙磨平后，裝在**的鉛筆硬度測試儀上（負重１Ｋg,鉛筆與水平的角度為４５度）推動鉛筆向前滑動５mm長度，不同...

車燈真空鍍膜UV漆的技術要求車燈真空鍍膜UV漆的技術要求由于輻射固化涂料的綠色環保與高效率，使得該技術在世界范圍內獲得了重視和快速增長，其應用領域越來越廣。UV涂層具有極好的表面光潔度，很適合作為底漆用于真空金屬鍍膜技術領域，在塑料基材上可獲得十分光亮的金屬外觀。隨著汽車工業的發展，許多金屬替代工藝得到了應用，目前在汽車車燈反射罩應用領域，已經完全采用在PC、BMC等塑料表面通過真空鍍鋁膜來提高反射效果，用于這一領域的UV涂料要求具有良好的流平性，高耐溫性(用于PC基材要求120℃以上，BMC基材高達180℃以上)。在設計PC車燈反射罩用UV底漆時，要注意提高涂層的交聯密度來保證涂層有良好的封...

2、鍍膜（晶）可以增起漆面硬度、防劃痕、(提高漆面硬度并不能讓漆面刀***不入、而是在正常的使用中，諸如洗車、行進的時候，有效的防止堅硬的沙粒對漆面的劃傷，有效減少漆面螺旋紋又稱太陽紋等使車漆持久如新)3、易清潔，鍍膜后的車漆不易沾灰，只需日常洗車即可從頻繁的打蠟封釉美容項目中解脫四、汽車鍍膜（晶）必須注意的事項：1、鍍膜（晶）后沒干內切記不要用水沖洗汽車，因為在這段時間內，鍍膜（晶）層還未完全凝結將繼續滲透，沖洗將會沖掉未凝結的鍍晶。2、做完鍍膜（晶）美容后可盡量避免洗車，因此一般灰塵用干凈柔軟的布條擦去即可。3、做了鍍膜（晶）美容后不要再打蠟，因為蠟層可能會粘附在釉層表面，再追加上鍍晶時會...

簡介真空鍍膜在真空中制備膜層，包括鍍制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。蒸發鍍膜通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發鍍膜。這種方法**早由M.法拉第于1857年提出，現代已成為常用鍍膜技術之一。蒸發鍍膜設備結構如圖1。蒸發物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質蒸發。蒸發物質的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數百埃...

離子源（英文名稱：Ionsource）是使中性原子或分子電離，并從中引出離子束流的裝置。它是各種類型的離子加速器、質譜儀、電磁同位素分離器、離子注入機、離子束刻蝕裝置、離子推進器以及受控聚變裝置中的中性束注入器等設備的不可缺少的部件。氣體放電、電子束對氣體原子(或分子)的碰撞，帶電粒子束使工作物質濺射以及表面電離過程都能產生離子，并被引出成束。根據不同的使用條件和用途，已研制出多種類型的離子源。使用較廣的有弧放電離子源、PIG離子源、雙等離子體離子源和雙彭源這些源都是以氣體放電過程為基礎的,常被籠統地稱為弧源。高頻離子源則是由氣體中的高頻放電來產生離子的，也有很廣的用途。新型重離子源的出現，使...

目前市場上的真空鍍膜設備廠家是非常多的，所以競爭就非常激烈了，消費者在選擇真空鍍膜設備廠家的時候，是需要通過一些方面來鑒別真空鍍膜設備廠家的實力。一、經驗。真空鍍膜設備維修和很多其他的技能是一樣的，具有豐富的經驗才能應對多種狀況的出現，才能保障好結果。二、成功案例。真空鍍膜設備維修案例是直接的實力見證之一，真空鍍膜設備維修要的還是實際的操作，這不僅*包括了真空鍍膜設備本身，還包括了像真空鍍膜設備這樣的專業配置，畢竟配置是真空鍍膜設備維修的重要前提。三、售后服務。售后服務是真空鍍膜設備維修后的一個重要保障之一，完善的售后服務是真空鍍膜設備維修的一部分。四、維修配件必須要有保障。每一個公司很難在每...

真空鍍膜有三種形式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍:蒸發鍍膜，通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面；濺射鍍膜用高能粒子轟擊固體表面時能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面，沉積在基片上；離子鍍蒸發物質的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面。這三種形式的真空鍍膜技術都需要一種快速冷卻裝置來輔助真空鍍膜工程。真空設備由于在鍍膜過程中工件處于密閉的真空環境中，但產品工藝及性能卻喪失了很多，現有的真空鍍膜設備，也有冷卻裝置，但其冷卻效果不是很理想。不能滿足人們的需要，為彌補現有技術不足，提供真空鍍膜設備手套箱蒸鍍一體機，本系統由真空鍍膜系統和手套箱系統集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍，并在...

離子源（英文名稱：Ionsource）是使中性原子或分子電離，并從中引出離子束流的裝置。它是各種類型的離子加速器、質譜儀、電磁同位素分離器、離子注入機、離子束刻蝕裝置、離子推進器以及受控聚變裝置中的中性束注入器等設備的不可缺少的部件。氣體放電、電子束對氣體原子(或分子)的碰撞，帶電粒子束使工作物質濺射以及表面電離過程都能產生離子，并被引出成束。根據不同的使用條件和用途，已研制出多種類型的離子源。使用較廣的有弧放電離子源、PIG離子源、雙等離子體離子源和雙彭源這些源都是以氣體放電過程為基礎的,常被籠統地稱為弧源。高頻離子源則是由氣體中的高頻放電來產生離子的，也有很廣的用途。新型重離子源的出現，使...

耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩定；PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類更為***，可以鍍出的各種膜層的顏色也更多更漂亮；PVD鍍膜不會產生有毒或有污染的物質。Q5:請問PVD鍍膜能否代替化學電鍍？A5:在現階段，PVD鍍膜是不能取代化學電鍍的，并且除了在不銹鋼材料表面可直接進行PVD鍍膜外，在很多其他材料（如鋅合金、銅、鐵等）的工件上進行PVD鍍膜前，都需要先對它們進行化學電鍍Cr(鉻)。PVD鍍膜主要應用在一些比較***的五金制品上，對那些價格較低的五金制品通常也只是進行化學電鍍而不做PVD鍍膜。Q6:請問采用PVD鍍膜技術鍍出的膜層有什么特點？A6:采用PVD鍍膜技術鍍出的膜層，具有高硬度...

在大面積基板上可制取均勻薄膜，放電電流隨壓強和電壓的改變而變化；2）三極或四極濺射。可實現低氣壓，低電壓濺射，可**控制放電電流和轟擊靶的離子能量。可控制靶電流，也可進行射頻濺射；3）磁控濺射（或高速，低溫濺射）。在與靶表面平行的方向上施加磁場，利用電場與磁場正交的磁控管原理，減少電子對基板的轟擊，實現高速低溫濺射；4）對向靶濺射。兩個靶對向放置，在垂直于靶的表面方向加磁場，可以對磁性材料等進行高速低溫濺射；5）射頻濺射。為制取絕緣薄膜，如氧化硅，氧化鋁，玻璃膜等而研制，也可濺射金屬；6）反應濺射。可制作陰極物質的化合物薄膜，如氮化鈦，碳化硅，氮化鋁，氧化鋁等；7）偏壓濺射。鍍膜過程中同時**...

真空鍍膜設備是由許多精密的零部件所組成的,這些零部件均經過許多機械加工流程而制作出來,如焊接、磨、車、刨、鏜、銑等工序.正因為有了這些工作,導致設備零部件表面不可避免地會沾染一些加工帶來的油脂、油垢、金屬屑、焊劑、拋光膏、汗痕等污染物.這些污染物在真空條件下易揮發,從而對設備的極限真空造成影響.此外,這些機械加工帶來的真空污染物在大氣壓環境中吸附大量的氣體,而到了真空狀態下,這些原先吸附的氣體也會被再次釋放出來,成為限制真空系統的極限真空的一大主要因素.為此,在真空鍍膜機零件組裝之前,必須先將污染物***掉.在使用真空設備過程中,其零部件還會受污染.不過這種來源的污染主要是使用條件、真空泵兩方...

并且大墻板和小墻板之間設置有定距管，同時大墻板和小墻板上固定有放料座，所述放料座上設置有放卷，且放卷上設置有薄膜，并且薄膜通過放卷通過鋁導輥與彎輥相連接，所述彎輥上的薄膜通過第二鋁導輥與第二彎輥相連接，且第二鋁導輥和第二彎輥之間的下方設置有蒸發源，所述第二彎輥上的薄膜與水冷輥相連接，且水冷輥上的薄膜通過第三鋁導輥與張力輥相連接，并且薄膜通過張力輥與第四鋁導輥相連接，所述第四鋁導輥上的薄膜與擺架上的第五鋁導輥相連接，且第五鋁導輥上的薄膜與第三彎輥相連接，所述第三彎輥上的薄膜通過第六鋁導輥與第七鋁導輥相連接，且第七鋁導輥上的薄膜與收卷相連接，并且收卷安裝在收料座上，同時收料座安裝在大墻板和小墻板之...

真空鍍膜機主要分類主要分類有兩個大種類：蒸發沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等。一、對于蒸發鍍膜：一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。厚度均勻性主要取決于：1。基片材料與靶材的晶格匹配程度2、基片表面溫度3.蒸發功率，速率4.真空度5.鍍膜時間，厚度大小。組分均勻性：蒸發鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發鍍膜的組分均勻性不好。晶向均勻性：1。晶格匹配度2。基片溫度3。蒸發速率濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參...

目前市場上的真空鍍膜設備廠家是非常多的，所以競爭就非常激烈了，消費者在選擇真空鍍膜設備廠家的時候，是需要通過一些方面來鑒別真空鍍膜設備廠家的實力。一、經驗。真空鍍膜設備維修和很多其他的技能是一樣的，具有豐富的經驗才能應對多種狀況的出現，才能保障好結果。二、成功案例。真空鍍膜設備維修案例是直接的實力見證之一，真空鍍膜設備維修要的還是實際的操作，這不僅*包括了真空鍍膜設備本身，還包括了像真空鍍膜設備這樣的專業配置，畢竟配置是真空鍍膜設備維修的重要前提。三、售后服務。售后服務是真空鍍膜設備維修后的一個重要保障之一，完善的售后服務是真空鍍膜設備維修的一部分。四、維修配件必須要有保障。每一個公司很難在每...

在離子源推進器實驗中，人們發現有推進器材料從離子源飛出，這就開始了離子源在材料，特別是材料表面改性的應用。離子源的另一個重要應用是高能物理。具體就是離子加速器。簡單地說就是用一臺離子源產生某種材料的離子，這個離子就在磁性環路上加速，從而轟擊一個靶，產生新的物質或揭示新的物理規律。真空鍍膜中用到的離子源種類較多。主要有:高頻離子源，弧放電離子源，kaufman離子源，射頻離子源，霍爾離子源，冷陰極離子源，電子回旋離子源，陽極層離子源，感應耦合離子源可能還有很多其它類型離子源未被提到。離子源類型雖多，目的卻無非在線清洗，改善被鍍表面能量分布和調制增加反應氣體能量。離子源可以改善膜與基體的結合強度，...

產品放置２４小時后拿出，在常溫條件放置２４小時后觀察外觀并做附著力測試．測試工具：高低溫試驗箱測試結果：涂層表面無異常，附著力ＯＫ測試項目九：高溫保存測試程式；在溫度６６度，９０％ＲＨ的條件下，放置８８小時，在常溫條件恢復２４小時，觀察外觀并做附著力測試．測試結果：涂層外觀無異常，附著力ＯＫ測試項目十：冷熱沖擊測試程式：將產品放在溫度沖擊箱中，先在－２０度的低溫環境下保存２４小時，在１分鐘內將溫度切換到７０度的高溫環境并保存２４小時，接著將溫度下調到－２０度低溫，保存２４小時．***在１分鐘內將溫度切換到７０度的高溫環境保存４８小時，時間共１２０小時．將產品常溫環境放置２４小時觀察涂層外觀并做...

PVD是英文PhysicalVaporDeposition（物***相沉積）的縮寫，是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發并使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。PVD技術的發展PVD技術出現于二十世紀七十年代末，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數、很好的耐磨性和化學穩定性等優點。**初在高速鋼刀具領域的成功應用引起了世界各國制造業的高度重視，人們在開發高性能、高可靠性涂層設備的同時，也在硬質合金、陶瓷類刀具中進行了更加深入的涂層應用研究。與CVD工藝相比，PVD工藝處理溫度低，在600℃以下時對刀具材料的抗彎...

真空鍍膜有三種形式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍:蒸發鍍膜，通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面；濺射鍍膜用高能粒子轟擊固體表面時能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面，沉積在基片上；離子鍍蒸發物質的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面。這三種形式的真空鍍膜技術都需要一種快速冷卻裝置來輔助真空鍍膜工程。真空設備由于在鍍膜過程中工件處于密閉的真空環境中，但產品工藝及性能卻喪失了很多，現有的真空鍍膜設備，也有冷卻裝置，但其冷卻效果不是很理想。不能滿足人們的需要，為彌補現有技術不足，提供真空鍍膜設備手套箱蒸鍍一體機，本系統由真空鍍膜系統和手套箱系統集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍，并在...

適合硬質合金刀具、車刀片；適合不銹鋼鉆、銑、沖加工。DLC中文名：類金剛石。顏色：黑色；硬度：2000HV；摩擦系數：；高工作溫度：800℃；優點：無氫碳膜，有很強的抗粘結性和低摩擦性，適合光盤模具和其他精密模具。[2-3]Crotac中文名：鈦鉻_納米晶體；顏色：銀灰色；硬度：2100HV；摩擦系數：；高工作溫度：700℃；優點：可低溫涂層，韌性好，適合低溫零件；適合沖壓厚度>。ALuka中文名：鉻鋁_納米晶體；顏色：灰黑色；硬度：3300HV；摩擦系數：；高工作溫度：1100℃；優點：高熱穩定性；磨擦力低，不沾黏；適合冷熱段造、鑄造高熱穩定性；適合長久在高溫環境下使用的汽車零件。CrSiN...

在生活中我們經常會用到各類玻璃制品，例如玻璃窗、玻璃杯、玻璃移門等。玻璃制品兼顧美觀與實用，既能夠憑借晶瑩剔透的外表惹人喜愛，又能夠充分利用其堅硬耐用的物理性能。一些藝術玻璃甚至會使玻璃具有更多的圖樣，增強裝飾效果。本篇文章中我們將介紹什么是真空鍍膜，并說明有哪幾款節能鍍膜玻璃。一、什么是真空鍍膜在真空中制備膜層,包括鍍制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜.雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段,但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜.真空鍍膜有三種形式,即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍.真空鍍膜技術初現于20世紀30年代,四五十年代開始出現工業應用,工業化大規模生產開始于2...

磁控濺射卷繞鍍膜機磁控濺射的構成例（W35系列）對樹脂基膜等基材以卷到卷方式采用磁控濺射方法形成透明導電膜（ITO，ZnO等）?光學膜（SiO2,SiOx,NbOx等）鍍膜的磁控濺射卷繞鍍膜機。磁控濺射法，采用各種陰極（DC,UBM,DMS，旋轉磁石），進行觸摸屏?FPD?太陽能電池?窗膜等所必須的透明導電膜（TCO）?光學膜?氧化膜?金屬膜的鍍膜。聚集了從面向R&D?實驗性生產的小型裝置到面向寬幅?大型卷繞鍍膜機，對應柔性電子?能源領域的研究開發直到量產的需求。特征1.可搭載各種陰極1）UBMS（非平衡磁控濺射）根據非平衡磁場增大基材附近的等離子密度。膜表面的能量輔助效果使得薄膜特性提高。B...

本文從系統結構、參數控制和鍍膜方式等綜述了真空卷繞鍍膜技術研究進展。按結構可分為單室、雙室和多室真空卷繞系統，后兩者可解決開卷放氣問題并分別控制卷繞和鍍膜室各自真空度。卷繞張力控制分錐度、間接和直接控制模型，錐度控制模型可解決薄膜褶皺和徑向力分布不均的問題；間接張力控制無需傳感器，可用內置張力控制模塊的矢量變頻器代替；直接張力控制通過張力傳感器精確測量張力值，但需慣性矩和角速度等多種參數。真空卷繞鍍膜主要有真空蒸發、磁控濺射等方式，可用于制備新型高折射率薄膜、石墨烯等納米材料和柔性太陽能電池等半導體器件。針對真空卷繞鍍膜技術研究現狀及向產業化過渡存在的問題，作了簡要分析與展望。真空卷繞鍍膜(卷...

離子源（英文名稱：Ionsource）是使中性原子或分子電離，并從中引出離子束流的裝置。它是各種類型的離子加速器、質譜儀、電磁同位素分離器、離子注入機、離子束刻蝕裝置、離子推進器以及受控聚變裝置中的中性束注入器等設備的不可缺少的部件。氣體放電、電子束對氣體原子(或分子)的碰撞，帶電粒子束使工作物質濺射以及表面電離過程都能產生離子，并被引出成束。根據不同的使用條件和用途，已研制出多種類型的離子源。使用較廣的有弧放電離子源、PIG離子源、雙等離子體離子源和雙彭源這些源都是以氣體放電過程為基礎的,常被籠統地稱為弧源。高頻離子源則是由氣體中的高頻放電來產生離子的，也有很廣的用途。新型重離子源的出現，使...

本實用新型涉及鍍膜機技術領域，具體涉及應用于卷繞鍍膜機的在線測量裝置。背景技術：目前，對于卷繞鍍膜機上不同厚度的膜材及鍍層上的電阻值需要通過人工測量，無法實現在線即時測量，這種傳統的測量方式費時費力，效率較低。技術實現要素：鑒于背景技術的不足，本實用新型是提供了應用于卷繞鍍膜機的在線測量裝置，解決的問題是現有技術中，采用人工測量的方式測量卷繞鍍膜機上的膜材及鍍層上的電阻值，測量方式費時費力，測量效率低。為解決以上技術問題，本實用新型提供了如下技術方案：應用于卷繞鍍膜機的在線測量裝置，包括真空室，在所述真空室的內部固定設置固定座，固定座可以貼合固定在真空室的內壁上，也可以間接固定在真空室內，在所...

離子源（英文名稱：Ionsource）是使中性原子或分子電離，并從中引出離子束流的裝置。它是各種類型的離子加速器、質譜儀、電磁同位素分離器、離子注入機、離子束刻蝕裝置、離子推進器以及受控聚變裝置中的中性束注入器等設備的不可缺少的部件。氣體放電、電子束對氣體原子(或分子)的碰撞，帶電粒子束使工作物質濺射以及表面電離過程都能產生離子，并被引出成束。根據不同的使用條件和用途，已研制出多種類型的離子源。使用較廣的有弧放電離子源、PIG離子源、雙等離子體離子源和雙彭源這些源都是以氣體放電過程為基礎的,常被籠統地稱為弧源。高頻離子源則是由氣體中的高頻放電來產生離子的，也有很廣的用途。新型重離子源的出現，使...